탄소나노튜브를 포함하는 전자소자의 제조방법
    2.
    发明公开
    탄소나노튜브를 포함하는 전자소자의 제조방법 有权
    制备包含碳纳米管的电子器件的方法

    公开(公告)号:KR1020120096775A

    公开(公告)日:2012-08-31

    申请号:KR1020110016077

    申请日:2011-02-23

    Inventor: 하정숙 윤장열

    CPC classification number: Y02E10/50 H01L21/04 H01L21/18 H01L31/04 H01L33/00

    Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of an electronic device including a carbon nanotube is provided to improve a rectifying ratio by uniformly forming nicotinamide or a compound including the nicotinamide on the carbon nanotube. CONSTITUTION: A solution including nicotinamide or a compound including the nicotinamide is spin-coated on a carbon nanotube. First spin coating is performed for 10-15 minutes at 400-600rpm. A second spin coating is performed for 20-30 minutes at 1800-2200rpm. A carbon nanotube is firstly heated at 60-70°C for 24 hours to 36 hours after the first spin coating. The carbon nanotube is secondarily heated for 24 hours to 36 hours at 60-70°C after the second spin coating.

    Abstract translation: 目的:提供一种包括碳纳米管的电子器件的制造方法,通过在碳纳米管上均匀形成烟酰胺或包含烟酰胺的化合物来提高整流比。 构成:将包含烟酰胺或包含烟酰胺的化合物的溶液旋涂在碳纳米管上。 首先以400-600rpm进行旋涂10-15分钟。 第二次旋涂在1800-2200rpm下进行20-30分钟。 首先将碳纳米管在60-70℃下加热24小时至36小时。 在第二次旋涂后,碳纳米管在60-70℃下二次加热24小时至36小时。

    스트레쳐블 전도성 스티커 및 이의 제조방법
    4.
    发明授权
    스트레쳐블 전도성 스티커 및 이의 제조방법 有权
    可伸缩的导电胶及其制造方法

    公开(公告)号:KR101499058B1

    公开(公告)日:2015-03-06

    申请号:KR1020130127080

    申请日:2013-10-24

    Abstract: 본 발명은 금속 나노선을 연결선으로 사용하는 스트레쳐블 전도성 스티커 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 외부 스트레인에도 전도성을 안정적으로 유지하여 소자간의 연결을 시킬수 있으며, 외부 충격에도 안전한 것이 특징이다.

    Abstract translation: 本发明涉及使用金属牛磺酸作为连接线的伸缩性导电贴纸及其制造方法。 根据本发明的可拉伸导电贴纸通过尽可能外部应变地稳定地保持导电性而连接装置,并获得抵抗外部冲击的安全性。 本发明的目的是通过使用可拉伸导电贴纸来连接可拉伸的装置。

    폴리에틸렌이민의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자
    5.
    发明公开
    폴리에틸렌이민의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자 有权
    聚乙烯亚胺选择性方法和使用该方法制备的半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR1020110093428A

    公开(公告)日:2011-08-18

    申请号:KR1020100013472

    申请日:2010-02-12

    CPC classification number: G03F7/3014 B82Y40/00 G03F7/168 G03F7/42 G03F7/427

    Abstract: PURPOSE: A method for selectively patterning polyethyleneimine and a semiconductor device which is manufactured by the same are provided to use existing photo processing equipment, thereby reducing processing costs and processing time. CONSTITUTION: A photoresist resin film pattern is formed on a substrate(1). A polyethyleneimine solution is applied on the substrate. The applied polyethyleneimine solution is dried. A photosensitive resin film is eliminated by a solvent and an ultrasound wave.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于选择性地图案化聚乙烯亚胺的方法和由其制造的半导体器件,以使用现有的照相处理设备,从而降低处理成本和处理时间。 构成:在基板(1)上形成光致抗蚀剂树脂膜图案。 将聚乙烯亚胺溶液施加在基材上。 将所施加的聚乙烯亚胺溶液干燥。 通过溶剂和超声波消除感光性树脂膜。

    폴리에틸렌이민의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자
    7.
    发明授权
    폴리에틸렌이민의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자 有权
    聚乙烯亚胺的选择性图案化方法和使用其制造的半导体器件

    公开(公告)号:KR101170806B1

    公开(公告)日:2012-08-02

    申请号:KR1020100013472

    申请日:2010-02-12

    Abstract: 본 발명은 폴리에틸렌이민의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 포토리소그래피(photo-lithography) 방법을 이용하여 유기 고분자 박막인 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine) 박막을 선택적으로 패터닝하는 방법 및 이를 통해 폴리에틸렌이민이 패터닝된 반도체 소자에 관한 것이다.
    본 발명은 기존의 포토공정 장비를 그대로 활용하여 폴리에틸렌이민을 선택적으로 패터닝 할 수 있어 공정비용 및 소요시간의 측면에서 매우 효율적이다. 또한, 얼라인(align)이 가능하면서도 매우 정밀한 고분자의 패턴이 가능하여, 일 실시예로 탄소나노튜브의 전계특성을 변환시켜 반도체 소자를 제조할 수 있는 등 매우 큰 장점 및 효과를 갖는다. 본 발명에 따르면 각종 로직 회로 및 PM(passive matrix)을 이용한 다양한 소자(터치 스크린, PMOLED, etc) 등을 제작할 수 있다.

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