公开(公告)号：KR1020120004921A

公开(公告)日：2012-01-13

申请号：KR1020110050778

申请日：2011-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타유이치로 ,  오카다소이치로 ,  이나다히로이치 ,  기시타나오후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: PURPOSE: Liquid treatment equipment is provided to prevent the generation of an air current which promotes processing liquid mist to be reattached to a substrate by guiding or rectifying the flow of outer air which is generated in the rear side of a substrate according to rotation of the substrate. CONSTITUTION: An internal cup member(40) comprises the external inclined surface(41) of a cyclic type and external vertical surface(42) of the cyclic type. The upper side of an intermediate cup member(50) is located between the internal cup member and an external cup member(60). A liquid receiver(51) of the cyclic type is formed in the bottom side of the intermediate cup member. A waste liquid pathway(52) is connected to the bottom wall of the liquid receiver. A ringed space(78) locates between the internal cup member and the external cup member. A vertical wall(100) of the cyclic type is projected from a incline surface(61) toward the lower side.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，以防止产生气流，从而通过引导或整流在基板的后侧产生的外部空气的流动，从而促进将液体雾重新附着到基板上， 基质。 构成：内杯构件（40）包括循环型的外倾斜面（41）和环状型的外垂直面（42）。 中间杯构件（50）的上侧位于内杯构件和外杯构件（60）之间。 在中间杯构件的底侧形成有循环型液体接收器（51）。 废液通道（52）连接到液体接收器的底壁。 环形空间（78）位于内杯构件和外杯构件之间。 循环型的垂直壁（100）从斜面（61）向下侧突出。

公开(公告)号：KR102161328B1

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：KR1020140119027

申请日：2014-09-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시무라고키 ,  기시타나오후미 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

公开(公告)号：KR101436649B1

公开(公告)日：2014-09-01

申请号：KR1020090069931

申请日：2009-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  기시타나오후미 ,  비와사토시 ,  후지무라고우지

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명은 액처리 장치의 총배기량의 증대를 억제하면서, 기판 유지부의 배열수를 증가시키는 것을 목적으로 한다.
n개(n은 3 이상의 정수)의 컵체(4)를, 각각 제1 댐퍼(72)가 설치된 복수의 개별 배기로(7)와, 이들 복수의 개별 배기로(7)의 하류측에 공통으로 접속되는 공통 배기로(73)를 통해 배기량 E로 흡인 배기함에 있어서, 약액 노즐(5)이 웨이퍼(W)와 대향하는 설정 위치에 있는 한 컵체에서는, 해당 컵체측으로부터 외기를 제1 취입량(E1)으로 취입(取入)하고, 다른 나머지의 컵체에서는, 해당 컵체측으로부터 제1 취입량(E1)보다 작은 제2 취입량(E2)으로 취입하며, 컵체(4)측 및 분기로(76)측 모두의 외기 취입량이 (E-E1)/(n-1)이 되도록 제1 댐퍼(72)를 구성한다.

公开(公告)号：KR1020150031184A

公开(公告)日：2015-03-23

申请号：KR1020140119027

申请日：2014-09-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시무라고키 ,  기시타나오후미 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/68764

Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 표면 상에 있어서의 통기 유량의 편차를 저감시킬 수 있는 기판 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
기판 액 처리 장치인 현상 처리 유닛(U1)은 웨이퍼(W)를 보유 지지함과 함께 회전시키기 위한 기판 회전 기구(20)와, 웨이퍼(W)의 표면(Wa)에 처리액을 공급하는 현상액 공급 기구(23) 및 린스액 공급 기구(24)와, 기판 회전 기구(20)에 보유 지지된 웨이퍼(W)를 둘러싸는 컵(30)과, 컵(30) 내의 기체를 배출하는 배기 기구(42)와, 컵(30)에 있어서의 웨이퍼(W)의 이면(Wb)측에 형성된 배기구(31b)와, 컵(30) 내에 있어서 웨이퍼(W)의 주연(Wc)을 따라서 형성되어, 표면(Wa)측으로부터 이면(Wb)측으로 기체를 유도하는 유로 FP를 구비한다. 유로 FP는 배기구(31b)로부터 이격됨에 따라서 통기 저항이 작아지도록 구성되어 있다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于处理能够减少基板表面上的气流速度偏差的基板流体的装置。 作为基板流体处理装置的显影处理单元（U1）包括：用于保持，支撑和旋转晶片（W）的基板旋转装置（20）。 显影剂供应装置（23）和用于将工艺流体供应到晶片（W）的表面（Wa）的冲洗流体供应装置（24）; 用于封闭由所述基板旋转装置（20）保持和支撑的所述晶片（W）的杯（30）; 用于排出杯子（30）中的气体的排气装置（42）; 形成在杯（30）中的晶片（W）的后侧（Wb）的通气口（31b）; 以及通过沿着杯（30）内的晶片（W）的圆周（Wc）形成用于将气体从表面（Wa）引导到后侧（Wb）的流路（FP）。 流动路径（FP）被配置为通过与通气口（31b）分离而具有降低的气流阻力。

