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公开(公告)号:KR100535715B1
公开(公告)日:2005-12-09
申请号:KR1020017005210
申请日:1999-10-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 니시나카야마야스히코 , 이시자와시게루 , 사에키히로아키 , 가와노다카시 , 오사와데쓰
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/681 , G05B19/4015 , G05B19/402 , G05B2219/37339 , G05B2219/45031 , G05B2219/49299 , H01L21/67745 , Y10S414/136
Abstract: 기준위치에 대하여 유지부(48)의 위치맞춤을 하는 반송시스템의 반송위치맞춤 방법이다. 제어부(72)에, 회전기준대(60)상의 소정위치인 오리엔터티칭 기준위치 및 용기재치대에 얹어 놓이는 카세트용기내의 소정위치인 용기티칭 기준위치에 대한 각각의 임시의 위치좌표를 미리 입력한다. 유지부(48)에 정확히 위치맞춤하여 유지시킨 피반송체(W)를 오리엔터티칭 기준위치의 임시의 위치좌표에 근거하는 제어에 의해서 회전기준대(60)까지 반송하여 옮겨싣는다. 회전기준대(60)에 재치된 피반송체(W)의 편심량과 편심방향을 위치자세검출부(62)에 의해서 검출한다. 검출된 편심량과 편심방향과 따라서 오리엔터티칭 기준위치에 대한 임시의 위치좌표를 보정하여 적정위치좌표로 한다. 다음에, 용기티칭 기준위치에 정확히 위치맞춤한 피반송체(W)를 용기티칭 기준위치의 임시의 위치좌표에 근거하는 제어에 의해서 회전기준대(60)까지 반송하여 옮겨싣는다. 회전기준대(60)에 재치된 피반송체(W)의 편심량과 편심방향을 위치자세검출부(62)에 의해서 검출한다. 검출된 편심량과 편심방향과 따라서 용기티칭 기준위치에 대한 임시의 위치좌표를 보정하여 적정위치좌표로 한다.
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公开(公告)号:KR100510031B1
公开(公告)日:2005-08-25
申请号:KR1020010030197
申请日:2001-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 신포니아 테크놀로지 가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 반도체 처리 시스템(1)은, 제 1 진공 처리 유닛(U1)과 이것에 대하여 증설된 제 2 진공 처리 유닛(U2)을 구비한다. 제 1 및 제 2 진공 처리 유닛(U1, U2)은 각각 I/O 반송실(A1, A2)을 갖는다. 반송실(A1, A2)의 케이스(3, 3')는 서로 접속되어 그 내부에 공통 반송 로봇(R)이 배치된다. 반송 로봇(R)은 반송실(A1, A2)의 레일(6, 6')이 접속됨으로써 형성되는 수평 가이드 레일(Sa, Sb)을 따라 이동한다. 수평 레일(Sa, Sb)의 직선성을 얻기 위해서 레일 조정 기구가 배치된다.
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公开(公告)号:KR1020020006461A
公开(公告)日:2002-01-19
申请号:KR1020010041436
申请日:2001-07-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/68707 , B25J9/107 , H01L21/67742 , H01L21/67745
Abstract: PURPOSE: To provide a transfer mechanism for works which can avoid causing positional deviations by providing two kinds of holders different in constitution and selectively using them for the applications. CONSTITUTION: The work transfer mechanism has at least two holders 28A, 28B for holding a work. The holders are mutually different in constitution. One of the plurality of holders has e.g. at least three elastic material-made tapered receiving members 42 having tapered receiving surfaces for contacting the edge of the work and supporting it, and another holder has at least three elastic material-made plane receiving members having plane receiving surfaces for contacting the backside of the work and supporting it. These holders are selectively used to avoid the position deviation, and it is possible to transfer a work deviated in position as well as other works.
