公开(公告)号：KR1019940012520A

公开(公告)日：1994-06-23

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하고, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 건너받아 기판을 세정처리조에 침적하는 보오트기구와를 가지며, 제2기판유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 재료로 만들어진 베이스부재와, 이 베이스부재에 장착되고, 기판유지용 다수의 홈이 형성되고, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.

公开(公告)号：KR100251874B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  Y10S134/902 ,  Y10S206/832

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하며, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 넘겨받아 기판을 세정 처리조로 침적하는 보오트기구를 가지며, 제2기판 유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 홈이 형성되며, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.