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公开(公告)号：KR101578412B1
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：KR1020100102222
申请日：2010-10-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67196 , H01L21/67201
Abstract: 포토레지스트도포현상장치로부터노광장치로로드록장치를개재하여반송할때에, 웨이퍼온도의변화를저감시킬수 있는포토레지스트도포현상장치를제공한다. 개시되는포토레지스트도포현상장치(1)는기판에포토레지스트막을형성하는포토레지스트막형성부와, 포토레지스트막형성부에서포토레지스트막이형성된기판을가열하는가열처리부와, 가열처리부에서가열되고포토레지스트막이형성된기판을상온으로냉각하는냉각부와, 냉각부에서상온으로냉각된기판을소정의온도로가열하는가열부(61)와, 포토레지스트막의노광을위하여기판을감압하에서반출하는로드록실(L1)과, 가열부(61)로부터로드록실(L1)로기판을반송하는반송부(62)를구비한다.
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公开(公告)号：KR100596957B1
公开(公告)日：2006-07-04
申请号：KR1020000029242
申请日：2000-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021
Abstract: 레지스트도포막을 가진 기판이 놓이는 얹어놓는대와, 이 얹어놓는대 상의 기판에 현상액을 공급하는 노즐과, 이 노즐에 현상액을 공급하는 액공급기구와, 노즐과 기판을 상대적으로 이동시키는 이동기구를 구비하는 현상장치로서, 노즐은, 액공급기구에 연이어 통하는 액입구와, 이 액입구를 통하여 상기 액공급기구로부터 공급된 현상액을 잠정적으로 저장시켜 두는 액저장부와, 이 액저장부의 바닥부로 연이어 통하며, 액저장부로부터의 현상액을 압력손실시키는 좁은 유로와, 이 좁은 유로에 연이어 통하는 토출구 유로를 가진 직선상태의 액토출부와, 토출구 유로 내에 설치되고, 또한 좁은 유로의 출구근방에 배치되며, 좁은 유로에서 나온 현상액의 기세를 약하게 하여, 상기 토출구로부터 토출되는 현상액이 상기 레지스트도포막에 주는 충격력을 저감시키는 완충부재를 구비한다.
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公开(公告)号：KR100567523B1
公开(公告)日：2006-04-03
申请号：KR1020010022041
申请日：2001-04-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은, 기판 전체면에 현상액을 공급하여 현상처리하는 방법으로서, 현상액공급노즐을, 현상액을 공급하면서 적어도 기판의 일끝단에서 다른 끝단까지 소정의 속도로 이동시키는 공정과, 현상액공급후에, 기판에 공급된 현상액 액면의 물결 진폭을 측정하는 공정과, 그 측정치에 따라 현상액공급노즐의 이동속도나 단위시간당 공급량을 변경하는 공정을 가진다. 따라서, 종래와 같이 기판상에 최종적으로 형성되는 선폭 등을 측정하고 나서 수정할 필요가 없고, 종래보다 빠른 시기에 수정할 수 있기 때문에, 불량품 등의 수가 감소하고, 수율의 향상이 도모된다.
Abstract translation: 本发明是通过提供显影溶液到基底上，所述显影液供给喷嘴，和以预定的速度在所述衬底的至少一个端部移动而供给显影溶液到另一端的步骤的整个表面进行显影处理的方法，该显影剂供给之后，将基板 以及根据测量值改变显影剂供应喷嘴的移动速度和每单位时间的供应量的步骤。 因此，测量线宽度后最终在基板上形成如在现有技术中并不需要进行修改，因为它们可以在早期阶段比常规进行修改，并且降低了这种缺陷的数量被减少，以提高产率。
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公开(公告)号：KR1020110053174A
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：KR1020100102222
申请日：2010-10-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/0274 , G03F7/202 , G03F7/70891 , H01L21/681
Abstract: PURPOSE: A photoresist coating and developing device, a substrate transferring method, and an interface device are provided to implement high throughput and high pattern accuracy by raising the temperature of a wafer before the wafer is inputted into a loadlock chamber. CONSTITUTION: A photoresist layer forming unit forms a photoresist layer on a substrate. A heating processing unit heats the substrate with the photoresist layer. A cooling unit cools the substrate which is heated by the heating processing unit and has the photoresist layer to room temperature. A heating unit(61) heats the cooled substrate with a preset temperature. A loadlock chamber(L1) discharges a substrate for exposing the photoresist layer under the pressure reduction. A transfer unit(62) transfers the substrate from the heating unit to the loadlock chamber.
