상부 전극 및 플라즈마 처리 장치
    1.
    发明授权
    상부 전극 및 플라즈마 처리 장치 有权
    上电极和等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR100757545B1

    公开(公告)日:2007-09-10

    申请号:KR1020040033366

    申请日:2004-05-12

    Abstract: 교환 부품의 코스트의 상승을 억제하여 러닝 코스트의 저감을 도모하면서, 그 온도 제어성을 종래에 비교해서 향상시킬 수 있고, 고정밀도인 플라즈마 처리를 할 수 있는 상부 전극 및 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 진공 챔버(1)에 설치된 상부 전극(3)은 전극기체(30), 냉각 블록(31) 및 전극판(32)으로 구성되어 있다. 전극기체(30)와 냉각 블럭(31) 사이에는 처리 가스 확산용 간극(33)이 형성되어 있다. 냉각 블럭(31)에는 다수의 투과 구멍(34)이 형성되고, 이들 투과 구멍(34)의 사이에, 잘게 굴곡한 형상으로 된 냉매 유로(35)가 형성되어 있다. 전극판(32)은 냉각 블럭(31)의 하측에, 유연성을 갖는 열전도부재인 실리콘 러버 시트(36)를 거쳐서 장착 및 분리 가능하게 고정되어 있고, 투과 구멍(34)에 각각 대응하여 토출구(37)가 형성되어 있다.

    상부 전극 및 플라즈마 처리 장치
    2.
    发明公开
    상부 전극 및 플라즈마 처리 장치 有权
    上电极和等离子体工艺设备降低运行成本并提高温度控制

    公开(公告)号:KR1020040098551A

    公开(公告)日:2004-11-20

    申请号:KR1020040033366

    申请日:2004-05-12

    Abstract: PURPOSE: An upper electrode is provided to reduce running cost and improve temperature controllability as compared with a conventional technique by controlling an increase of the cost of spare parts. CONSTITUTION: An upper electrode(3) is disposed to confront a mount unit(2) on which a substrate to be process is mounted. The upper electrode generates plasma of process gas between the mount unit and the upper electrode. A coolant path for circulating coolant is formed in a cooling block(31) while at least one transmission hole for transmitting the process gas is formed in the cooling block. An electrode plate(32) is mounted/separated on/from the lower surface of the cooling block by using a ductile thermal conductive member. At least one discharge hole(37) is formed on the electrode plate to discharge the process gas toward the substrate to be mounted. An electrode base member(30) is installed over the cooling block. A void(33) for process gas diffusion is formed between the cooling block and the electrode base member to diffuse the process gas.

    Abstract translation: 目的:通过控制备件成本的增加,提供了与常规技术相比降低运行成本并提高温度可控性的上电极。 构成:上电极(3)设置成面对要安装待加工基板的安装单元(2)。 上部电极在安装单元和上部电极之间产生处理气体的等离子体。 在冷却块(31)中形成用于循环冷却剂的冷却剂路径,同时在冷却块中形成用于传送处理气体的至少一个传输孔。 通过使用延性导热构件,在冷却块的下表面上/从冷却块的下表面安装/分离电极板(32)。 在电极板上形成至少一个排出孔(37),以将处理气体朝向要安装的基板排出。 电极基座部件(30)安装在冷却块的上方。 在冷却块和电极基体之间形成用于处理气体扩散的空隙(33),以扩散处理气体。

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