公开(公告)号：KR101899167B1

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：KR1020130083959

申请日：2013-07-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타노부히로 ,  와키야마데루후미 ,  가이요시히로 ,  가모료우가 ,  이케다요시노리

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051

Abstract: 배기경로에있어서의드레인부주변이외의부분의세정을행할수 있는액 처리장치및 세정방법을제공한다. 액처리장치(10)는, 드레인부(71 내지 74)의근방에마련되고, 기판유지부(52)에의해유지된기판(W)의주위의분위기를배기하기위한배기부(76)와, 배기부(76)에연결되는배기경로(77)를형성하는배기경로형성부재(66)와, 배기경로(77)측의배기경로형성부재(66)에세정액을공급하는제1 세정부(90)를구비하고있다.

公开(公告)号：KR1020140013937A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：KR1020130083959

申请日：2013-07-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타노부히로 ,  와키야마데루후미 ,  가이요시히로 ,  가모료우가 ,  이케다요시노리

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051

Abstract: Provided are a liquid processing apparatus capable of performing a cleaning process on a region except the peripheral region of a drain part in a purge line and a cleaning method. A liquid processing apparatus (10) includes a purge part (76) prepared near a drain part (71 to 74) and discharging the atmosphere of a substrate (W) hold by a substrate holding part (52), a purge path forming member (66) forming a purge path (77) connected to the purge part (76), a first cleaning part (90) supplying a cleaning solution to the purge path formation member (66) in the purge path (77).

Abstract translation: 提供一种液体处理装置，其能够对清除管线中的排出部分的周边区域以外的区域进行清洁处理和清洁方法。 液体处理装置（10）包括在排出部分（71至74）附近准备的排出部分（76），并且通过基板保持部分（52）将基板（W）的气氛排出，并将净化通路形成部件 66），形成连接到所述吹扫部分（76）的吹扫路径（77）;第一清洁部分（90），其将净化溶液供应到所述吹扫路径（77）中的所述吹扫路径形成部件（66）。