Abstract translation: 目的：提供光致抗蚀剂涂层显影装置，基板转印方法和界面装置，以在将晶片输入到装载锁定室之前提高晶片的温度来实现高通量和高图案精度。 构成：光致抗蚀剂层形成单元在基板上形成光致抗蚀剂层。 加热处理单元用光致抗蚀剂层加热基板。 冷却单元冷却由加热处理单元加热的基板，并使光致抗蚀剂层达到室温。 加热单元（61）以预设温度加热冷却的基板。 负载锁定室（L1）在减压下放电用于暴露光致抗蚀剂层的基板。 传送单元（62）将基板从加热单元传送到负载锁定室。
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公开(公告)号：KR100993234B1
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：KR1020070070112
申请日：2007-07-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/08
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/168 , G03F7/70341 , G03F7/70991 , Y10S438/908
Abstract: 고굴절율 액체 순환 시스템(9)은 액침 노광부(30)에서 이용된 고굴절율 액체를 회수하는 제1 회수부(4a)와, 제1 회수부(4a)에 의해 회수된 고굴절율 액체를 세정액으로서 이용하도록 후세정 유닛(POCLN)에 공급하는 제1 공급부(4b)와, 후세정 유닛(POCLN)에서 이용된 고굴절율 액체를 회수하는 제2 회수부(4c)와, 제2 회수부(4c)에 의해 회수된 고굴절율 액체를 액침 노광부(30)에 공급하는 제2 공급부(4d)를 구비하고, 고굴절율 액체를 액침 노광부(30)와 후세정 유닛(POCLN) 사이에서 순환시킨다.
Abstract translation: 用于高折射率液体的循环系统包括：第一收集部分，被配置为收集在浸没曝光部分中使用的高折射率液体; 第一供给部，其构造成将收集在第一收集部中的高折射率液体供给到作为清洗液的清洗部; 第二收集部，其构造成收集在所述清洗部中使用的高折射率液体; 以及第二供给部，被配置为将在第二收集部中收集的高折射率液体供给到浸没曝光部，其中高折射率液体在浸没曝光部和清洁部之间循环。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080008237A
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：KR1020070070112
申请日：2007-07-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/08
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/168 , G03F7/70341 , G03F7/70991 , Y10S438/908
Abstract: A high index liquid circulating system in a pattern forming apparatus is provided to reduce the amount of a high refractive index liquid and a cleaning liquid by simplifying a structure thereof. A first collection unit is formed to collect a high refractive index liquid used in an immersion light exposure unit(30). A first supply unit is formed to supply the high refractive index liquid of the first collection unit to a cleaning unit as a cleaning liquid. A second collection unit is formed to collect the high refractive index liquid used in the cleaning unit. A second supply unit is formed to supply the high refractive index liquid collected in the second collection unit to the immersion light exposure unit. In the circulating process of the high refractive index liquid between the immersion light exposure unit and the cleaning unit, the high refractive index liquid is collected from the immersion light exposure unit to the first collection unit. The first supply unit supplies the high refractive index liquid to the cleaning unit. The second collection unit collects the high refractive index liquid from the cleaning unit. The second supply unit supplies the high refractive index liquid to the immersion light exposure unit.
