公开(公告)号：KR101455063B1

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：KR1020120099270

申请日：2012-09-07

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

Abstract: 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 광결정 구조를 형성하는 단계와, (b) 광결정 구조 위에 제1 유전체층을 형성하는 단계; (c) 제1 유전체층 위에 금속막을 형성하는 단계와, (d) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (e) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (f) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (g) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 제1 유전체층에 포함된 유전물질과 동일한 유전물질을 포함하는 제2 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다. 광결정 구조의 차단 파장 대역과 나노 홀 어레이의 투과 파장 대역은 서로 다르다.

公开(公告)号：KR101499122B1

公开(公告)日：2015-03-06

申请号：KR1020140034188

申请日：2014-03-24

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 주병권 ,  황보연 ,  하현준

IPC: H01L51/56 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2006 ,  H01L21/0274 ,  H01L51/56

Abstract: 본 발명에 따른 나노화소 유기발광다이오드 어레이의 제조 방법은, (a) 기판 위에 애노드를 형성하는 단계; (b) 상기 애노드 위에 화소형성층(pixel defining layer: PDL)을 형성하는 단계; (c) 상기 화소형성층 위에 감광층을 형성하는 단계; (d) 상기 감광층에 레이저 간섭 리소그래피를 이용하여 주기적인 구조의 나노홀 어레이를 가지는 감광층 패턴을 형성하는 단계; (e) 상기 감광층 패턴을 통해 상기 화소형성층을 식각하여 나노홀 어레이 패턴을 가지는 나노화소형성층을 형성하는 단계; (f) 상기 감광층 패턴을 상기 나노화소형성층으로부터 제거하는 단계; (g) 상기 나노화소형성층에 유기물질층을 형성하는 단계; 및 (h) 상기 유기물질층 위에 캐소드를 형성하는 단계를 포함한다. 이에 따라, 나노 화소 유기발광다이오드의 제조 공정을 고속화 및 간편화할 수 있다.

Abstract translation: 根据本发明的纳米像素有机发光二极管阵列的制造方法包括以下步骤：（a）在衬底上形成阳极; （b）在阳极上形成像素限定层（PDL）; （c）在所述像素限定层上形成感光层; （d）使用激光干涉光刻在感光层上形成具有周期结构的纳米孔阵列的感光层图案; （e）通过通过光敏层图案蚀刻像素限定层来形成具有纳米孔阵列图案的纳米像素限定层; （f）从纳米像素限定层去除感光层图案; （g）在纳米颗粒限定层上形成有机材料层; 和（h）在有机材料层上形成阴极。 因此，可以简化并快速执行纳米像素有机发光二极管的制造过程。

公开(公告)号：KR1020140033596A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：KR1020120099270

申请日：2012-09-07

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/201 ,  B29D11/00634 ,  B82Y40/00 ,  G02B1/005 ,  G02B5/207 ,  H01L21/0275

Abstract: A manufacturing method of a surface plasmonic color filter includes: a step (a) of forming a photonic crystal structure on a substrate; a step (b) of forming a first dielectric layer on the photonic crystal structure; a step (c) of forming a metal film on the first dielectric layer; a step (d) of forming a photosensitive layer on the metal film; a step (e) of forming a nano-hole array having periodicity on the photosensitive layer by irradiating laser interference patterns on the photosensitive layer; a step (f) of forming a nano-hole array on the metal film by etching the metal film using the nano-hole array of the photosensitive layer; and a step (g) of removing the photosensitive layer having the nano-hole array from the metal film on which the nano-hole array is formed and forming a second dielectric layer including the same dielectric substance as the dielectric substance included in the first dielectric layer on the metal film on which the nano-hole array is formed. The cutoff wavelength band of the photonic crystal structure is different from the pass wavelength band of the nano-hole array.

