액처리장치
    1.
    发明公开
    액처리장치 有权
    液体加工设备

    公开(公告)号:KR1020090083281A

    公开(公告)日:2009-08-03

    申请号:KR1020090006153

    申请日:2009-01-23

    Abstract: A liquid processing apparatus is provided to accurately adjust the resist state and improve the uniformity of the coated film thickness. The coating liquid nozzle(10) forms the flow path(105) of the coating solutions supplied from the coating solutions feed port and the coating solutions is discharged toward the substrate holding unit. The nozzle transferring unit transfers the coating liquid nozzle. The apparatus includes the light source for illuminating the coating liquid nozzle. The coating liquid nozzle is made of the cylindrical form of the transparent member. A part of the outer periphery of the cylindrical form has the light-in surface(101a).

    Abstract translation: 提供液体处理装置以精确地调节抗蚀剂状态并提高涂膜厚度的均匀性。 涂布液喷嘴(10)形成从涂布液供给口供给的涂布溶液的流路(105),涂布液朝向基板保持单元排出。 喷嘴转印单元转移涂布液喷嘴。 该装置包括用于照射涂布液喷嘴的光源。 涂布液喷嘴由透明构件的圆柱形形成。 圆筒形的外周的一部分具有入光面(101a)。

    기체 공급 유닛
    2.
    发明授权
    기체 공급 유닛 有权
    气体供应单元

    公开(公告)号:KR101226830B1

    公开(公告)日:2013-01-25

    申请号:KR1020087032212

    申请日:2007-06-29

    CPC classification number: F16K27/003 H01L21/67017 H01L21/6715 H01L21/67178

    Abstract: 본 발명에 있어서, 기체 공급 유닛은, 직방체 형상의 연결 블록을 가지며, 연결 블록의 하나의 측면에는, 복수의 전자밸브로 이루어진 전자밸브 블록과, 복수의 스피드 컨트롤러로 이루어진 스피드 컨트롤러 블록이 연결되어 있다. 연결 블록내에는, 대응하는 전자밸브와 스피드 컨트롤러를 연이어 통하게 하는 제1 유로와, 스피드 컨트롤러로부터 다른 측면으로 연이어 통하는 제2 유로가 형성되어 있다. 다른 측면의 제2 유로의 출력측에는, 접속 포트가 설치된다. 각 기압식 구동부에 통하는 복수의 급기관은, 멀티 코넥터를 개재하여 접속 포트에 접속된다. 본 발명에 의하면, 기판의 처리장치에 이용되는 복수의 기압식 구동부에 기체를 공급하는 기체 공급 설비의 품질을 안정시킬 수 있다.

    액처리장치
    3.
    发明授权
    액처리장치 有权
    液体加工设备

    公开(公告)号:KR101411138B1

    公开(公告)日:2014-06-23

    申请号:KR1020090006153

    申请日:2009-01-23

    Abstract: 기판의 위쪽으로 이동이 가능하도록 구성된 도포액 노즐(10)을 반송하는 노즐반송기구에 배치된 도포액 공급부로부터 공급되는 도포액의 유로(105)를 형성한 대략 투명한 부재로 형성되는 통형상체의 도포액 노즐(10)을 설치한다. 이 도포액 노즐(10)의 통형상체의 바깥둘레의 일부에 조명광을 입광시키는 부분으로서의 평탄형상으로 형성된 입광면(D컷면)(101a)을 설치하고, 이 입광면에 조명광을 입사시켜 도포액의 유로를 비추는 것에 의해, 도포액 노즐(10) 내부의 도포액 상태의 확인 조정을 행하기 쉽게 한다.

    기체 공급 유닛
    4.
    发明公开
    기체 공급 유닛 有权
    气体供应单元

    公开(公告)号:KR1020090027697A

    公开(公告)日:2009-03-17

    申请号:KR1020087032212

    申请日:2007-06-29

    Abstract: A gas supply unit has a connection block with a rectangular solid shape, and a solenoid valve block made up of solenoid valves and a speed controller block made up of speed controllers are connected to one side face of the connection block. In the connection block, there are formed first flow paths and second flow paths.The first flow paths are for connection between each solenoid valve and each speed controller that correspond to each other, and the second flow paths are communicated to the other side face from the speed controllers. In the output side of the second flow paths that is on the other side face are provided connection ports. Gas supply tubes communicated with gas pressure-type drive sections are connected to the connection ports via a multi-connector. The gas supply unit can stabilize quality of a gas supply facility for supplying gas to gas pressure-type drive sections used for substrate processing device.

    Abstract translation: 气体供给单元具有矩形固体形状的连接块,并且由电磁阀构成的电磁阀块和由速度控制器构成的速度控制器块连接到连接块的一个侧面。 在连接块中形成有第一流路和第二流路。第一流路用于在每个电磁阀与彼此对应的每个速度控制器之间连接,并且第二流动路径与 速度控制器。 在另一侧面上的第二流路的输出侧设有连接口。 与气体压力型驱动部连通的气体供给管通过多连接器与连接口连接。 气体供给单元能够稳定用于向用于基板处理装置的气体压力型驱动部供给气体的气体供给装置的质量。

Patent Agency Ranking