公开(公告)号：KR100629746B1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：KR1020000042965

申请日：2000-07-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카모토카즈오 ,  나가미네슈우이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C11/08

Abstract: 본 발명은 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 웨이퍼를 웨이퍼 보지부에 보지(保持)시키고, 웨이퍼 표면에 현상액을 공급하면서 웨이퍼를 180도 회전시켜 웨이퍼 표면에 현상액의 액덩어리(퍼들, puddle)를 형성시킨 후, 웨이퍼의 회전을 정지시켜 보지핀을 상승시킴으로써 웨이퍼 보지부로부터 웨이퍼를 건네받아, 당해 보지핀으로 웨이퍼를 웨이퍼 보지부로부터 부상시킨 상태로 보지하고, 소정시간 방치하여 현상을 실시함으로써, 열용량이 큰 웨이퍼 보지부로부터 웨이퍼에 대한 온도영향이 억제되어 웨이퍼의 면내에 있어서 현상액의 온도분포의 발생이 억지되기 때문에, 온도차가 원인인 현상얼룩의 발생이 억제되어 균일한 현상처리를 실시할 수 있으며, 또한 이로 인해 기판, 예를들어 웨이퍼애 대해 현상처리를 수행하는 경우에 처리의 균일성을 높일 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020010030008A

公开(公告)日：2001-04-16

申请号：KR1020000042965

申请日：2000-07-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카모토카즈오 ,  나가미네슈우이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C11/08

Abstract: PURPOSE: A developing apparatus and a method thereof are provided to prevent a printing spot, caused by the temperature difference of developing solution, from occurring by maintain uniformally the temperature of the developing solution on a face of a substrate, consequently uniformity of developing processing can be improved. CONSTITUTION: While a wafer(W) is held at a wafer-holding section(2), and a developer(D) is supplied to the wafer surface, the wafer W is rotated by 180 deg., and the developer(D) is applied to the wafer surface. Then the rotation of the wafer(W) is stopped, a holding pin(4) is elevated to receive the wafer(W) from the wafer-holding section(2), and the wafer(W) is held by the holding pin(4), while floating over the wafer-holding section(2) and then left as it is for a prescribed time to perform development. Consequently, the influence of the temperature from the wafer-holding section(2) having large heat capacity to the wafer W is suppressed to suppress the generation of a temperature distribution of the developer in the surface of the wafer(W), so that a uniform developing process can be performed.

Abstract translation: 目的：提供一种显影装置及其方法，用于通过保持显影液在基材表面上的温度均匀而防止由显影液的温度差引起的印刷点，因此显影处理的均匀性可以 要改进 构成：当晶片（W）保持在晶片保持部分（2）处，并且将显影剂（D）供应到晶片表面时，晶片W旋转180度，显影剂（D）为 施加到晶片表面。 然后停止晶片（W）的旋转，提升保持销（4）以从晶片保持部（2）接收晶片（W），并且晶片（W）由保持销（ 4），同时漂浮在晶片保持部分（2）上，然后原样保持规定的时间进行显影。 因此，抑制来自具有大的热容量的晶片保持部（2）的温度对晶片W的影响，以抑制晶片（W）的表面中的显影剂的温度分布的产生，使得 可以进行均匀的显影处理。