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公开(公告)号：KR101883015B1
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：KR1020130021175
申请日：2013-02-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/306
CPC classification number: B08B3/04 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은, 산성약액, 알칼리성약액을전환하여공급하는장치에있어서발생하는파티클을저감할수 있는액 처리장치등을제공하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 회전하는기판(W)의표면에처리액을전환하여공급함으로써액 처리를행하고, 제1 노즐블록(42)과제1 이동기구를구비하는제1 처리액공급부는, 산성약액, 린스액을전환하여공급하고, 제2 노즐블록(52)과제2 이동기구를구비하는제2 처리액공급부는, 알칼리성약액, 린스액을전환하여공급한다. 그리고, 한쪽측의노즐블록(42)으로부터기판(W)으로약액을공급할때에는다른쪽 측의노즐블록(52)을후퇴위치로후퇴시키고, 한쪽측의노즐블록(42)으로부터기판(W)으로린스액을공급하고있을때에다른쪽 측의노즐블록(52)을처리위치로이동시킨다. 또한, 다른쪽 측의노즐블록(52)으로부터약액을공급할때에는한쪽측의노즐블록(42)을후퇴위치로후퇴시켜둔다.
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公开(公告)号：KR101770994B1
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020120073413
申请日：2012-07-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
Abstract: 회수컵과는별개로기액분리장치를설치할필요를없애, 기판액처리장치의소형화를도모하는것이다. 본발명에서는, 처리공간내에서기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에형성한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에설치한승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을승강시키기위한컵 승강기구를가지도록했다.
Abstract translation: 液体分离装置与回收杯分开，从而减小基底液体处理装置的尺寸。 之后该处理在本发明中，而不是在处理空间中的基板，并且提供给所述衬底的旋转机构，以及用于选择性地供给的多个种类的处理液体中的至基底机构的处理液供给，以及用于通过不旋转所述衬底的衬底 一个和杯回收液体中，多个以回收液体的液体回收部形成多个杯的的处理中，以排出从液体回收单元回收的处理液的次数被形成在回收杯排水球的底部，收集 形成杯排气口的排水guboda上侧并在多个杯以预定距离，以覆盖形成在排气口的上端部固定在盖和，固定罩的上方以便引导所述供应至衬底如部分液体回收之后的处理溶液 根据处理液的种类，使升降杯升降的升降机构。
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公开(公告)号：KR101583104B1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：KR1020110128293
申请日：2011-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728
Abstract: 본발명은, 기판의하면을효율적으로세정할수 있는액 처리장치를제공한다. 기판세정장치(10)는, 기판유지부에유지된기판(W)의하면의아래쪽에위치하여기판의하면에처리액을토출하는노즐(60)을구비한다. 노즐은, 기판의중앙부에대향하는위치로부터기판의주연부에대향하는위치사이에배열된복수의제1 토출구(61)를갖고있다. 제1 토출구는, 기판의하면을향해서토출되는처리액의토출방향이기판의회전방향의성분을갖도록형성되어있다.
Abstract translation: 本发明提供一种能够有效地清洁基板的液体处理装置。 基板清洁装置10设置在由基板保持单元保持的基板W的下方，并且包括用于将处理液排出到基板上的喷嘴60。 喷嘴具有多个第一排出口（61），该多个第一排出口布置在与基板的中心相对的位置和面对基板的周边的位置之间。 第一排出口被形成为使朝向基板排出的处理液的排出方向成为基板旋转方向的成分。
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公开(公告)号：KR101417208B1
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020110040840
申请日：2011-04-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67028 , H01L21/67173 , Y10T137/0324 , Y10T137/87684 , Y10T137/87877
Abstract: 본 발명은, 유로를 전환하기 위한 구동 기구의 개수를 삭감할 수 있는 유로 전환 장치를 제공하고, 또한 피처리체를 처리하는 처리 유체의 전용 배출로를 전환하기 위한 구동 기구의 개수를 삭감할 수 있는 액처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
웨이퍼(W)에 대하여 복수 종별의 처리 유체를 서로 다른 타이밍에 공급하여 처리를 행하는 액처리 유닛(3)으로부터, 이 액처리 유닛(3)의 분위기를 배기로(35), 유로 전환부(5)를 통해, 복수의 전용 배출로(접속용 유로)(61∼63)에 배기한다. 상기 유로 전환부(5)는, 외통(51)과 그 내부에 마련된 회전통(53)을 구비하고, 상기 회전통(53)의 3개의 개구부(53a∼53c)는, 상기 회전통(53)을 회전시키는 동안에, 서로 대응하는 외통(51)의 3개의 접속구(51a∼51c)와 회전통(51)의 개구부(53a∼53c)의 세트 중 하나가 겹쳐져 연통하고 또한 다른 세트에 대해서는 연통하지 않는 상태가 각 세트 사이에서 순서대로 발생하도록 배치되어 있다.-
公开(公告)号：KR1020090118826A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：KR1020090021168
申请日：2009-03-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/027 , H01L21/67051 , H01L21/6838 , G03F7/70908 , G03F7/70933 , H01L21/67017
Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for coating a chemical solution are provided to suppress use amount of a solvent for cleaning a rear surface of a substrate in forming a coating film. CONSTITUTION: A coating apparatus(2) includes a substrate holding part, a coating nozzle, a rotation driving part, a liquid film forming unit, and a position control unit. The substrate holding part(21) horizontally supports the substrate by holding a central part of a rear surface of the substrate. The coating nozzle supplies a coating solution to a central part of a surface of the substrate. The rotation driving part(22) rotates the substrate holding part. The liquid film forming unit(5) includes a facing surface part and a processing solution supply part. The position control unit(6) is arranged around the substrate holding part in order to suppress top and bottom shaking of a peripheral part of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种用于涂覆化学溶液的装置和方法，以抑制在形成涂膜时用于清洁基板后表面的溶剂的使用量。 构成：涂布装置（2）包括基板保持部，涂布喷嘴，旋转驱动部，液膜形成单元和位置控制单元。 基板保持部（21）通过保持基板的后表面的中央部来水平地支撑基板。 涂布喷嘴将涂布溶液提供到基板的表面的中心部分。 旋转驱动部（22）旋转基板保持部。 液体成膜单元（5）包括面对部分和处理溶液供应部分。 位置控制单元（6）设置在基板保持部的周围，以抑制基板的周边部的顶部和底部的晃动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080036540A
公开(公告)日：2008-04-28
申请号：KR1020070106677
申请日：2007-10-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
CPC classification number: G03F7/162 , Y10T137/0402 , H01L21/6715
Abstract: A liquid processing apparatus, a method of mounting and dismounting a cup body, and a storage medium are provided to facilitate operation of mounting and dismounting the cup body from the apparatus and reduce work load of an operator, since a lifting mechanism carries out lifting and lowering of the cup body holder, and notifies the detection of movement to the operator. A liquid processing apparatus(1) which supplies processing liquid from a supply nozzle to a surface of a substrate horizontally held by a substrate support within a case(10), the apparatus comprises a cup body(2), a cup body holder(3), and a lifting mechanism. The cup body surrounds a lateral side of the substrate held by the substrate support, and is detachably mounted to a base body within the case from above. The cup body holder holds the cup body to be mounted and dismounted in a lateral direction. The lifting mechanism lifts and lowers the cup body holder between a first position where the cup is mounted to the base body, and a second position above the first position.
Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，一种安装和拆卸杯体的方法以及一种存储介质，以便于将杯体从设备上安装和拆卸的操作，并降低操作者的工作负荷，因为提升机构执行提升和 降低杯身保持器，并且向操作者通知对运动的检测。 一种液体处理设备（1），其将处理液体从供应喷嘴提供到由基板支撑件在壳体（10）内水平保持的基板的表面，所述设备包括杯体（2），杯体保持器（3） ）和提升机构。 杯体围绕由基板支撑件保持的基板的侧面，并且从上方可拆卸地安装在壳体内的基体上。 杯体保持器保持杯体沿横向安装和拆卸。 提升机构将杯体保持器提升并降低在杯安装到基体的第一位置和第一位置之上的第二位置。
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公开(公告)号：KR1020170084687A
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：KR1020170002242
申请日：2017-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/10 , B08B17/025 , B08B2203/0229 , C11D11/0047 , H01L21/02041
Abstract: [과제] 컵의둘레벽부에부착된이물질을제거할수 있는기판처리장치및 기판처리장치의세정방법을제공한다. [해결수단] 실시형태의일양태에따른기판처리장치는, 유지부와, 처리액공급부와, 제1 컵과, 제2 컵과, 세정액공급부를구비한다. 유지부는기판을유지한다. 처리액공급부는, 기판에대하여제1 처리액및 제2 처리액을공급한다. 제1 컵은, 둘레벽부를구비하고, 제1 처리액을둘레벽부에의해형성된회수부를통해회수한다. 제2 컵은, 제1 컵에인접하여배치되고, 제2 처리액을회수한다. 세정액공급부는, 제1 컵의회수부에세정액을공급한다. 기판처리장치에있어서는, 세정액공급부에의해공급된세정액을둘레벽부로부터제2 컵측으로오버플로우시킴으로써둘레벽부를세정한다.
