Abstract:
본 발명의 유기전계발광소자(Organic Light Emitting Device; OLED) 및 그 제조방법은 보색관계에 있는 단파장을 위한 근자외선(near ultraviolet ray) 발광층과 노란색 발광층을 백색광을 위한 발광 구조로 적용함으로써 단순한 공정으로 색 순도가 우수한 백색 유기발광소자를 제작하기 위한 것으로, 제 1 기판 위에 형성된 양극; 상기 양극 위에 형성된 정공수송층; 상기 정공수송층 위에 형성된 엑시플렉스 조절층; 상기 엑시플렉스 조절층 위에 형성되며, 보색관계에 있는 노란색 발광층과 근자외선 발광층으로 이루어진 발광층; 상기 발광층 위에 형성된 전자수송층; 상기 전자수송층 위에 형성된 전자주입층; 및 상기 전자주입층 위에 형성된 음극을 포함하며, 상기 엑시플렉스 조절층은 1.0nm ~ 3.0nm의 범위 내에서 선택적으로 두께를 조절하여 상기 정공수송층과 노란색 발광층의 계면에서 형성되는 엑시플렉스 발광의 양을 조절하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성된 본 발명의 유기전계발광소자는 정공수송층과 발광층 사이에 엑시플렉스(exciplex) 조절층을 삽입하여 엑시플렉스 발광과 엑시톤(exciton) 발광의 생성 비율을 조절함으로써 컬러 튜닝(tuning)이 가능하며, 풀 컬러(full color)를 구현할 수 있는 한편 가시광영역의 태양광과 유사한 백색광을 구현할 수 있는 것을 특징으로 한다. 근자외선 발광층, 노란색 발광층, 엑시플렉스 조절층, 컬러 튜닝
Abstract:
본 발명은 수직형 유기 발광 트랜지스터 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 수직형 유기 발광 트랜지스터는 기판, 상기 기판의 상부에 위치하는 게이트 전극층, 상기 게이트 전극의 상부에 위치하는 제1 절연층, 상기 절연층의 상부에 위치하며 사이 간격이 나노 단위인 복수의 홀이 형성되어 있는 소스 전극층, 상기 복수의 홀을 제외한 상기 소스 전극층의 상부에 위치하는 제2 절연층, 상기 복수의 홀의 내부에 충진되면서 상기 제2 절연층을 덮도록 형성되는 유기 반도체층을 포함할 수 있다.
Abstract:
An organic electro luminescent device and a manufacturing method thereof are provided to perform a color tuning by interposing an exciplex control layer between a hole transport layer and a light emitting layer. A first substrate(210) and a second substrate are arranged to face each other. An array device is formed in the first substrate. An array device includes a thin film transistor. An anode(211) is formed on the first substrate. A hole-transport layer is formed on the anode. An exciplex control layer(250) is formed on the hole transport layer. The thickness of the exciplex control layer is 0.5 to 5.0 nm. A light emitting layer(213) is formed on the exciplex control layer. An electron transport layer(214) is formed on the light emitting layer. An electron injection layer(215) is formed on the electron transport layer. A cathode(216) is formed on the electron injection layer.
Abstract:
본 발명은 유기전자소자 보호층의 투습율 및 투산소율 측정 장치 및 상기 장치를 이용한 측정 방법에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는, 유리 기판; 상기 유리 기판 상에 대향 적층된 한 쌍의 전극층; 상기 유리 기판 상에 적층된 칼슘층; 상기 칼슘층 상에 적층된 투습 및 투산소성 기판; 상기 투습 및 투산소성 기판 상에 적층되는 측정 대상 유기전자소자 보호층; 및 상기 측정 대상 유기전자소자 보호층의 외곽을 따라서 도포된 실링재를 포함하며, 상기 전극층의 일 말단은 상기 칼슘층에 매립되고, 다른 말단은 외부 저항측정장치에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 유기전자소자 보호층의 투습율 및 투산소율 측정 장치 및 상기 장치를 이용한 측정 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 보호층이 투습 또는 투산소됨에 따라 측정장치의 전기적 특성이 변화하는 원리를 이용함으로써 보호층의 반사도 또는 투과도에 영향을 받지 않고, 각종 유기전자소자 보호층 공정에의 응용성을 높였으며, 종래기술과는 상이하게 장치 내부의 칼슘층에 대한 결함 평균화 작업을 수행할 필요가 없고, 신뢰성이 매우 높은 유기전자소자 보호층의 투습율 및 투산소율 측정 장치 및 상기 장치를 이용한 측정 방법을 제공할 수 있다. 유기전자소자, 보호층, 투습율, 투산소율
Abstract:
PURPOSE: A gas barrier layer for a flexible substrate is provided to form a gas protection layer for a flexible substrate in short time by using a simple process. CONSTITUTION: A gas barrier layer for a flexible substrate comprises a step of surface treating a substrate to form an anion on a substrate surface(10); a step of impregnating the substrate with a cation polymer solution; a step of taking out the substrate from the cation polymer solution and drying the same; a step of impregnating the substrate with an anion polymer solution with nanoclay(40); and a step of taking out the substrate from the anion polymer solution and drying the same. [Reference numerals] (10) Flexible substrate
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting device and a manufacturing method thereof are provided to reduce total reflection by forming a random pattern on an intermediate layer formed between a substrate and a first electrode layer. CONSTITUTION: A first electrode layer(220) touches a substrate. The first electrode layer is formed on the substrate having a random pattern. An organic layer(230) for generating light is formed on the first electrode layer. A second electrode layer(240) having the random pattern is formed on the organic layer. [Reference numerals] (AA,BB,CC,DD) Light
Abstract:
A measuring device of a permeation rate of water and oxygen of a protection layer in an organic electronic device and a measuring method using the same are provided to improve the reliability of measurement without defect averaging of a calcium layer. A pair of electrode layers(150) are stacked on a glass substrate(160) to face each other. A calcium layer(110) is stacked on the glass substrate. A water and oxygen permeable substrate(130) is stacked on the calcium layer. A protection layer(140) is stacked on the water and oxygen permeable substrate. A sealant(120) is coated along an outer edge of the protection layer. One end of the electrode layer is buried in the calcium layer, and the other end thereof is electrically connected to an external resistance measuring device.
Abstract:
PURPOSE: An apparatus for measuring the gas permeation of a flexible electronic protection layer and a method for measuring the gas permeation by using the same are provided to quickly measure gas permeation by enabling gas to permeate through a top protection layer and a bottom protection layer. CONSTITUTION: A bottom substrate(114) is formed on a bottom protection layer(112). A pair of electrodes(120) are electrically connected to an external resistance measuring device. A calcium layer(140) is formed on the bottom substrate to be electrically connected to the pair of electrodes. A top substrate(154) is formed on the calcium layer and the pair of the electrodes. A top protection layer(152) is formed on the top substrate and is made of the same materials as the bottom protection layer. An insulator(130) is formed around the calcium layer between the bottom substrate and the top substrate. [Reference numerals] (200) Resistance measuring device
Abstract:
PURPOSE: A flexible gas barrier film, a method for manufacturing the same, a flexible display device using the same are provided to reduce water permeation rate by controlling energy on the surface of the barrier film. CONSTITUTION: A hydrophobic pattern layer(2) is repetitively formed on a transparent base film. A pattern includes an embossed pattern. The width of the pattern is less than 10um. A gap of the centers of the patterns is 0.1 to 10 times of the width of the pattern. The thickness of the hydrophobic pattern layer is between 100 and 3000nm. The height of the pattern is between 50 and 2500nm.