公开(公告)号：KR101194975B1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：KR1020060058238

申请日：2006-06-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 코미야히로시 ,  니시무라노리히코 ,  야히로슌이치

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 기판처리장치로서 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 유연하게 실시하는 것으로 기판 (G)는 그 가요성에 의해 기판 전체 길이의 일부에 반송 라인 (120)의 융기부(120a)에 모방한 돌기조의 기판 융기부(Ga)를 형성하고 한편 반송 속도에 동일한 속도로 기판 융기부(Ga)를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 융기부(120a)를 통과한다. 상향 경사로 (M₂)에서는 기판 (G)상에서 현상액 (R)이 중력에 의해 기판 후방에 흘러 기판 (G)의 전단으로부터 후단으로 향하여 거의 반송 속도에 동일한 속도로 현상액 (R)의 액막이 액활성의 상태로부터 박막 (R')의 상태로 변화한다. 기판 (G)가 하향 경사로 (M₃)으로 이동하면 윗쪽의 린스 노즐 (138)에서 띠형상의 토출류로 린스액 (S)를 공급시키고 기판 (G)상의 린스액 (S)가 착액 하는 라인 부근에서 얇은 막 상태의 현상액 (R')는 린스액 (S)에 치환되어 현상이 완전하게 정지하는 기술이 제공된다.

公开(公告)号：KR1020070000366A

公开(公告)日：2007-01-02

申请号：KR1020060058238

申请日：2006-06-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 코미야히로시 ,  니시무라노리히코 ,  야히로슌이치

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  B65G49/06 ,  H01L21/306

Abstract: A substrate processing apparatus is provided to improve the continuity between respective processes, by divisionally collecting a first processing solution, which is supplied onto a substrate to be processed on a conveyance line, and effectively replacing the first processing solution with a second processing solution. A conveyance line(120) includes a first conveyance section(M1) having a horizontal conveyance route, a second conveyance section(M2) having an upwardly inclined conveyance route, a third conveyance section(M3) having a downwardly inclined conveyance route, and a fourth conveyance section(M4) having a horizontal conveyance route. A conveyance driving part drives a conveyance structure for conveying a substrate on the conveyance line. A first processing solution supply part supplies a first processing solution onto the substrate in the first or second conveyance section. A second processing solution supply part(138) supplies a second processing solution onto the substrate in the third conveyance section.

Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，通过分割地收集在输送线上供给到待处理基板上的第一处理液，并且利用第二处理液有效地代替第一处理液，来提高各处理之间的连续性。 输送线（120）包括具有水平输送路径的第一输送部（M1），具有向上倾斜输送路径的第二输送部（M2），具有向下倾斜输送路径的第三输送部（M3） 具有水平输送路径的第四输送部（M4）。 输送驱动部驱动用于输送输送线上的基板的输送结构。 第一处理液供给部将第一处理液供给到第一或第二输送部中的基板。 第二处理溶液供应部件（138）将第二处理溶液供应到第三输送部分中的基板上。