Abstract:
A manufacturing method of a surface plasmonic color filter includes the steps of: (a) forming a metal film on a substrate; (b) forming a photosensitive layer on the metal layer; (c) forming a periodical nono hole array on the photosensitive layer by emitting a laser interference pattern on the photosensitive layer; (d) etching the metal film by using the nano hole array on the photosensitive layer to form another nano hole array on the metal film; and (e) removing the photosensitive layer with the nano hole array from the metal film with the nano hole array and forming a dielectric layer on the metal layer with the nano hole array.
Abstract:
표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 금속막을 형성하는 단계와, (b) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (c) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (d) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (e) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다.
Abstract:
A method of manufacturing a surface plasmonic color filter using laser interference lithography comprises the steps of: (a) forming a metal film on a substrate; (b) forming a photosensitive layer on the metal film; (c) forming a nanohole array having periodicity on the photosensitive layer by irradiating the photosensitive layer with a laser interference patterns; (d) forming the nanohole array on the metal film by etching the metal film using the nanohole array of the photosensitive layer; and (e) removing the photosensitive layer having the nanohole array from the metal film having the nanohole array, and forming a dielectric layer on the metal film having the nanohole array.
Abstract:
표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법은, (a) 기판 위에 광결정 구조를 형성하는 단계와, (b) 광결정 구조 위에 제1 유전체층을 형성하는 단계; (c) 제1 유전체층 위에 금속막을 형성하는 단계와, (d) 금속막 위에 감광층을 형성하는 단계와, (e) 감광층에 레이저 간섭무늬를 조사하여 감광층에 주기성을 가지는 나노 홀 어레이(nano hole array)를 형성하는 단계와, (f) 감광층의 나노 홀 어레이를 이용하여 금속막을 식각(etching)하여 금속막에 나노 홀 어레이를 형성하는 단계와, (g) 나노 홀 어레이를 가지는 감광층을 나노 홀 어레이가 형성된 금속막으로부터 제거하고 나노 홀 어레이가 형성된 금속막 위에 제1 유전체층에 포함된 유전물질과 동일한 유전물질을 포함하는 제2 유전체층을 형성하는 단계를 포함한다. 광결정 구조의 차단 파장 대역과 나노 홀 어레이의 투과 파장 대역은 서로 다르다.
Abstract:
A manufacturing method of a surface plasmonic color filter includes: a step (a) of forming a photonic crystal structure on a substrate; a step (b) of forming a first dielectric layer on the photonic crystal structure; a step (c) of forming a metal film on the first dielectric layer; a step (d) of forming a photosensitive layer on the metal film; a step (e) of forming a nano-hole array having periodicity on the photosensitive layer by irradiating laser interference patterns on the photosensitive layer; a step (f) of forming a nano-hole array on the metal film by etching the metal film using the nano-hole array of the photosensitive layer; and a step (g) of removing the photosensitive layer having the nano-hole array from the metal film on which the nano-hole array is formed and forming a second dielectric layer including the same dielectric substance as the dielectric substance included in the first dielectric layer on the metal film on which the nano-hole array is formed. The cutoff wavelength band of the photonic crystal structure is different from the pass wavelength band of the nano-hole array.
Abstract:
본 발명에 따른 상지 재활을 위한 중력이 보상되는 어깨관절 추종 장치는 수직하게 기립된 수직축, 수직축의 하부 말단에 형성되어, 휠체어에 장착되는 장착부, 수직축에 형성되어 중력을 보상하는 중력 보상부, 및 중력 보상부의 지지를 받아 일단이 수직축에 상하 직선운동 가능하게 결합되고, 타단에 각종 상지 재활 장치가 장착되는 재활장치 장착부를 포함하여, 뇌졸중, 척추손상, 근육병 환자를 비롯하여 어깨 근육이 약화된 환자들의 어깨 관절 아탈구(Subluxation)로 인한 통증을 줄이고 팔의 움직임을 보조하여 재활 운동의 효과를 높이고 및 일상생활의 만족도를 높이는 효과가 있다. (대표도) 도 2
Abstract:
과산화수소 측정 센서 및 과산화수소 측정 센서의 작업 전극 제조 방법이 제공된다. 상기 과산화수소 측정 센서는, 기준 전극, 상대 전극 및 산화구리 나노플라워 전극을 포함하는 작업 전극을 포함하되, 산화구리 나노플라워 전극은, 산화구리 전극과 산화구리 전극의 일면에 형성된 폴리이미드 테이프(polyimide tape) 층을 포함한다.
Abstract:
The present invention relates to a manufacturing method for a PDMS microchannel for an immunosensor, which uses a mixed mold of glass bead-SU8 instead of the existing SU8 mold. The manufacturing method for a microchannel is implemented by the same process as the existing SU8 mold manufacturing process except the use of a glass bead-SU8 mixture instead of SU8 and plasma processing on a wafer, and does not add any complex process for transforming the inner surface of a microchannel. In addition, the manufacturing method for an immunosensor can have a large surface area in order to efficiently fixate an antibody, and can obtain a PDMS microchannel having a surface with high hydrophobicity. The microchannel can be utilized as an immunosensor by effectively fixating protein particles therein.