公开(公告)号：KR101928619B1

公开(公告)日：2018-12-12

申请号：KR1020160048586

申请日：2016-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코 ,  가토다카아키

IPC: H01J37/32

Abstract: [과제] 안테나의 기계적 강도를 확보하면서, 안테나와 피처리 기판 사이의 거리를 짧게 한다.
[해결수단] 플라즈마 처리 장치(10)는, 배치대(14)와 안테나(22a)를 구비한다. 배치대(14)는, 처리 용기 내에 설치되고, 기판(W)을 배치한다. 안테나(22a)는, 배치대(14)와 대향하도록 배치대(14)의 상방에 설치되고, 상부판(40)을 가지며, 상부판(40)을 통해 처리 용기 내에 마이크로파를 방사함으로써, 처리 용기 내에 공급된 처리 가스의 플라즈마를 생성한다. 상부판(40)은, 안테나(22a)의 하면에 설치되고, 적어도 배치대(14)와 대향하는 측의 면이 평면형으로 형성된 평판부(40a)와, 평판부(40a)의 둘레 가장자리를 따라서, 평판부(40a)로부터 상측으로 돌출된 리브(40b)를 갖는다.

公开(公告)号：KR1020160125908A

公开(公告)日：2016-11-01

申请号：KR1020160048586

申请日：2016-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코 ,  가토다카아키

IPC: H01J37/32

Abstract: [과제] 안테나의기계적강도를확보하면서, 안테나와피처리기판사이의거리를짧게한다. [해결수단] 플라즈마처리장치(10)는, 배치대(14)와안테나(22a)를구비한다. 배치대(14)는, 처리용기내에설치되고, 기판(W)을배치한다. 안테나(22a)는, 배치대(14)와대향하도록배치대(14)의상방에설치되고, 상부판(40)을가지며, 상부판(40)을통해처리용기내에마이크로파를방사함으로써, 처리용기내에공급된처리가스의플라즈마를생성한다. 상부판(40)은, 안테나(22a)의하면에설치되고, 적어도배치대(14)와대향하는측의면이평면형으로형성된평판부(40a)와, 평판부(40a)의둘레가장자리를따라서, 평판부(40a)로부터상측으로돌출된리브(40b)를갖는다.

Abstract translation: [问题]为了确保天线的机械强度，缩短天线与被摄体判定装置之间的距离。 等离子体处理装置（10）包括平台（14）和天线（22a）。 载置台14配置在处理容器内，配置基板W. 天线22a设置在放置台14上以面对载置台14并具有上板40.天线22a通过顶板40将微波辐射到处理容器中， 由此产生供应到处理室中的处理气体的等离子体。 顶板40包括设置在天线22a的底面上的平板部40a和平面状的至少与载置台14相对的面， 并且从部分40a向上突出的肋40b。