公开(公告)号：KR1020170094222A

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：KR1020177016292

申请日：2015-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코

IPC: H01J37/32

CPC classification number: C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32238 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

Abstract: 피처리체에플라즈마처리를행하는플라즈마처리장치는, 피처리체를수용하는처리용기와, 상기처리용기의상부의개구부를밀봉하도록마련되고, 상기처리용기내에마이크로파를투과시키는유전체창과, 상기유전체창의상면에마련되고, 상기유전체창에마이크로파를방사하기위한복수의슬롯이형성된슬롯판을가지고, 상기유전체창의하면에는, 그하면으로부터하방으로돌기한돌기부가상기슬롯에대응하는위치에마련되며, 마이크로파의파장(λ)에대하여, 상기돌기부의폭은λ/4±λ/8이다.

Abstract translation: 这对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理装置，包括：用于容纳待处理的对象的处理容器中，提供密封的处理容器的开口，介电窗，电介质窗口的用于处理容器传送微波的上表面的上部 提供的是，具有用于辐射微波的多个狭槽的电介质窗缝隙板，并且具有当介电窗口，突起的突起向下从其下在对应于微波波长的槽的位置上设置 （θ），突出部分的宽度为λ/4λ/ 8。

公开(公告)号：KR1020170096960A

公开(公告)日：2017-08-25

申请号：KR1020170019956

申请日：2017-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32192 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/32238 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831

Abstract: 본발명은, 유전체의강도를유지하면서유전체표면의전계를증대시키는것을목적으로한다. 플라즈마처리장치(10)는, 처리공간(S)을구획하는챔버(12)와, 플라즈마여기용의마이크로파를발생하는마이크로파발생기(14)와, 처리공간(S)에대향하는대향면(18a)을갖는유전체창(18)을구비한다. 또한, 플라즈마처리장치(10)는, 유전체창(18)의대향면(18a)과는반대측면(18b) 상에설치되고, 유전체창(18)을통해마이크로파를처리공간(S)으로방사하는복수의슬롯(36a)이형성된슬롯판(36)을구비한다. 또한, 플라즈마처리장치(10)는, 유전체창(18)의대향면(18a) 상에설치되고, 각슬롯(36a)으로부터방사된마이크로파에따른전계를집중시키는도체패턴(19)을구비한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是增加电介质表面的电场，同时保持电介质的强度。 等离子体处理装置10包括用于分隔处理空间S的腔室12，用于产生用于等离子体激发的微波的微波发生器14，与处理空间S相对的相对表面18a， 以及具有电介质层（18）的电介质窗口（18）。 等离子体处理装置10还包括设置在电介质窗18的相对侧表面18b上的电介质窗口18，用于将微波发射到处理空间S中， （36）的槽（36a）。 等离子体处理装置10还具有设置在介电窗18的大直径表面18a上的导体图案19，并且沿着从每个槽36a辐射的微波聚集电场。

公开(公告)号：KR101928619B1

公开(公告)日：2018-12-12

申请号：KR1020160048586

申请日：2016-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코 ,  가토다카아키

IPC: H01J37/32

Abstract: [과제] 안테나의 기계적 강도를 확보하면서, 안테나와 피처리 기판 사이의 거리를 짧게 한다.
[해결수단] 플라즈마 처리 장치(10)는, 배치대(14)와 안테나(22a)를 구비한다. 배치대(14)는, 처리 용기 내에 설치되고, 기판(W)을 배치한다. 안테나(22a)는, 배치대(14)와 대향하도록 배치대(14)의 상방에 설치되고, 상부판(40)을 가지며, 상부판(40)을 통해 처리 용기 내에 마이크로파를 방사함으로써, 처리 용기 내에 공급된 처리 가스의 플라즈마를 생성한다. 상부판(40)은, 안테나(22a)의 하면에 설치되고, 적어도 배치대(14)와 대향하는 측의 면이 평면형으로 형성된 평판부(40a)와, 평판부(40a)의 둘레 가장자리를 따라서, 평판부(40a)로부터 상측으로 돌출된 리브(40b)를 갖는다.

公开(公告)号：KR1020160144327A

公开(公告)日：2016-12-16

申请号：KR1020160070342

申请日：2016-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코

IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32238 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 본발명은, 플라즈마처리에있어서의플라즈마분포를균일하게하는것을목적으로한다. 플라즈마처리장치(1)는, 웨이퍼(W)를수용하는처리용기(10)와, 처리용기(10)의상부의개구부를밀봉하도록설치되고, 처리용기(10) 내에마이크로파를투과시키는유전체창(41)을갖는다. 적어도마이크로파파워를집중시킬필요가있는미리정해진위치에있어서, 유전체창(41)의두께는, 마이크로파의파장(λ)에대하여 3λ/8 이하이며, 유전체창(41)의하면의상기미리정해진위치에는, 상기하면으로부터아래쪽으로돌기한돌기부(90)가형성되어있다.

