公开(公告)号：KR101129065B1

公开(公告)日：2012-03-26

申请号：KR1020040014275

申请日：2004-03-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야

IPC: H01L21/68

Abstract: 평류방식의 반송로상에서 기판의 추돌사고를 일으키지 않고 기판반송속도를 최적화하는 것이다.
스텝①에서, 기판(G
i )은 반입부에서 반입을 위해 일시정지한다. 스텝②에서, 기판(G
i )은 반입부로부터 도입부를 지나 제 1 현상액공급부까지 고속으로 이동한다. 스텝③에서, 기판(G
i )은 제 1 현상액공급부에서 액을 바르는 시간만큼 일시정지한다. 스텝④에서, 기판(G
i )은 제 1 현상액공급부로부터 액공급중단/린스부까지 중간속도로 이동한다. 스텝⑤에서, 기판(G
i )은 액공급중단/린스부에서 액공급중단시간만큼 일시정지한다. 스텝⑥에서, 기판(G
i )은 액공급중단/린스부로부터 제 1 린스부까지 중간속도로 이동하여, 제 1 린스부를 통과할 때에 이동속도를 저속으로 바꾼다. 스텝⑦에서, 기판(G
i )은 제 2 린스부 및 건조부를 지나 송출부까지 저속으로 이동한다. 스텝⑧에서, 기판(G
i )은 송출부로부터 반출부까지 고속으로 이동한다. 스텝⑧에서, 기판(G
i )은 반출을 위해 일시정지하고 나서 외부로 반출된다.

公开(公告)号：KR1020110013548A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：KR1020110003962

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70916

Abstract: PURPOSE: A development processing device and a development processing method are provided to prevent the flow trace of rinse solutions by supplying rinse solutions to the surface of a substrate which is tilted. CONSTITUTION: A substrate transfer apparatus(14a-14e) horizontally supports and transfers a substrate in a preset direction. A development nozzle(51a,51b) supplies developer to the surface of the substrate supported by the substrate transfer apparatus. A substrate tilting device tilts the transferred substrate. A rinse nozzle(52) supplies rinse solutions to the surface of the substrate supported by the substrate tilting device. A rinse nozzle moving device moves the rinse nozzle along the slope of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种显影处理装置和显影处理方法，以通过向倾斜的基底的表面提供冲洗溶液来防止冲洗溶液的流动痕迹。 构成：基板传送装置（14a-14e）沿预设方向水平地支撑并传送基板。 显影喷嘴（51a，51b）将显影剂供给到由基板输送装置支撑的基板的表面。 基板倾斜装置倾斜转印的基板。 冲洗喷嘴（52）将冲洗液提供到由基板倾斜装置支撑的基板的表面上。 冲洗喷嘴移动装置沿着基板的斜面移动冲洗喷嘴。

公开(公告)号：KR100655564B1

公开(公告)日：2006-12-08

申请号：KR1020000078297

申请日：2000-12-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: 상부에 개구부를 갖고, 기판을 수용하는 회전컵과, 회전컵내에서 기판을 회전시키는 스핀척과, 회전컵에 장착되고, 개구를 갖는 뚜껑과, 뚜껑의 개구를 통해, 레지스트액을 기판에 토출하는 레지스트액 토출노즐과, 뚜껑의 개구를 폐색(閉塞)하기 위한 작은 뚜껑과, 작은 뚜껑의 하면에 설치되고, 작은 뚜껑이 뚜껑의 개구에 장착되었을 때에 회전컵내에 위치되는 돌기부재에 의해 도포처리장치가 구성된다. 이것에 의해, 도포액을 도포 후에 도포막의 막두께 조정을 행할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010071522A

公开(公告)日：2001-07-28

申请号：KR1020000078297

申请日：2000-12-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: PURPOSE: A coating device is provided to effectively perform the adjustment of the film thickness of a coating film after a coating liquid is applied. CONSTITUTION: The coating device includes a rotary cup(42) having an opening part at the upper part and housing a substrate, a spin chuck(41) for rotating the substrate(G) in the rotary cup(42), a cap body(45) attached (to) the rotary cup(42) and having an opening(46), a resist liquid discharge nozzle(51) for discharging the resist liquid to the substrate G through the opening(46) of the cap body(45), a small cap(53) for blocking the opening(46) of the cap body(45) and a projecting member(53a) provided on the lower surface of the small cap(53) and positioned in the rotary cup(42) when the small cap(53) is attached to the opening(46) of the cap body(45).

