公开(公告)号：KR1020170017806A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020160099889

申请日：2016-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야쿠타케히로노부 ,  츠치야다카후미 ,  간자키고이치로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23C2/04 ,  G03F7/423 ,  H01L21/67086

Abstract: 의도하는효과에따른양태로과산화수소공급을행한다. 기판액처리장치는, 황산과과산화수소수의혼합액이저류되고, 저류된혼합액에기판이침지되어기판의처리가행해지는처리조와, 상기처리조로부터유출된혼합액을받는외부조와, 상기외부조내의혼합액을상기처리조에복귀시키는순환라인과, 상기혼합액중에황산을공급하는황산공급부와, 상기외부조내의혼합액에과산화수소수를공급하는제1 과산화수소수공급부와, 상기순환라인의하류측부분을흐르는혼합액에과산화수소수를공급하는제2 과산화수소수공급부를구비한다.

Abstract translation: 公开了一种基板液体处理装置，包括：储存硫酸和过氧化氢的混合物的处理槽，将基板浸渍在所存储的混合物中，使得对基板进行加工; 外浴，其构造成接收从处理槽流出的混合物; 循环管线，其构造成将外浴中的混合物返回到处理槽; 构造成向混合物供给硫酸的硫酸供给单元; 第一过氧化氢供给单元，其构造成向所述外浴中的混合物供给过氧化氢; 以及第二过氧化氢供给单元，其构造成向流经所述循环管路的下游部分的混合物供给过氧化氢。

公开(公告)号：KR1020170012047A

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：KR1020160089864

申请日：2016-07-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 햐쿠타케히로노부 ,  츠치야다카후미 ,  간자키고이치로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: G03F7/423 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67253

Abstract: 본발명은기판을투입한직후에있어서의처리조내의약액성분농도의저하를억제하는것을목적으로한다. 기판액처리장치의제어부(5)는, 농도검출부(441)에의해검출된약액성분의농도에기초하여, 처리조(21) 내의처리액중에포함되는약액성분의농도가미리정해진허용하한값미만으로되지않도록, 약액성분공급부(42, 43)에의해처리액에약액성분을보충하는피드백제어로서의제1 제어를실행한다. 제어부는, 제1 제어와는별도로, 처리조내의처리액중에기판이투입되기전 혹은투입된직후에, 또는기판의투입전으로부터투입후에걸쳐, 상기기판의투입에기인하여발생하는약액성분농도의저하를상쇄하기위해서필요한미리정해진양의약액성분을, 약액성분공급부에의해처리액에보충하는제2 제어를실행한다.

Abstract translation: 公开了一种基板液体处理设备，包括：处理液，其中存储有处理液体; 提供化学液体组分的化学液体组分供应单元; 浓度检测单元，其检测所述药液成分的浓度; 以及控制器，被配置为执行作为反馈控制的第一控制，所述反馈控制用所述化学液体成分补充所述处理液体，使得包含在所述处理液中的所述处理液体中的所述化学液体成分的浓度不会变得小于预定的允许下限 基于由浓度检测单元检测到的化学液体成分的浓度。 此外，控制器进行第二控制，其中补充处理液的化学液体成分以预定量来补偿由引入基材引起的化学液体成分的浓度的降低。