Abstract:
본 발명은 광추출부가 형성된 단일 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다. 단일 광학 시트의 광추출부들은 광의 전반사 특성만을 이용하여 도광판 내부의 광을 추출하고 백라이트 유닛의 상부 쪽으로 수직하게 방출시킨다. 이는 빛 방출 경로상의 계면 수를 최소화함으로써 광 손실을 줄여 광 이용 효율을 극대화할 수 있다. 또한, 본 발명은 광추출부가 형성된 선형 광원을 포함하는 모바일용 백라이트 유닛도 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a thin film transistor is provided to inexpensively improve the electrical property of a thin film transistor by executing an ultraviolet irradiation process instead of a thermal processing process in an oxide semiconductor active layer. CONSTITUTION: A gate electrode(110) is formed on a substrate(100). A gate insulating layer(120) is formed on the substrate. A semiconductor active layer(130) is formed on the gate insulating layer. An ultraviolet ray is irradiated onto the semiconductor active layer. A source/drain electrode is formed on the semiconductor active layer.
Abstract:
본 발명은 자기조립단분자층을 이용한 박막트랜지스터의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판, 게이트 전극, 게이트 절연막, 산화물 반도체 활성층 및 소스/드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터의 제조 방법에 있어서, 상기 산화물 반도체 활성층 상에 자외선을 조사한 후 소스/드레인 전극의 패턴에 대응하는 개구 패턴을 포함하는 소수성 자기조립단분자층을 형성하고, 상기 소수성 자기조립단분자층을 마스크로서 이용하여 상기 개구 패턴을 통하여 상기 산화물 반도체 활성층 상에 소스/드레인 전극을 형성하는 것을 포함하는, 박막트랜지스터의 제조 방법에 관한 것이다. 자기조립단분자층, 산화물 반도체 활성층, 자외선, 박막트랜지스터
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a thin film transistor is provided to easily manufacture a thin film transistor with low costs by forming a source/drain electrode by using a self-assembled monolayer without an additional mask process. CONSTITUTION: A gate is formed on a substrate(100). A gate insulating layer(110), which covers the gate, is formed in the top of the substrate. An oxide semiconductor active layer(120) is formed on the gate insulating layer. A hydrophobicity self-assembled monolayer(210) is formed on the oxide semiconductor active layer by irradiating a ultraviolet ray to the oxide semiconductor active layer. A source/drain electrode is formed on the oxide semiconductor active layer.