公开(公告)号：KR1020040110975A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020040036768

申请日：2004-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와우치다쿠오 ,  사카이미쓰히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67173 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67742

Abstract: PURPOSE: A processing system is provided to enable a person to pass between two sides of the processing system in a short time. CONSTITUTION: A processing system includes a first transferring line(A), a second transferring line(B), a first multistage unit, a first transferring member(88A), a second multistage unit, a second transferring member(88B), a transceiver, and a path(168A). The first transferring line transfers a wafer to be processed in a substantially parallel direction in an order of a process flow. The second transferring line transfers the wafer in a substantially series direction. The first multistage unit includes at least one input unit and at least one process unit. The second multistage unit includes at least one output unit and at least one process unit laminated thereon. The second transferring member transfers the wafer between the units in the second multistage unit. The transceiver transceives the wafer between the first and second transferring members. The path is provided below the transceiver for a person to pass therethrough.

Abstract translation: 目的：提供一种处理系统，使人们能够在短时间内在处理系统的两面之间通过。 构成：处理系统包括第一传输线（A），第二传输线（B），第一多段单元，第一传送部件（88A），第二多段单元，第二传送部件（88B），收发器 ，和路径（168A）。 第一传输线按照处理流程的顺序沿基本上平行的方向传送要处理的晶片。 第二传输线在大致串联的方向上传送晶片。 第一多级单元包括至少一个输入单元和至少一个处理单元。 第二多级单元包括至少一个输出单元和层压在其上的至少一个处理单元。 第二传送构件在第二多级单元中的单元之间传送晶片。 收发器在第一和第二传送构件之间收发晶片。 该通道设置在收发器的下面，供人通过。

公开(公告)号：KR1020060045764A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：KR1020050031463

申请日：2005-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/3064 ,  H01L21/6715

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 기판(G)을 약 수평자세로 반송하는 제 2 롤러반송 기구(14b)와, 기판(G)의 표면에 현상액을 공급하는 현상노즐(51a. 51b)과, 현상노즐(51a) 등으로부터의 현상액토출을 제어하는 현상액 토출제어기구(56)와, 현상노즐(51a) 등을 소정방향으로 이동시키는 현상노즐이동기구(55)와, 제 2 기판반송기구(14b)에 지지된 기판(G)을 기판 반송방향 전후에 소정거리 요동하면서, 현상노즐(51a) 등으로부터 현상액을 토출시키면서 현상노즐(51a) 등을 기판반송방향과는 반대방향으로 이동시킴으로써, 요동하는 기판(G)상에 현상액 패들이 형성되도록, 제 2 기판반송기구(14b)와 현상액 토출제어기구(56)와 현상노즐이동기구(55)를 제어하는 패들형성 제어장치(57)를 구비한다.

公开(公告)号：KR101052946B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020040036768

申请日：2004-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와우치다쿠오 ,  사카이미쓰히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 피처리기판을 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 수평인 방향으로 반송하는 시스템의 양 사이드사이에서 사람이 우회하지 않고 왕래할 수 있도록 하는 것이다.
이 레지스트 도포현상처리 시스템에서는, 반송라인[A]의 종단부, 반송라인 [B]의 시단부 및 종단부, 반송라인[C]의 시단부 및 종단부, 반송라인[D]의 시단부에 오븐타워[D]의 시단부에 오븐타워(TB)(76, 78, 80, 82, 84, 86)를 각각 설치하여, 양 오븐타워(76, 86), (78, 84), (80, 82)의 사이에 세로형의 반송기구 (S/A)(88, 90, 92)를 각각 설치하고 있다. 반송기구(88)와 반송기구(90)와의 사이에는, 해당 크린룸내에서 이 레지스트 도포현상처리시스템을 횡단하여 사람이 빠져나가는 것을 가능하게 하는 통로(168)와, 양 반송기구(88, 90)의 사이에서 기판(G)을 주고받기 위한 익스텐션·유니트(170)가 상하에 설치된다.