公开(公告)号：KR1020140114296A

公开(公告)日：2014-09-26

申请号：KR1020140029584

申请日：2014-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기시타나오후미 ,  사카이유지

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/08 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05C11/08 ,  G03F7/162 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785

Abstract: An objective of the present invention is to provide a liquid processing device which is capable of favorably performing an operation of cleaning the back surface of a wafer (W) and a cup structure. An apparatus for performing a liquid treatment by rotating a wafer (W) as a substrate through a spin chuck (11), around which a cup structure (2) is disposed, is configured to be moved up and down along a cleaning nozzle (8) while supporting a cleaning member (3) around a vertical axis and be rotated at a position having a height at which the operation of cleaning the cup structure (2) is performed. For cleaning of the back surface of the wafer (W), the cleaning member (3) is placed at a first position that allows a cleaning liquid from a cleaning nozzle (8) to reach the back surface of the wafer (W) through the opening (52) of the cleaning member (3). For cleaning of the cup structure (2), the cleaning member is placed at a second position higher than the first position is being rotated, and a cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle (8) collides with an annular part (5) of the cleaning member (3) and is guided to the inner surface of a cup structure (2). Thus, the operation of cleaning the back surface of the wafer (W) and the cup structure can be favorably performed.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理装置，其能够有利地进行清洗晶片（W）和杯状结构的背面的操作。 通过旋转卡盘（11）旋转作为基板的晶片（W）进行液体处理的装置，其中配置有杯结构（2），沿着清洗喷嘴（8）上下移动 ），同时围绕垂直轴线支撑清洁构件（3）并且在执行清洁杯结构（2）的操作的高度的位置处旋转。 为了清洁晶片（W）的后表面，清洁构件（3）被放置在允许来自清洁喷嘴（8）的清洁液体通过所述清洁喷嘴（8）到达所述晶片（W）的后表面的第一位置 清洁部件（3）的开口（52）。 为了清洁杯结构（2），清洁部件被放置在比第一位置高的第二位置，并且从清洗喷嘴（8）排出的清洗液体与第一位置的环形部分（5）碰撞， 清洁构件（3）并且被引导到杯结构（2）的内表面。 因此，可以有利地进行清洁晶片（W）的后表面和杯结构的操作。

公开(公告)号：KR101411138B1

公开(公告)日：2014-06-23

申请号：KR1020090006153

申请日：2009-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마쓰네나가 ,  기시타나오후미 ,  기노시타미치오

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판의 위쪽으로 이동이 가능하도록 구성된 도포액 노즐(10)을 반송하는 노즐반송기구에 배치된 도포액 공급부로부터 공급되는 도포액의 유로(105)를 형성한 대략 투명한 부재로 형성되는 통형상체의 도포액 노즐(10)을 설치한다. 이 도포액 노즐(10)의 통형상체의 바깥둘레의 일부에 조명광을 입광시키는 부분으로서의 평탄형상으로 형성된 입광면(D컷면)(101a)을 설치하고, 이 입광면에 조명광을 입사시켜 도포액의 유로를 비추는 것에 의해, 도포액 노즐(10) 내부의 도포액 상태의 확인 조정을 행하기 쉽게 한다.

