公开(公告)号：KR1020120002428A

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：KR1020110052622

申请日：2011-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오따요시하루 ,  모리야마시게루 ,  마쯔무라유우끼 ,  다나까시게끼

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70291 ,  H01L27/1288 ,  H01L21/0275 ,  G03F7/70466

Abstract: PURPOSE: A local site exposure apparatus and a local site exposure method and a storage medium are provided to suppress the line width of a wire pattern and the deviation of a pitch by improving the uniformity of a resist remaining film. CONSTITUTION: A transfer roller(20) horizontally sends back a substrate according to a substrate carrier way. A chamber(8) forms an exposure treatment space to a substrate while covering the certain section of a substrate carrier way. A light source(4) is comprised of a plurality of light emitting devices in a line type in a cross direction of the transferring the substrate. A substrate detection sensor(30) detects the substrate which is returned with the transfer roller. A controller(40) controls the drive of the light emitting device by an LED driving unit(9).

Abstract translation: 目的：提供局部曝光装置和局部曝光方法以及存储介质，通过提高抗蚀剂残留膜的均匀性来抑制线图案的线宽和间距的偏差。 构成：转印辊（20）根据衬底载体的方式水平地回送衬底。 腔室（8）在覆盖衬底载体方式的某一部分的同时在衬底上形成曝光处理空间。 光源（4）由转移衬底的交叉方向的线型的多个发光器件构成。 基板检测传感器（30）检测由转印辊返回的基板。 控制器（40）通过LED驱动单元（9）控制发光器件的驱动。

公开(公告)号：KR101672559B1

公开(公告)日：2016-11-03

申请号：KR1020110052622

申请日：2011-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오따요시하루 ,  모리야마시게루 ,  마쯔무라유우끼 ,  다나까시게끼

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70291 ,  H01L27/1288

Abstract: 본발명의과제는, 기판면내에있어서의현상처리후의레지스트잔여막의균일성을향상시켜, 배선패턴의선 폭및 피치의편차를억제하는것이다. 기판반송수단(20)과, 피처리기판(G)에대한노광처리공간을형성하는챔버(8)와, 기판반송방향에교차하는방향으로라인형상으로배열된복수의발광소자(L)를갖고, 하방을반송되는피처리기판상의감광막에대해, 상기발광소자의발광에의해광 조사가능한광원(4)과, 상기광원을구성하는복수의발광소자중, 1개또는복수의발광소자를발광제어단위로하여선택적으로발광구동가능한발광구동부(9)와, 상기기판반송수단에의해반송되는상기피처리기판을검출하는기판검출수단(30)과, 상기기판검출수단에의한기판검출신호가공급되는동시에, 상기발광구동부에의한상기발광소자의구동을제어하는제어부(40)를구비한다.

Abstract translation: 用于对形成在基板上的感光膜的特定区域进行曝光处理的局部曝光装置包括：基板传送器，被配置为限定基板输送路径，并且沿着基板输送路径水平地输送基板;被配置为限定曝光 处理空间，包括线性排列在基板输送路径上方的多个发光元件的光源，被配置为选择性地驱动光源的一个或多个发光元件的发光驱动单元，被配置为 检测由基板输送机输送的基板，以及控制单元，其配置为控制发光驱动单元，使得当感光膜的比表面积在光源下方移动时，仅能够照射给定区域的发光元件 被驱动以发光。