Abstract translation: 衬底可以在系统的两侧之间通过，以按照工艺流程的顺序沿着串行水平方向传输待处理衬底，而不绕过衬底。

公开(公告)号：KR1020110013548A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：KR1020110003962

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70916

Abstract: PURPOSE: A development processing device and a development processing method are provided to prevent the flow trace of rinse solutions by supplying rinse solutions to the surface of a substrate which is tilted. CONSTITUTION: A substrate transfer apparatus(14a-14e) horizontally supports and transfers a substrate in a preset direction. A development nozzle(51a,51b) supplies developer to the surface of the substrate supported by the substrate transfer apparatus. A substrate tilting device tilts the transferred substrate. A rinse nozzle(52) supplies rinse solutions to the surface of the substrate supported by the substrate tilting device. A rinse nozzle moving device moves the rinse nozzle along the slope of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种显影处理装置和显影处理方法，以通过向倾斜的基底的表面提供冲洗溶液来防止冲洗溶液的流动痕迹。 构成：基板传送装置（14a-14e）沿预设方向水平地支撑并传送基板。 显影喷嘴（51a，51b）将显影剂供给到由基板输送装置支撑的基板的表面。 基板倾斜装置倾斜转印的基板。 冲洗喷嘴（52）将冲洗液提供到由基板倾斜装置支撑的基板的表面上。 冲洗喷嘴移动装置沿着基板的斜面移动冲洗喷嘴。

公开(公告)号：KR101053016B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020050031463

申请日：2005-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 기판(G)을 약 수평자세로 반송하는 제 2 기판반송 기구(14b)와, 기판(G)의 표면에 현상액을 공급하는 현상노즐(51a. 51b)과, 현상노즐(51a) 등으로부터의 현상액토출을 제어하는 현상액 토출제어기구(56)와, 현상노즐(51a) 등을 소정방향으로 이동시키는 현상노즐이동기구(55)와, 제 2 기판반송기구(14b)에 지지된 기판(G)을 기판 반송방향 전후에 소정거리 요동하면서, 현상노즐(51a) 등으로부터 현상액을 토출시키면서 현상노즐(51a) 등을 기판반송방향과는 반대방향으로 이동시킴으로써, 요동하는 기판(G)상에 현상액 패들이 형성되도록, 제 2 기판반송기구(14b)와 현상액 토출제어기구(56)와 현상노즐이동기구(55)를 제어하는 패들형성 제어장치(57)를 구비한다.

Abstract translation: 提供一种抑制在基板上产生转印的显影处理装置和显影处理方法。

公开(公告)号：KR101052949B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020110003962

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 현상액 패들이 형성된 기판(G)을 약 수평자세로 지지하고 소정방향으로 반송하는 제 4 기판반송기구와, 상기 기판반송기구에 의해서 반송되는 기판의, 기판반송방향의 후방측을 지지함과 동시에 그 전방측을 들어 올리는 것에 의해서, 상기 기판을 비스듬한 자세로 유지하는 기판경사기구(60)와 상기 기판경사기구에 지지된 기판의 표면에 린스액을 공급하는 린스노즐(52)과, 상기 린스노즐로부터의 린스액토출을 제어하는 린스액 토출제어기구(46)와, 상기 린스노즐을 상기 기판의 경사에 따라서 이동시키는 린스노즐 이동기구(47)와, 상기 기판경사기구에 지지된 기판의 아래쪽으로부터 위쪽을 향하여 그 표면을 따라서 상기 린스노즐을 이동시키면서, 상기 린스노즐로부터 린스액을 토출시키는 것에 의해 상기 기판의 표면이 린스처� ��되도록, 상기 린스노즐이동기구 및 상기 린스액 토출제어기구를 제어하는 린스처리 제어장치(48)를 구비한다.

Abstract translation: 提供一种抑制在基板上产生转印的显影处理装置和显影处理方法。