Abstract translation: 公开了一种等离子体处理装置，其包括构造成容纳晶片的处理容器和设置为气密地密封处理容器顶部中的开口的介电窗口，并且构造成将微波传输到处理容器中。 介电窗口至少在微波功率集中的预定位置处具有3λ/ 8或更小的厚度（这里，λ是微波的波长），并且在底部表面上的预定位置处形成突起 电介质窗从底面向下突出。

公开(公告)号：KR1020160125908A

公开(公告)日：2016-11-01

申请号：KR1020160048586

申请日：2016-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노다카히로 ,  이와오도시히코 ,  가토다카아키

IPC: H01J37/32

Abstract: [과제] 안테나의기계적강도를확보하면서, 안테나와피처리기판사이의거리를짧게한다. [해결수단] 플라즈마처리장치(10)는, 배치대(14)와안테나(22a)를구비한다. 배치대(14)는, 처리용기내에설치되고, 기판(W)을배치한다. 안테나(22a)는, 배치대(14)와대향하도록배치대(14)의상방에설치되고, 상부판(40)을가지며, 상부판(40)을통해처리용기내에마이크로파를방사함으로써, 처리용기내에공급된처리가스의플라즈마를생성한다. 상부판(40)은, 안테나(22a)의하면에설치되고, 적어도배치대(14)와대향하는측의면이평면형으로형성된평판부(40a)와, 평판부(40a)의둘레가장자리를따라서, 평판부(40a)로부터상측으로돌출된리브(40b)를갖는다.

Abstract translation: [问题]为了确保天线的机械强度，缩短天线与被摄体判定装置之间的距离。 等离子体处理装置（10）包括平台（14）和天线（22a）。 载置台14配置在处理容器内，配置基板W. 天线22a设置在放置台14上以面对载置台14并具有上板40.天线22a通过顶板40将微波辐射到处理容器中， 由此产生供应到处理室中的处理气体的等离子体。 顶板40包括设置在天线22a的底面上的平板部40a和平面状的至少与载置台14相对的面， 并且从部分40a向上突出的肋40b。

公开(公告)号：KR101915833B1

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：KR1020150021684

申请日：2015-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와오도시히코 ,  히라노다카히로 ,  이시바시기요타카 ,  가와카미사토루

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/314

CPC classification number: C23C16/45536 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32779

Abstract: [과제] 기판상의위치마다의, 플라즈마의영역을통과하는시간의변동을낮게억제하는동시에, 생성되는플라즈마의균일성을높인다. [해결수단] 개시하는기판처리장치(10)는, 축선(X)을중심으로회전가능하게설치된배치대(14)와, 배치대(14)의회전에의해기판(W)이순차통과하는영역에가스를공급하는가스공급부와, 공급된가스의플라즈마를생성하는플라즈마생성부(22)를구비하고, 플라즈마생성부(22)는, 마이크로파를방사하는안테나(22a)와, 안테나(22a)에마이크로파를공급하는동축도파관(22b)을지니고, 안테나(22a)를축선(X)을따른방향에서본 경우의단면형상을구성하는선분에는, 축선(X)으로부터떨어짐에따라서서로멀어지는 2개의선분이포함되고, 동축도파관(22b)은, 안테나(22a)의무게중심으로부터안테나(22a)에마이크로파를공급한다.

公开(公告)号：KR1020150098199A

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：KR1020150021684

申请日：2015-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와오도시히코 ,  히라노다카히로 ,  이시바시기요타카 ,  가와카미사토루

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/314

CPC classification number: C23C16/45536 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32779 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02315

Abstract: [과제] 기판 상의 위치마다의, 플라즈마의 영역을 통과하는 시간의 변동을 낮게 억제하는 동시에, 생성되는 플라즈마의 균일성을 높인다.
[해결수단] 개시하는 기판 처리 장치(10)는, 축선(X)을 중심으로 회전 가능하게 설치된 배치대(14)와, 배치대(14)의 회전에 의해 기판(W)이 순차 통과하는 영역에 가스를 공급하는 가스 공급부와, 공급된 가스의 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성부(22)를 구비하고, 플라즈마 생성부(22)는, 마이크로파를 방사하는 안테나(22a)와, 안테나(22a)에 마이크로파를 공급하는 동축 도파관(22b)을 지니고, 안테나(22a)를 축선(X)을 따른 방향에서 본 경우의 단면 형상을 구성하는 선분에는, 축선(X)으로부터 떨어짐에 따라서 서로 멀어지는 2개의 선분이 포함되고, 동축 도파관(22b)은, 안테나(22a)의 무게 중심으로부터 안테나(22a)에 마이크로파를 공급한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种能够抑制通过等离子体区域的时间变化低的衬底处理装置，同时提高了衬底上每个位置产生的等离子体的均匀性。 根据本发明，基板处理装置（10）包括：围绕轴线（X）可旋转地安装的放置台（14）; 气体供给单元，其通过所述放置台（14）的旋转而将基板（W）顺序地通过的区域供给气体; 以及用于产生供应气体的等离子体的等离子体产生单元（22）。 等离子体产生单元（22）包括用于发射微波的天线（22a） 以及用于将微波提供给天线（22a）的同轴波导（22b）。 构成从该轴线（X）的方向观察的天线（22a）的截面形状的部分，具有与轴（X）分离的两个彼此远离的部分，同轴波导 （22b）从天线（22a）的重心将微波提供给天线（22a）。