公开(公告)号：KR1020040086389A

公开(公告)日：2004-10-08

申请号：KR1020047012742

申请日：2003-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다데츠오 ,  사사키요시아키 ,  사에키히로아키 ,  다니야마야수시 ,  다키자와히로시

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/07 ,  B65G49/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67772 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/137

Abstract: 반도체 처리 시스템(2)의 포트 구조(16A)에 있어서, 기립벽(52,54)에 형성된 포트(12A)에는 도어(20A)가 배치된다. 시스템의 외부에서 포트를 향하여 테이블(48)이 배치된다. 테이블상에는 피 처리 기판(W)의 개방형 카세트(18A)를 탑재하는 탑재영역(76)이 형성된다. 테이블에 대하여 회전 가능하게 후드(50)가 배치된다. 후드는 폐쇄위치에 있어서, 탑재영역 및 포트를 포위하는 폐쇄공간을 형성하고, 이것은 카세트를 수납하는 치수를 갖는다. 시스템의 내부로부터 후드내의 폐쇄공간으로 기체를 도입하도록, 기립벽 및 도어의 적어도 한쪽에 제 1 통기 구멍(58)이 형성된다. 폐쇄공간으로부터 외부로 기체를 배출하도록, 테이블에 제 2 통기 구멍(72)이 형성된다.

公开(公告)号：KR100572910B1

公开(公告)日：2006-04-24

申请号：KR1020047012742

申请日：2003-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다데츠오 ,  사사키요시아키 ,  사에키히로아키 ,  다니야마야수시 ,  다키자와히로시

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/07 ,  B65G49/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67772 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/137

Abstract: 반도체 처리 시스템(2)의 포트 구조(16A)에 있어서, 기립벽(52,54)에 형성된 포트(12A)에는 도어(20A)가 배치된다. 시스템의 외부에서 포트를 향하여 테이블(48)이 배치된다. 테이블상에는 피 처리 기판(W)의 개방형 카세트(18A)를 탑재하는 탑재영역(76)이 형성된다. 테이블에 대하여 회전 가능하게 후드(50)가 배치된다. 후드는 폐쇄위치에 있어서, 탑재영역 및 포트를 포위하는 폐쇄공간을 형성하고, 이것은 카세트를 수납하는 치수를 갖는다. 시스템의 내부로부터 후드내의 폐쇄공간으로 기체를 도입하도록, 기립벽 및 도어의 적어도 한쪽에 제 1 통기 구멍(58)이 형성된다. 폐쇄공간으로부터 외부로 기체를 배출하도록, 테이블에 제 2 통기 구멍(72)이 형성된다.