Abstract translation: 提供了图案形成装置中的高折射率液体循环系统，以通过简化其结构来减少高折射率液体和清洁液体的量。 形成第一收集单元以收集在浸没曝光单元（30）中使用的高折射率液体。 第一供给单元被形成为将第一收集单元的高折射率液体作为清洁液体提供给清洁单元。 形成第二收集单元以收集在清洁单元中使用的高折射率液体。 第二供给单元被形成为将收集在第二收集单元中的高折射率液体供给到浸没曝光单元。 在浸渍曝光单元和清洁单元之间的高折射率液体的循环过程中，将高折射率液体从浸没曝光单元收集到第一收集单元。 第一供应单元将高折射率液体供应到清洁单元。 第二收集单元从清洁单元收集高折射率液体。 第二供应单元将高折射率液体供应到浸没曝光单元。
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公开(公告)号：KR101002383B1
公开(公告)日：2010-12-20
申请号：KR1020067002075
申请日：2004-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 고스기히토시
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/02 , Y10S134/902
Abstract: 기판에 세정액을 분배하기 위한 장치와 방법으로, 세정액은 실질적으로 기판의 중앙 근처에서 제1 노즐 어레이를 통해 분배되고 기판의 반경 방향 전폭을 가로질러 제2 노즐 어레이를 통해 분배된다. 따라서, 상기 장치는 하나 이상을 노즐을 포함하고 실질적으로 기판의 중앙 근처에 세정액을 분배하도록 구성된 제1 노즐 어레이와, 제1 노즐 어레이에 결합되고 제1 노즐 어레이를 통해 세정액의 제1 흐름을 활성화시키도록 구성된 제1 제어 밸브와, 복수 개의 노즐을 포함하고 기판의 반경 방향 전폭을 가로질러 세정액을 분배하도록 구성된 제2 노즐 어레이와, 제2 노즐 어레이에 결합되고 제2 노즐 어레이를 통해 상기 세정액의 제2 흐름을 활성화시키도록 구성된 제2 제어 밸브를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020060061806A
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：KR1020067002075
申请日：2004-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 고스기히토시
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/02 , Y10S134/902
Abstract: An apparatus and method for dispensing a rinse solution on a substrate in which the rinse solution is dispensed through one nozzle array substantially near a center of a substrate and is dispensed through a second nozzle array across a radial span of the substrate. Accordingly, the apparatus includes a first nozzle array including at least one nozzle and configured to dispense the rinse solution substantially near a center of the substrate, a first control valve coupled to the first nozzle array and configured to actuate a first flow rate of the rinse solution through the first nozzle array, a second nozzle array including a plurality of nozzles and configured to dispense the rinse solution across a radial span of the substrate, and a second control valve coupled to the second nozzle array and configured to actuate a second flow rate of said rinse solution through the second nozzle array.
Abstract translation: 一种用于在基底上分配漂洗溶液的装置和方法，其中通过基本上靠近基底中心的一个喷嘴阵列分配冲洗溶液，并且通过穿过基底的径向跨度的第二喷嘴阵列分配冲洗溶液。 因此，该装置包括第一喷嘴阵列，该喷嘴阵列包括至少一个喷嘴并被配置为基本上在基板的中心附近分配冲洗溶液;第一控制阀，其联接到第一喷嘴阵列并且构造成致动冲洗液的第一流量 溶液通过第一喷嘴阵列，第二喷嘴阵列，其包括多个喷嘴并且被配置为在衬底的径向跨度上分配冲洗溶液;以及第二控制阀，其耦合到第二喷嘴阵列并且被配置为致动第二流量 的所述冲洗溶液通过第二喷嘴阵列。
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公开(公告)号：KR1020010098837A
公开(公告)日：2001-11-08
申请号：KR1020010022041
申请日：2001-04-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은, 기판 전체면에 현상액을 공급하여 현상처리하는 방법으로서, 현상액공급노즐을, 현상액을 공급하면서 적어도 기판의 일끝단에서 다른 끝단까지 소정의 속도로 이동시키는 공정과, 현상액공급후에, 기판에 공급된 현상액 액면의 물결 진폭을 측정하는 공정과, 그 측정치에 따라 현상액공급노즐의 이동속도나 단위시간당 공급량을 변경하는 공정을 가진다. 따라서, 종래와 같이 기판상에 최종적으로 형성되는 선폭 등을 측정하고 나서 수정할 필요가 없고, 종래보다 빠른 시기에 수정할 수 있기 때문에, 불량품 등의 수가 감소하고, 수율의 향상이 도모된다.
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公开(公告)号：KR1020000077484A
公开(公告)日：2000-12-26
申请号：KR1020000029242
申请日：2000-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021
Abstract: 레지스트도포막을가진기판이놓이는얹어놓는대와, 이얹어놓는대상의기판에현상액을공급하는노즐과, 이노즐에현상액을공급하는액공급기구와, 노즐과기판을상대적으로이동시키는이동기구를구비하는현상장치로서, 노즐은, 액공급기구에연이어통하는액입구와, 이액입구를통하여상기액공급기구로부터공급된현상액을잠정적으로저장시켜두는액저장부와, 이액저장부의바닥부로연이어통하며, 액저장부로부터의현상액을압력손실시키는좁은유로와, 이좁은유로에연이어통하는토출구유로를가진직선상태의액토출부와, 토출구유로내에설치되고, 또한좁은유로의출구근방에배치되며, 좁은유로에서나온현상액의기세를약하게하여, 상기토출구로부터토출되는현상액이상기레지스트도포막에주는충격력을저감시키는완충부재를구비한다.
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