Abstract translation: 目的：提供一种涂布装置，用于在涂布涂布液之后有效地进行涂膜的膜厚调整。 构成：涂覆装置包括：旋转杯（42），其在上部具有开口部并容纳基底;旋转卡盘（41），用于旋转旋转杯（42）中的基底（G）;帽体（ 45），其连接到旋转杯（42）并具有开口（46）;抗蚀剂液体排出喷嘴（51），用于通过盖体（45）的开口（46）将抗蚀剂液体排放到基板G， ，用于阻挡盖体（45）的开口（46）的小盖（53）和设置在小盖（53）的下表面上并定位在旋转杯（42）中的突出构件（53a） 小帽（53）附接到帽体（45）的开口（46）。

公开(公告)号：KR101065982B1

公开(公告)日：2011-09-19

申请号：KR1020040100285

申请日：2004-12-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키겐야 ,  사다데쓰야 ,  시노기다케토라

IPC: G02F1/13

Abstract: 기체의 사용량의 증가를 억제하면서 기판의 측단부근의 영역중의 반송방향의 후단부근의 영역(각부)에 부착하는 처리액을 제거할 수 있는 기판처리장치 및 해당 기판처리장치에 사용되는 노즐을 제공한다.
레지스트도포현상처리장치의 건조처리장치는, 에어 나이프 노즐{73A(73B)}이 기판(G)의 반송방향에 대하여 비스듬하게 설치되고, 일끝단부(E)에 절결부(73c)가 형성된다. 제 2 분출구(73v)의 제 2 폭이 제 1 분출구(73u)의 제 1 폭보다 커지도록 설정되어 있다. 이 때문에, 제 2 분출구(73v)로부터 분출된 유량이 많은 에어를 제 1 영역(H1)에 걸쳐 분출할 수 있다. 따라서, 에어의 사용량의 증가를 억제하면서 각부(J)에 부착하는 처리액을 흘러가게 하는 것은 아니라 단시간에 확산하여 제거할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1020110049750A

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：KR1020110026345

申请日：2011-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/681 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67721 ,  H01L21/682

Abstract: PURPOSE: A developing method and developing apparatus are provided to optimize the reaction speed of a substrate without causing collisions with a substrate in a reaction tube. CONSTITUTION: In a developing method and developing apparatus, a substrate is fixed at a first stop position in a transfer duct to supply a developing solution to the substrate. The substrate is moved from a first stop position to a second stop position by a first speed. In the second stop position, the developing solution is substantially removed from the substrate. The lowest limit moving speed is determined. A set time is provided to a developing time until stopping developing from the second stop position.

Abstract translation: 目的：提供显影方法和显影装置，以优化基板的反应速度，而不会引起与反应管中的基板碰撞。 构成：在显影方法和显影装置中，将基板固定在传送管道中的第一停止位置处，以将显影溶液供应到基板。 基板从第一停止位置移动到第二停止位置第一速度。 在第二停止位置，显影液基本上从基材上除去。 确定最低移动速度。 将设定时间提供到显影时间，直到停止从第二停止位置显影。

公开(公告)号：KR1020110031112A

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：KR1020100090464

申请日：2010-09-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야히로슌이치 ,  사다데쓰야 ,  구보마코토

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F1/60 ,  G03F7/202

Abstract: PURPOSE: A thermal treating apparatus is provided to uniformize a linewidth of a wiring pattern between substrates and on the surface of the substrate by suppressing the difference of a thermal treatment temperature. CONSTITUTION: A substrate transferring unit(10) continuously transfers a plurality of substrates along a substrate transfer path. A first chamber(8) forms a thermal treatment space for a substrate transferred through a substrate transfer path. A clean air supply unit is arranged on the front of the first chamber and blows clean air to the substrate transfer path. A control unit(50) controls the amount of clean air by the clean air supply unit. The first chamber has an inlet for transferring the substrate on the substrate transfer path. The clean air from the clean air supply unit is supplied from the inlet to the first chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种热处理装置，通过抑制热处理温度的差异来均匀化基板之间和基板表面上的布线图案的线宽。 构成：基板传送单元（10）沿着基板传送路径连续地传送多个基板。 第一室（8）形成用于通过衬底传送路径传送的衬底的热处理空间。 清洁空气供应单元布置在第一室的前部，并将清洁空气吹送到基板传送路径。 控制单元（50）通过清洁空气供应单元来控制清洁空气的量。 第一室具有用于将衬底转移到衬底传送路径上的入口。 来自清洁空气供应单元的清洁空气从入口供应到第一室。

