公开(公告)号：KR101667898B1

公开(公告)日：2016-10-28

申请号：KR1020157027372

申请日：2014-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 래쓰삭벤자민엠

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/02269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337

Abstract: 패터닝된기판을형성하는방법(100)은, 층상기판(110)을형성하기위해, 기판상에, 진성유리전이온도(T)를갖는블록공중합체의층을캐스팅하는단계(110)를포함한다. 방법은또한, 제 1 분위기에서, 블록공중합체의진성유리전이온도(T)보다약 50 ℃이상더 높은어닐링온도에서, 층상기판을가열하는단계(120)를포함한다. 방법은, 제 2 분위기에서, 약 50 ℃/분보다더 높은레이트로, 진성유리전이온도(T)보다더 낮은퀜칭온도로, 층상기판을열적으로퀜칭하는단계(130)를더 포함한다. 방법은, 어닐링및 퀜칭온도들을블록공중합체의열적열화온도(T) 아래로유지하기위해, 제 1 및제 2 분위기에서의산소함유량을, 약 50 ppm 이하의레벨로제어하는단계(140)를더 포함한다.

公开(公告)号：KR1020150127645A

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：KR1020157027372

申请日：2014-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 래쓰삭벤자민엠

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/02269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337

Abstract: 패터닝된기판을형성하는방법(100)은, 층상기판(110)을형성하기위해, 기판상에, 진성유리전이온도(T)를갖는블록공중합체의층을캐스팅하는단계(110)를포함한다. 방법은또한, 제 1 분위기에서, 블록공중합체의진성유리전이온도(T)보다약 50 ℃이상더 높은어닐링온도에서, 층상기판을가열하는단계(120)를포함한다. 방법은, 제 2 분위기에서, 약 50 ℃/분보다더 높은레이트로, 진성유리전이온도(T)보다더 낮은퀜칭온도로, 층상기판을열적으로퀜칭하는단계(130)를더 포함한다. 방법은, 어닐링및 퀜칭온도들을블록공중합체의열적열화온도(T) 아래로유지하기위해, 제 1 및제 2 분위기에서의산소함유량을, 약 50 ppm 이하의레벨로제어하는단계(140)를더 포함한다.

公开(公告)号：KR1020150013778A

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：KR1020147035028

申请日：2013-05-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 래쓰삭벤자민엠 ,  서머벨마크에이치 ,  간디미나크쉬순다람

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24802

Abstract: 계층화 구조물을 패터닝하기 위한 방법은, 아래 놓인 기판의 수평면 상에 현상된 프리패턴 층을 제공하기 위해 포토리소그래피를 수행하는 단계, 이격된 무기 물질 가이드들을 형성하도록 프리패턴 층을 변형하는 단계, 측방향으로 이격된 원통형 피처들을 형성하기 위해 자가 조립 블록 코폴리머(self-assembling block copolymer)의 층을 캐스트 및 어닐링하는 단계, 자가 조립 블록 코폴리머의 하나의 블록의 적어도 일부를 선택적으로 제거함으로써 패턴을 형성하는 단계, 및 아래 놓인 기판에 패턴을 전사하는 단계를 포함한다. 본 방법은 50nm 미만의 패터닝된 계층화 구조물들을 제조하기에 적합하다.