公开(公告)号：KR1020130044171A

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：KR1020120116526

申请日：2012-10-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구찌요시히로 ,  사까이미쯔히로 ,  다나까겐사꾸 ,  가나모리하루또

IPC: H01L21/677 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  B05C5/00

CPC classification number: H01L21/67721 ,  B05C5/004 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/67748

Abstract: PURPOSE: A processing stage apparatus and a coating processing apparatus using the same are provided to prevent the contamination of an object substrate due to the maintenance process of a nozzle. CONSTITUTION: A substrate receiving part(2) includes a first substrate transfer unit(5B) which horizontally moves a substrate(G), and a first reciprocation unit(10). A first reciprocation unit moves the first substrate transfer unit in a substrate transfer direction. A substrate process unit includes a stage(15), a second substrate transfer unit(16), and a second reciprocation unit(24,25). A second substrate transfer unit moves up and down on the loading surface of a stage. A second reciprocation unit elevates the second substrate transfer unit on the loading surface of the stage. A substrate discharging unit includes a third substrate transfer part(29) and a third reciprocation unit(30).

Abstract translation: 目的：提供一种处理台装置和使用其的涂布处理装置，以防止由于喷嘴的维护过程而导致的对象基板的污染。 构成：基板收纳部（2）具有水平移动基板（G）的第一基板搬送单元（5B）和第一往复运动单元（10）。 第一往复运动单元使基板传送单元沿基板传送方向移动。 基板处理单元包括台（15），第二基板转印单元（16）和第二往复单元（24,25）。 第二基板传送单元在载物台的载荷表面上上下移动。 第二往复运动单元将第二基板输送单元提升在载物台的载荷表面上。 基板排出单元包括第三基板转印部（29）和第三往复运动单元（30）。