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公开(公告)号:KR1020150060564A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:KR1020140164178
申请日:2014-11-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L51/00 , B05D1/00 , C23C16/452 , C23C16/50
CPC classification number: C23C16/50 , B05D1/60 , B05D1/62 , B05D3/0433 , C23C16/452 , H01L51/001
Abstract: 유기단분자막을단시간에제어성좋게형성할수 있는유기단분자막의형성방법및 형성장치를제공한다. 피처리체표면에유기재료가스를공급하여유기단분자막을형성함에있어, 챔버(1)내의피처리체 S에, 피처리체의표면과화학결합을형성하는결합사이트를가지는유기분자를포함하는유기재료가스를공급함과아울러, 유기재료가스가피처리체 S에도달하기전에유기재료가스에여기수소생성기구(4)에의해생성한여기수소를공급하여유기분자의결합사이트의말단을수소로치환하고, 그후, 상기수소로치환된말단과피처리체 S의반응에의해유기단분자막을형성한다.
Abstract translation: 提供一种形成有机单分子膜的方法和装置,其可以在短时间内形成具有良好可控性的有机单分子膜。 当通过将有机材料气体供给到物体的表面来形成有机单分子膜时,本发明将包含具有与物体表面形成化学键的结合位点的有机分子的有机材料气体提供给 在室(1)中的物体S,并且在有机材料气体到达物体之前,通过将由激发氢气产生装置(4)产生的激发的氢气供给到有机材料气体而将氢有机分子的结合位点的末端取代 此外,本发明通过由氢置换的末端与其后的物体S之间的反应形成有机单分子膜。
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公开(公告)号:KR102205225B1
公开(公告)日:2021-01-19
申请号:KR1020187016443
申请日:2016-10-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01L21/67 , C23C16/44
Abstract: 표면에산화막이형성된부재가접속되거나, 또는표면에산화막을갖는챔버내를진공으로유지하면서, 챔버내에할로겐계가스를공급하여피처리체에소정의처리를행하는처리장치에있어서, 챔버내에서피처리체에대한소정의처리를 1회또는복수회 행하고, 그후, 챔버에산소가스또는드라이에어를공급하여챔버를퍼지하고, 그후 챔버를대기개방한다.
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