Abstract translation: 发明内容本发明提供一种能够去除附着在杯子的周壁上的异物的基板处理装置和基板处理装置的清洁方法。 解决问题的手段根据本发明实施例的基板处理设备包括保持部分，处理液体供应部分，第一杯，第二杯和清洁液供应部分。 保持部分保持衬底。 处理液供给部将第一处理液和第二处理液供给到基板。 第一杯具有周壁部，并且第一处理液通过由周壁部形成的回收部回收。 第二杯与第一杯相邻设置，回收第二处理液。 清洁液供应部分将清洁液供应到第一杯形圆锥形部分。 在该基板处理装置中，通过使从清洗液供给部供给的清洗液从周壁部向第二杯侧溢出来清洗周壁部。
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公开(公告)号：KR101592058B1
公开(公告)日：2016-02-05
申请号：KR1020110039569
申请日：2011-04-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 본발명에따른기판액처리장치는, 기판을유지하는기판유지대와, 기판유지대를회전시키는회전구동부와, 기판유지대에유지된기판에, 복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급부와, 기판유지대의주변에설치되고, 기판유지대에유지되어회전하는기판으로부터비산된처리액을하방으로각각안내하기위해서, 위에서부터차례로설치된제1 안내컵및 제2 안내컵과, 기판유지대와, 제1 안내컵및 제2 안내컵의사이의위치관계를조정하는위치조정기구를포함하고있다. 제1 안내컵및 제2 안내컵의하방영역에, 제1 안내컵에의해안내된처리액을회수하는제1 처리액회수용탱크가설치되어있다. 제1 처리액회수용탱크의내주측에, 제2 안내컵에의해안내된처리액을회수하는제2 처리액회수용탱크가설치되어있다.
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公开(公告)号：KR1020140064666A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：KR1020130140481
申请日：2013-11-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02041 , H01L21/02052 , H01L21/67028 , H01L21/67051
Abstract: The supply amount of a clean gas is reduced without deteriorating process performance. The amount of the clean gas (70) supplied from a clean gas supply apparatus (70,78) to the inner space of a housing (60) when a liquid process is performed on a substrate (W) is less than that of a clean gas (78) of low humidity supplied from the clean gas supply apparatus when a drying process is performed on the substrate. In addition, the amount of a gas discharged through a housing discharge path (64) when a liquid process is performed is less than that of a gas discharged through the housing discharge path when a drying process is performed.
Abstract translation: 清洁气体的供给量降低，而不会降低工艺性能。 当在基板（W）上执行液体处理时，从清洁气体供应装置（70,78）供应到壳体（60）的内部空间的清洁气体（70）的量小于清洁气体 在对基板进行干燥处理时，从清洁气体供给装置供给的低湿气体（78）。 此外，当执行液体处理时通过壳体排放路径（64）排出的气体的量小于当进行干燥处理时通过壳体排出路径排出的气体的量。
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10.发明公开
公开(公告)号：KR1020120102477A
公开(公告)日：2012-09-18
申请号：KR1020110040843
申请日：2011-04-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B15/002 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67173
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a recording medium with a computer program for performing the liquid processing method are provided to suppress the variation of pressure in a liquid processing unit by controlling a valve. CONSTITUTION: A plurality of liquid processing units(3A-3E) process an object. A common exhaust duct(6) discharges the atmosphere of the liquid processing units. An individual exhaust duct(35) connects each liquid processing unit to the common exhaust duct. An opening and closing device(5) is opened or closed in the individual exhaust duct. An external air suction unit(65) suctions external air in the common exhaust duct.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，液体处理方法和具有用于执行液体处理方法的计算机程序的记录介质，以通过控制阀来抑制液体处理单元中的压力变化。 构成：多个液体处理单元（3A-3E）处理物体。 普通排气管（6）排出液体处理单元的气氛。 单个排气管道（35）将每个液体处理单元连接到公共排气管道。 在各个排气管中打开或关闭开闭装置（5）。 外部空气抽吸单元（65）吸入公共排气管道中的外部空气。
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