公开(公告)号：KR1020010098837A

公开(公告)日：2001-11-08

申请号：KR1020010022041

申请日：2001-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고스기히토시 ,  교다히데하루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 기판 전체면에 현상액을 공급하여 현상처리하는 방법으로서, 현상액공급노즐을, 현상액을 공급하면서 적어도 기판의 일끝단에서 다른 끝단까지 소정의 속도로 이동시키는 공정과, 현상액공급후에, 기판에 공급된 현상액 액면의 물결 진폭을 측정하는 공정과, 그 측정치에 따라 현상액공급노즐의 이동속도나 단위시간당 공급량을 변경하는 공정을 가진다. 따라서, 종래와 같이 기판상에 최종적으로 형성되는 선폭 등을 측정하고 나서 수정할 필요가 없고, 종래보다 빠른 시기에 수정할 수 있기 때문에, 불량품 등의 수가 감소하고, 수율의 향상이 도모된다.

公开(公告)号：KR1020160026704A

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：KR1020150116304

申请日：2015-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무타고시 ,  교다히데하루

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  G06F19/00 ,  H01L21/6715

Abstract: 노광후의레지스트막을효율적으로현상하는것이가능한현상방법등을제공한다. 노광후의레지스트막이형성되어있는기판(W)의표면에현상액을공급하여현상액막(30)을형성하고, 이어서레지스트막으로부터현상액막중에용해된성분을포함한현상액을밀어내어, 상기현상액막을얇게해 박막부(302)를형성한후, 그얇아진현상액막에새로운현상액을공급한다.

Abstract translation: 提供了能够在曝光后能够有效地发展抗蚀剂膜的显影方法。 为此，本发明的显影方法包括以下步骤：通过在曝光后在其上形成有抗蚀剂膜的基板（W）的表面上提供显影剂来形成显影剂膜（30）; 从抗蚀剂膜推出含有溶解在显影剂膜中的成分的显影剂; 在将显影剂膜加工成薄膜之后形成薄膜部分（302）; 并将新的显影剂供应到变薄的显影胶片上。

公开(公告)号：KR100567523B1

公开(公告)日：2006-04-03

申请号：KR1020010022041

申请日：2001-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고스기히토시 ,  교다히데하루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 기판 전체면에 현상액을 공급하여 현상처리하는 방법으로서, 현상액공급노즐을, 현상액을 공급하면서 적어도 기판의 일끝단에서 다른 끝단까지 소정의 속도로 이동시키는 공정과, 현상액공급후에, 기판에 공급된 현상액 액면의 물결 진폭을 측정하는 공정과, 그 측정치에 따라 현상액공급노즐의 이동속도나 단위시간당 공급량을 변경하는 공정을 가진다. 따라서, 종래와 같이 기판상에 최종적으로 형성되는 선폭 등을 측정하고 나서 수정할 필요가 없고, 종래보다 빠른 시기에 수정할 수 있기 때문에, 불량품 등의 수가 감소하고, 수율의 향상이 도모된다.

Abstract translation: 本发明是通过提供显影溶液到基底上，所述显影液供给喷嘴，和以预定的速度在所述衬底的至少一个端部移动而供给显影溶液到另一端的步骤的整个表面进行显影处理的方法，该显影剂供给之后，将基板 以及根据测量值改变显影剂供应喷嘴的移动速度和每单位时间的供应量的步骤。 因此，测量线宽度后最终在基板上形成如在现有技术中并不需要进行修改，因为它们可以在早期阶段比常规进行修改，并且降低了这种缺陷的数量被减少，以提高产率。