Abstract translation: 目的:提供一种可避免造成位置偏差的作业转移机制,提供两种不同构造的保持架,并选择性地将其用于应用。 规定:工作传送机构至少有两个用于保持工作的保持器28A,28B。 持有人的构成是相互不同的。 多个保持器中的一个具有例如 至少三个具有锥形接收表面的弹性材料制成的锥形接纳件42,用于接触工件的边缘并支撑它,另一个保持器具有至少三个弹性材料制成的平面接收元件,该平面接收元件具有接触表面的后侧 工作和支持。 这些保持器被选择性地用于避免位置偏离,并且可以传送偏离位置的作品以及其他作品。
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公开(公告)号:KR100281935B1
公开(公告)日:2001-03-02
申请号:KR1019940010382
申请日:1994-05-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은, 처리용기내에 얹어놓인 한쌍의 전극사이에 플라즈마를 발생시켜서 한쌍의 전극의 한쪽의 전극상에 정전흡착용 전극을 가지는 정전흡착수단을 통하여 얹어놓인 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 때에 피처리체의 자기 바이어스 전압을 측정하는 방법으로서, 정전흡착용 전극에 인가된 직류전압을 그의 크기를 변경하는 동안에, 피처리체와 정전흡착용 전극사이의 누설전류를 검출하는 공정과, 검출된 누설전류에 기초하여 피처리체의 자기바이어스 전압을 산출하는 공정을 구비하는 자기 바이어스 측정방법 및 자기 바이어스를 측정하기 위한 장치, 및 자기 바이어스를 측정하는 것이 가능한 수단을 가지는 정전흡착장치를 제공한다.
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公开(公告)号:KR1019980018704A
公开(公告)日:1998-06-05
申请号:KR1019970038983
申请日:1997-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: l. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
카세트 챔버
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
파티클의 발생을 억제하면서, 수평으로 누워진 카세트 C를 수직으로 일으키면서 챔버내로 반입하여 웨이퍼 반출입구를 반송아암의 억세스 방향으로 향하는 것이 가능한 구동기구를 구비한 간단한 구조의 카세트 챔버를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명의 카세트 챔버는, 복수의 피처리체를 유지하는 카세트가 수용되는 공간을 형성하는 하우징과; 하우징내로 승강이 가능하게 설치되고, 회전이 가능한 샤프트를 가지는 승강대와; 샤프트에 고정되고, 샤프트의 길이방향에 대하여 소정의 각도를 이루는 보조대와; 승강대에 얹어놓이고 카세트의 바닥면을 받는 바닥면 지지부와, 보조대에 회동가능하게 지지되고 카세트의 뒷면을 받는 뒷면지지부를 가지는 카세트 지지대와;승강대의 승강동작에 따라서 샤프회전시킴으로써, 보조대와 카세트 지지대를, 하우징내의 제1의 위치와 하우징외의 제2의 위치와의 사이에서 회전시키는 회전기구와, 회전기구에 의하여 제2의 위치에로와 회전되는 카세트 지지대의 뒷면지지부와 닿아 접하며, 뒷면지지부를 보조대에 대하여 회동시키는 것에 의하여 뒷면지지부를 샤프트와 평행으로 유지하는 지지부를 구비하고 있다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체웨이퍼등의 피처리체를 수납하는 카세트가 반출입되는 카세트 챔버에 이용됨.-
公开(公告)号:KR1019940027054A
公开(公告)日:1994-12-10
申请号:KR1019940010382
申请日:1994-05-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은, 처리용기내에 얹어놓인 한쌍의 전극사이에 플라즈마를 발생시켜서 한쌍의 전극의 한쪽의 전극상에 정전흡착용 전극을 가지는 정전흡착수단을 통하여 얹어놓인 피처리체에 플라즈마 처리를 실시하는 때에 피처리체의 자기 바이어스 전압을 측정하는 방법으로서, 정전흡착용 전극에 직류전압을 그의 크기를 바꾸어가면서 인가하여 피처리체와 정전흡착용 전극사이의 누설전류를 검출하는 공정과, 검출된 누설전류에 기초하여 피처리체의 자기 바이어스 전압을 산출하는 공정을 구비하는 자기 바이어스 측정방법 및 자기 바이어스를 측정하기 위한 장치, 및 자기 바이어스를 측정하는 것이 가능한 수단을 가지는 정전흡착장치를 제공한다.