公开(公告)号：KR101136158B1

公开(公告)日：2012-04-17

申请号：KR1020110026345

申请日：2011-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

Abstract: 평류방식의 반송로상에서 기판의 추돌사고를 일으키지 않고 기판반송속도를 최적화하는 것이다.
스텝①에서, 기판(G
i )은 반입부에서 반입을 위해 일시정지한다. 스텝②에서, 기판(G
i )은 반입부로부터 도입부를 지나 제 1 현상액공급부까지 고속으로 이동한다. 스텝③에서, 기판(G
i )은 제 1 현상액공급부에서 액을 바르는 시간만큼 일시정지한다. 스텝④에서, 기판(G
i )은 제 1 현상액공급부로부터 액공급중단/린스부까지 중간속도로 이동한다. 스텝⑤에서, 기판(G
i )은 액공급중단/린스부에서 액공급중단시간만큼 일시정지한다. 스텝⑥에서, 기판(G
i )은 액공급중단/린스부로부터 제 1 린스부까지 중간속도로 이동하여, 제 1 린스부를 통과할 때에 이동속도를 저속으로 바꾼다. 스텝⑦에서, 기판(G
i )은 제 2 린스부 및 건조부를 지나 송출부까지 저속으로 이동한다. 스텝⑧에서, 기판(G
i )은 송출부로부터 반출부까지 고속으로 이동한다. 스텝⑧에서, 기판(G
i )은 반출을 위해 일시정지하고 나서 외부로 반출된다.

公开(公告)号：KR1020060045764A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：KR1020050031463

申请日：2005-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/3064 ,  H01L21/6715

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 기판(G)을 약 수평자세로 반송하는 제 2 롤러반송 기구(14b)와, 기판(G)의 표면에 현상액을 공급하는 현상노즐(51a. 51b)과, 현상노즐(51a) 등으로부터의 현상액토출을 제어하는 현상액 토출제어기구(56)와, 현상노즐(51a) 등을 소정방향으로 이동시키는 현상노즐이동기구(55)와, 제 2 기판반송기구(14b)에 지지된 기판(G)을 기판 반송방향 전후에 소정거리 요동하면서, 현상노즐(51a) 등으로부터 현상액을 토출시키면서 현상노즐(51a) 등을 기판반송방향과는 반대방향으로 이동시킴으로써, 요동하는 기판(G)상에 현상액 패들이 형성되도록, 제 2 기판반송기구(14b)와 현상액 토출제어기구(56)와 현상노즐이동기구(55)를 제어하는 패들형성 제어장치(57)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020020071460A

公开(公告)日：2002-09-12

申请号：KR1020020011300

申请日：2002-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A liquid supplying apparatus is provided to avoid occurrence of defects such as cracking of a substrate, prevent mist-like stain formation in the rear face of a substrate, and prevent a supplied liquid from flowing around to the rear face of the substrate. CONSTITUTION: The floor face(64) of a rotation cup(42) is lowered than a substrate holding face(63) of a spin chuck(41) by 0.2-0.8 mm and a plate(66) is installed so as to face to the outer circumference along the outer circumference of a substrate, so that stain formation in the rear face of the substrate(G) owing to mist or the like is prevented. Moreover, a resist solution or the like is prevented from entering in the gap between them.

Abstract translation: 目的：提供一种液体供给装置，以避免发生基板破裂等缺陷，防止基板背面形成雾状污点，防止供给液体流到基板的背面。 构成：旋转杯（42）的地板面（64）比旋转卡盘（41）的基板保持面（63）下降0.2〜0.8mm，并且将板（66）安装成面向 沿着基板的外周的外周，防止由于雾等而在基板（G）的背面形成污斑。 此外，防止了抗蚀剂溶液等进入它们之间的间隙。