Abstract translation: 表面等离子体激元彩色滤光片的制造方法包括：在基板上形成光子晶体结构的工序（a） 在所述光子晶体结构上形成第一介电层的步骤（b）; 在所述第一电介质层上形成金属膜的步骤（c）; 在所述金属膜上形成感光层的步骤（d）; 通过在感光层上照射激光干涉图案来形成具有周期性的纳米孔阵列的步骤（e）; 通过使用感光层的纳米孔阵列蚀刻金属膜，在金属膜上形成纳米孔阵列的步骤（f）; 以及从形成有纳米孔阵列的金属膜除去具有纳米孔阵列的感光层的步骤（g），形成包含与包含在第一电介质中的电介质物质相同的电介质的第二介电层 在其上形成纳米孔阵列的金属膜上。 光子晶体结构的截止波长带与纳米孔阵列的通过波长带不同。

公开(公告)号：KR101550008B1

公开(公告)日：2015-09-07

申请号：KR1020140059166

申请日：2014-05-16

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

Abstract: 표면플라즈모닉컬러필터의제조방법은, (a) 기판위에금속막을형성하는단계와, (b) 금속막위에감광층을형성하는단계와, (c) 감광층에레이저간섭무늬를조사하여감광층에주기성을가지는나노홀 어레이(nano hole array)를형성하는단계와, (d) 감광층의나노홀 어레이를이용하여금속막을식각(etching)하여금속막에나노홀 어레이를형성하는단계와, (e) 나노홀 어레이를가지는감광층을나노홀 어레이가형성된금속막으로부터제거하고나노홀 어레이가형성된금속막위에유전체층을형성하는단계를포함한다.

公开(公告)号：KR1020130095909A

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：KR1020120017308

申请日：2012-02-21

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 주병권 ,  최진환 ,  송은호 ,  박영욱 ,  동기영 ,  황보연 ,  박태현 ,  신세중 ,  이현준 ,  김학구 ,  박정호

IPC: H01L51/05 ,  H01L51/40 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L51/5296 ,  H01L51/56

Abstract: PURPOSE: A vertical organic light emitting transistor and a manufacturing method thereof are provided to increase the rate of an effective light emitting region by forming a plurality of holes having a gap of a nano unit on a source electrode layer. CONSTITUTION: A gate electrode layer (20) is placed on the upper part of a substrate. A first insulating layer (30) is placed on the upper part of the gate electrode. A source electrode layer (40) is placed on the insulating layer and includes a plurality of holes having a gap of a nano unit. A second insulating layer (50) is placed on the upper part of the source electrode layer except for the multiple holes. An organic light emitting layer (60) covers the second insulating layer by filling the plurality of holes.

Abstract translation: 目的：提供一种垂直有机发光晶体管及其制造方法，以通过在源电极层上形成具有纳米单元间隙的多个孔来提高有效发光区域的速率。 构成：将栅电极层（20）放置在基板的上部。 第一绝缘层（30）放置在栅电极的上部。 源电极层（40）被放置在绝缘层上，并且包括具有纳米单元间隙的多个孔。 除了多个孔之外，第二绝缘层（50）被放置在源电极层的上部。 有机发光层（60）通过填充多个孔来覆盖第二绝缘层。

公开(公告)号：KR1020140086934A

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：KR1020140059166

申请日：2014-05-16

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/201 ,  G02B5/008 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/133621 ,  G03F7/0007

Abstract: A manufacturing method of a surface plasmonic color filter includes the steps of: (a) forming a metal film on a substrate; (b) forming a photosensitive layer on the metal layer; (c) forming a periodical nono hole array on the photosensitive layer by emitting a laser interference pattern on the photosensitive layer; (d) etching the metal film by using the nano hole array on the photosensitive layer to form another nano hole array on the metal film; and (e) removing the photosensitive layer with the nano hole array from the metal film with the nano hole array and forming a dielectric layer on the metal layer with the nano hole array.

Abstract translation: 表面等离子体激元彩色滤光器的制造方法包括以下步骤：（a）在基板上形成金属膜; （b）在金属层上形成感光层; （c）通过在感光层上发射激光干涉图案在感光层上形成周期性非孔阵列; （d）通过在感光层上使用纳米孔阵列来蚀刻金属膜，以在金属膜上形成另一纳米孔阵列; 和（e）用具有纳米孔阵列的具有纳米孔阵列的金属膜去除感光层，并在纳米孔阵列的金属层上形成电介质层。

公开(公告)号：KR101339385B1

公开(公告)日：2013-12-09

申请号：KR1020120017308

申请日：2012-02-21

Applicant: 고려대학교 산학협력단

Inventor： 주병권 ,  최진환 ,  송은호 ,  박영욱 ,  동기영 ,  황보연 ,  박태현 ,  신세중 ,  이현준 ,  김학구 ,  박정호