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公开(公告)号:KR100316820B1
公开(公告)日:2002-04-24
申请号:KR1019970038983
申请日:1997-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
카세트 챔버
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
파티클의 발생을 억제하면서, 수평으로 누워진 카세트 C를 수직으로 일으키면서 챔버내로 반입하여 웨이퍼 반출입구를 반송아암의 억세스 방향으로 향하는 것이 가능한 구동기구를 구비한 간단한 구조의 카세트 챔버를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명의 카세트 챔버는, 복수의 피처리체를 유지하는 카세트가 수용되는 공간을 형성하는 하우징과, 하우징내로 승강이 가능하게 설치되고, 회전이 가능한 샤프트를 가지는 승강대와; 샤프트에 고정되고, 샤프트의 길이방향에 대하여 소정의 각도를 이루는 보조대와; 승강대에 얹어놓이고 카세트의 바닥면을 받는 바닥면 지지부와, 보조대에 회동가능하게 지지되고 카세트의 뒷면을 받는 됫면지지부를 가지는 카세트 지지대와; 승강대의 승강동작에 따라서 샤프트를 회전시킴으로써, 보조대와 카세트 지지대를, 하우징내의 제 1 의 위치와 하우징외의 제 2 의 위치와의 사이에서 회전시키는 회전기구와, 회전기구에 의하여 제 2 의 위치에로와 회전되는 카세트 지지대의 뒷면지지부와 닿아 접하며, 뒷면지지부를 보조대에 대하여 회동시키는 것에 의하여 뒷면지지부를 샤프트와 평행으로 유지하는 지지부를 구비하고 있다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체웨이퍼등의 피처리체를 수납하는 카세트가 반출입되는 카세트 챔버에이용됨.-
公开(公告)号:KR1020010110143A
公开(公告)日:2001-12-12
申请号:KR1020010030197
申请日:2001-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 신포니아 테크놀로지 가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 반도체 처리 시스템(1)은, 제 1 진공 처리 유닛(U1)과 이것에 대하여 증설된 제 2 진공 처리 유닛(U2)을 구비한다. 제 1 및 제 2 진공 처리 유닛(U1, U2)은 각각 I/O 반송실(A1, A2)을 갖는다. 반송실(A1, A2)의 케이스(3, 3')는 서로 접속되어 그 내부에 공통 반송 로봇(R)이 배치된다. 반송 로봇(R)은 반송실(A1, A2)의 레일(6, 6')이 접속됨으로써 형성되는 수평 가이드 레일(Sa, Sb)을 따라 이동한다. 수평 레일(Sa, Sb)의 직선성을 얻기 위해서 레일 조정 기구가 배치된다.
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公开(公告)号:KR100304468B1
公开(公告)日:2001-11-30
申请号:KR1019980016403
申请日:1998-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명에서는, 캐리어 본체(10)에 착탈가능하게 장착되는 덮개(20)에 복수의 돌기(21)를 형성한다. 각 돌기(21)의 선단부(22)에 하프미러(23, 24)를 설치한다. 덮개(20)의 외측으로부터 돌기(21)로 향하여 웨이퍼(W)의 표면과 대략 평행한 광선을 발광소자(47)로부터 조사한다. 웨이퍼(W)가 존재하지 않는 경우, 광선은 하프미러(23, 24)에 의해 진로가 변경되어 돌기(21)의 위쪽 및 아래쪽에 있는 돌기(21)로 향한다. 광선은 광선이 입사한 돌기(21)의 위쪽 및 아래쪽에 있는 돌기(21)의 하프미러(23, 24)에 의해 재차 진로가 변경되어 돌기(21)를 통과하여 광선을 발사한 발광소자(47)의 위쪽 및 아래쪽에 있는 수광소자(48, 48)에 의해 수광된다. 웨이퍼(W)가 존재하는 경우에는 수광소자(48)는 광선을 검출하지 않는다. 이와 같이 하여, 웨이퍼(W)의 존재여부를 검출할 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020010023831A
公开(公告)日:2001-03-26
申请号:KR1020007002506
申请日:1998-09-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 사에키히로아키
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67748 , H01L21/67161 , H01L21/67201 , H01L21/67751
Abstract: 로드록기구(30)는제 1 반송실(20)과대기압의제 2 반송실(40)의사이에마련된진공실(31)을가진다. 진공실(31)은제 1 반송실(20)로개구한제 1 개구부 (31A)와, 제 2 반송실(40)로개구한한쌍의수직으로배치된제 2 개구부(31B) 및제 2 개구(31B)를개폐하는게이트밸브(34A,34B)를가진다. 진공실(31)의내부에는한쌍의수직으로배치된로드록실(32,33)이설치된다. 또한진공실(31)의내부에는로드록실(32,33)로공기를급기및 배기하기위한급배기로(31G,31H)가설치된다. 로드록실(32,33)의각각은제 1 개구부(31A)와연이어지는제 1 출입구(32A,33B) 및제 2 개구부(31B)와연이어지는제 2 출입구(32B,33B)를가진다. 제 2 개구부 (31B)가제 2 출입구(32B,33B)와연이어질때에, 진공실(31)의내부는로드록실 (32,33)의내부와차단된다.
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