公开(公告)号：KR1019940012520A

公开(公告)日：1994-06-23

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하고, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 건너받아 기판을 세정처리조에 침적하는 보오트기구와를 가지며, 제2기판유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 재료로 만들어진 베이스부재와, 이 베이스부재에 장착되고, 기판유지용 다수의 홈이 형성되고, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.

公开(公告)号：KR100165559B1

公开(公告)日：1999-02-18

申请号：KR1019920015418

申请日：1992-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  니시미쓰오 ,  미조구치류이치 ,  가미카와유우지

IPC: H01L21/68

Abstract: 반도체 웨이퍼를 반송하는 회전반송아암이 밀폐용기내에 배열설치된다. 용기에는 개폐가능한 개구부가 형성되고, 이것을 통하여 반송아암이 용기바깥으로 뻗어나오는 것이 가능하게 되어있다. 반송아암의 선단에는 포크가 배열설치된다. 포크에는 여러 개의 웨이퍼를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈이 형성된다. 용기의 상부에는 포크용 크리너가 배열설치된다. 크리너는 변환아암의 선단에 부착된 세정노즐 및 건조노즐(s)을 구비한다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치 사이에서 선회가 가능하게 되어있다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치와의 사이에서 선회가능하도록 되어 있다. 변환아암 또는 포크를 따라서 세정노즐 및 건조노즐을 이동가능하게 되어 있다. 세정 및 건조시, 포크에 대하여 세정노즐로부터 순수한 물이 분출되며 건조노즐로부터 질소가 분출된다.

公开(公告)号：KR100163361B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019930003345

申请日：1993-03-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 혼다요시유키 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  구로다고오키 ,  니시미쓰오

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 반도체 웨이퍼를 약액으로 세정하고, 물로 씻고, 건조하는 웨이퍼 세정처리부와, 웨이퍼 수납용의 카세트를 물로 씻고, 건조하는 카세트 세정처리부와, 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부에 로드하는 로더부와, 카세트에 웨이퍼를 수용하고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부로부터 언로드하는 언로더부와, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부내에서 반송하는 웨이퍼 반송기구와, 카세트를 로더부로부터 카세트 세정처리부에 반송하는 카세트 리프터와, 카세트를 카세트 세정처리부내에서 와이어 구동기구를 가진다.

公开(公告)号：KR1019930005156A

公开(公告)日：1993-03-23

申请号：KR1019920015418

申请日：1992-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  니시미쓰오 ,  미조구치류이치 ,  가미카와유우지

IPC: H01L21/68

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR100251874B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  Y10S134/902 ,  Y10S206/832

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하며, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 넘겨받아 기판을 세정 처리조로 침적하는 보오트기구를 가지며, 제2기판 유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 홈이 형성되며, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.

公开(公告)号：KR100190539B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019930003653

申请日：1993-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/06 ,  Y10S134/902

Abstract: 인접하는 처리실을 서로 구획하는 격벽의 하부에 연통구를 형성하여 양 처리실을 서로 이어지도록 하고, 양 처리실 내부에 처리액을 수용하는 가동처리탱크를 이동가능하게 배설한다.
가동처리탱크에 수용되는 처리액과 격벽을 접속시켜서 양 처리실을 차폐한다. 이것에 의해 양 처리실의 분위기가 서로 격리되므로, 양 처리실 내부의 가동처리탱크를 겸용으로 사용할 수 있어, 장치 전체를 소형화로 함과 동시에, 처리액의 소비량을 저감시킬 수 있다. 또 웨이퍼의 반송수단이 불필요하기 때문에, 수율을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019930020597A

公开(公告)日：1993-10-20

申请号：KR1019930003345

申请日：1993-03-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 혼다요시유키 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  구로다고오키 ,  니시미쓰오

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 반도체 웨이퍼를 약액으로 세정하고, 물로 씻고, 건조하는 웨이퍼 세정처리부와, 웨이퍼 수납용의 카세트를 물로 씻고, 건조하는 카세트 세정처리부와, 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부에 로드하는 로더부와, 카세트 웨이퍼를 수용하고, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부로부터 언로드하는 언로드부와, 웨이퍼를 웨이퍼 세정처리부내에서 반송하는 웨이퍼 반송기구와, 카세트를 로더부로부터 카세트 세정처리부에 반송하는 카세트 리프트와, 카세트 카세트 세정 처리부내에서 반송하는 와이어 구동기구를 가진다.

公开(公告)号：KR100236411B1

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019930016459

申请日：1993-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B3/283 ,  F26B21/14

Abstract: 기판건조장치는, IPA를 수용하는 액조와, 이 액조를 둘러싸는 체임버와, IPA를 가열하여 그 증기를 액조내 및 그 근방의 증기처리부에 발생시키는 가열히터와, 액으로 적셔진 복수의 반도체 웨이퍼를 증기처리부에 위치하도록 반송하는 반송기구와, 증기처리부의 위편에 설치되고, IPA증기를 응축액화시키기 위하여 냉각하는 냉각기구와, 이 냉각기구의 더 위편에 설치되고 웨이퍼에 부착한 IPA를 제거하는 건조처리부와, 이 건조처리부내에 위편으로부터 아래편을 향하여 흐르는 가스기류를 형성하는 가스공급장치 및 가스배기장치를 가진다.

公开(公告)号：KR100167479B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019910020992

申请日：1991-11-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67161 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67167 ,  Y10S134/902

Abstract: 세정장치는, 로더 및 언로러 사이에 반입측, 반출측 및 중간의 3개의 세정 유니트를 구비한다.
각, 유니트는 웨이퍼를 배치/처리하는 2개의 세정부와, 회전반송아암을 구비한다.
또 각 유니트 사이에는, 및 수중로더가 배설된다.
각 세정부 및 수중로더는, 처리탱크를 덮는 케이스를 구비하고, 케이스 개구부에는 셔터 및 에어커텐이 배설되고, 내부 분위기가 주위로 부터 격리된다.
로더,언로더,세정부(s ), 수중로더(s)등의 소자는 상기 아암의 회전축을 중심으로 하여 대략 90°간격으로 배설되고, 장치의 콤팩트와,처리효율의 향상이 발생된다.

公开(公告)号：KR1019940004739A

公开(公告)日：1994-03-15

申请号：KR1019930016459

申请日：1993-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판건조장치는, IPA를 수용하는 액조와, 이 액조를 둘러싸는 체임버와, IPA를 가열하여 그 증기를 액조내 및 그 근방의 증기처리부에 발생시키는 가열히터와, 액으로 적셔진 복수의 반도체 웨이퍼를 증기처리부에 위치하도록 반송하는 반송기구와, 증기처리부의 위편에 설치되고, IPA증기를 응축액화시키기 위하여 냉각하는 냉각기구와, 이 냉각기구의 더 위편에 설치되고 웨이퍼에 부착한 IPA를 제거하는 건조처리부와, 이 건조처리부내에 위편으로 아래편을 향하여 흐르는 가스류를 형성하는 가스공급장치 및 가스배기장치를 가진다.