IPC: H01L51/05 ,  H01L51/40 ,  H01L29/786

Abstract: 본 발명은 수직형 유기 발광 트랜지스터 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 수직형 유기 발광 트랜지스터는 기판, 상기 기판의 상부에 위치하는 게이트 전극층, 상기 게이트 전극의 상부에 위치하는 제1 절연층, 상기 절연층의 상부에 위치하며 사이 간격이 나노 단위인 복수의 홀이 형성되어 있는 소스 전극층, 상기 복수의 홀을 제외한 상기 소스 전극층의 상부에 위치하는 제2 절연층, 상기 복수의 홀의 내부에 충진되면서 상기 제2 절연층을 덮도록 형성되는 유기 반도체층을 포함할 수 있다.

公开(公告)号：KR101608717B1

公开(公告)日：2016-04-05

申请号：KR1020150050165

申请日：2015-04-09

Applicant: 고려대학교 산학협력단 ,  한국전자통신연구원

Inventor： 주병권 ,  하현준 ,  황보연 ,  이종희 ,  주철웅 ,  이정익

IPC: H01L51/56

Abstract: 본발명은마이크로패턴및 나노패턴의동시에형성하는유기발광다이오드의제조방법에관한것이다. 본발명은 (a) 기판위에애노드를형성하는단계 (b) 상기애노드위에화소형성층으로사용될감광층을형성하는단계 (c) 상기감광층에마이크로패턴을노광하는단계 (d) 상기감광층에나노패턴을노광하는단계 (e) 상기감광층을식각하여마이크로패턴및 나노패턴을함께가지는화소형성층을형성하는단계 (f) 상기패턴내에유기물질층을형성하는단계및 (g) 상기유기물질층위에캐소드를형성하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명에의하면, UV 리소그래피공정을통하여여러가지모양과배열을가지는픽셀구조를제작할수 있으며, 동시에마이크로패턴안에레이저간섭리소그래피공정으로나노스케일의라인또는홀 패턴을주기적으로형성할수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及通过同时形成微图案和纳米图案来制造有机发光二极管的方法。 本发明包括以下步骤：（a）在衬底上形成阳极，（b）在阳极上形成用作像素形成层的光敏层; （c）通过曝光在感光层上形成微图案; （d）通过曝光在感光层上形成纳米图案; （e）通过蚀刻感光层来形成具有微图案和纳米图案两者的像素形成层; （f）在图案内形成有机材料层; 和（g）在有机材料层上形成阴极。 根据本发明，可以使用UV光刻工艺制造具有各种形状和布置的像素结构，并且可以使用激光干涉光刻工艺在微图案内周期性地形成纳米尺度线或孔图案。

公开(公告)号：KR101445844B1

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：KR1020120099268

申请日：2012-09-07

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

Abstract: 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 금속막을 형성하는 단계와, (b) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (c) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (d) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (e) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020140033595A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：KR1020120099268

申请日：2012-09-07

Applicant: 한국과학기술원 ,  고려대학교 산학협력단

Inventor： 최경철 ,  도윤선 ,  주병권 ,  박정호 ,  황보연

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/201 ,  B29D11/00634 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/207 ,  H01L21/0275

Abstract: A method of manufacturing a surface plasmonic color filter using laser interference lithography comprises the steps of: (a) forming a metal film on a substrate; (b) forming a photosensitive layer on the metal film; (c) forming a nanohole array having periodicity on the photosensitive layer by irradiating the photosensitive layer with a laser interference patterns; (d) forming the nanohole array on the metal film by etching the metal film using the nanohole array of the photosensitive layer; and (e) removing the photosensitive layer having the nanohole array from the metal film having the nanohole array, and forming a dielectric layer on the metal film having the nanohole array.

Abstract translation: 使用激光干涉光刻制造表面等离子体激元彩色滤光片的方法包括以下步骤：（a）在基片上形成金属膜; （b）在金属膜上形成感光层; （c）通过用激光干涉图案照射感光层，形成在感光层上具有周期性的纳米孔阵列; （d）通过使用感光层的纳米孔阵列蚀刻金属膜，在金属膜上形成纳米孔阵列; 和（e）从具有纳米孔阵列的金属膜去除具有纳米孔阵列的感光层，并在具有纳孔孔阵列的金属膜上形成电介质层。