公开(公告)号：KR101061925B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020070082273

申请日：2007-08-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마즈네나가 ,  기시타나오후미 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 이동시의 배관 길이의 변화에 의한 액의 온도 변화를 억제하는 동시에, 요동이나 팽창 등에 의한 먼지의 발생을 억제하는 복합 배관 및 복합 배관을 구비하는 도포·현상 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
적어도 액체용 관체(61)와 전기용 관체(62)를 포함하는 복수의 관체(61, 62)가 병렬형태로 고착되고, 일단이 고정 설비측에 접속되며, 타단이 이동체측의 노즐 헤드에 접속되는 복합 배관(60)에 있어서, 복수의 관체(61, 62)를 가요성을 갖는 피복 부재(63)로써 일체 결합하며, 액체용 관체(61) 내에 공간을 비워 액 공급관이 삽입되고, 액체용 관체(61)와 액 공급관의 공간부 내에 온도 조정용 유체(65)를 개재 가능하게 형성한다.
복합 배관, 도포 현상 처리 장치, 관체

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种显影装置;将本发明应用于＆middot包括复合管和抑制粉尘的产生，由于在同一时间，以抑制液体的温度变化，由于在移动的管长变化的复合管，摆动或膨胀 它应。

公开(公告)号：KR1020100020421A

公开(公告)日：2010-02-22

申请号：KR1020090069931

申请日：2009-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  기시타나오후미 ,  비와사토시 ,  후지무라고우지

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, a liquid treatment method and a storage medium are provide to suppress the total exhaust volume of liquid treatment equipment and to increase a array number of a substrate holding unit. CONSTITUTION: First air blow amount controllers are respectively connected to a plurality of discrete exhaust ducts(7). The first air blow amount controllers adjusts the outside blowing amount from a cup body side and the outside blowing amount from a branch pipe side. When a drug solution nozzle is a set position opposite to a substrate on a substrate holding part, a controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the cup body(4) in a first state. The controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the other cup body in a second state.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以抑制液体处理设备的总排气量并增加基板保持单元的阵列数。 构成：第一吹气量控制器分别连接到多个离散排气管道（7）。 第一吹气量控制器从分支管侧调节杯体侧的外侧吹出量和外部吹出量。 当药液喷嘴是与基板保持部件上的基板相对的设定位置时，控制器将与杯体（4）对应的第一吹气量控制器设定在第一状态。 控制器在第二状态下设定与另一杯体对应的第一吹气量控制器。

公开(公告)号：KR101990161B1

公开(公告)日：2019-06-17

申请号：KR1020140029584

申请日：2014-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기시타나오후미 ,  사카이유지

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/08 ,  H01L21/683

公开(公告)号：KR1020170140779A

公开(公告)日：2017-12-21

申请号：KR1020170073092

申请日：2017-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아베마사히로 ,  이나다히로이치 ,  아즈마토루 ,  나카시마즈네나가 ,  기시타나오후미 ,  가지와라히데키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162

Abstract: 본발명은노즐배치영역과, 복수의기판배치영역상의각각의처리위치사이에서노즐의반송이행해지는액 처리장치에대해서, 노즐에접속되는배관에의손상을억제하며, 스루풋의저하를억제하는것을과제로한다. 기판배치영역의열의후방에마련되고, 노즐(41)이배치되는노즐배치영역과, 아암(54)을선회축의둘레로수평방향으로선회시키며, 또한상기선회축을좌우방향으로이동시키기위한구동부를구비하도록장치를구성한다. 그리고, 노즐배치영역으로부터, 각각의처리위치에대응하여설정된대기위치(20A, 20B) 중, 반송처의처리위치에대응하는대기위치로, 그후방으로부터상기노즐을반송하고, 이어서상기대기위치에서상기노즐을대기시키며, 그러한후, 상기처리위치로상기노즐을반송한다. 상기대기위치는, 기판배치영역의외측이며, 전후방향에서보아처리위치와노즐배치영역사이에위치하고있다.

Abstract translation: 本发明，与相对于传送进入液体处理装置变为在每个喷嘴上配置区域的处理位置中，多个电路板放置区的，并连接到喷嘴的管子降低了损害之间的喷嘴，抑制吞吐量的降低 我们会这样做。 被提供到列底板放置区域的背面侧，喷嘴41 sikimyeo和喷嘴布置区域yibaechi，转动臂54被转动在水平方向到外围轴，从而还具有用于在左，右方向移动的枢转轴线的驱动器 配置设备。 然后，从喷嘴配置区域，在空气位置（20A，20B）被设置在对应于各处理位置，对应于传输cheoui处理位置，并从它的后部传送所喷嘴，然后将在待机位置的待机位置 然后，喷嘴返回到加工位置。 待机位置，基板配置区域的外侧，位于在前后方向上的处理位置和喷嘴配置区域之间的孔。