公开(公告)号：KR101465849B1

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：KR1020127014889

申请日：2010-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤

Inventor： 사사키야스하루 ,  마스자와겐지 ,  마카베도시유키 ,  고사카이마모루 ,  사토우다카시 ,  이시무라가즈노리 ,  하야하라류우지 ,  고우노히토시

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32642 ,  H01J2237/332 ,  H01J2237/338 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: 본 발명은 정전 척부와, 이 정전 척부를 둘러싸도록 마련된 환상의 포커스 링부와, 이들 정전 척부 및 포커스 링부를 냉각하는 냉각 베이스부에 의해 구성되고, 포커스 링부는 환상의 포커스 링과, 환상의 열전도 시트와, 환상의 세라믹 링과, 비자성체의 히터와, 이 히터에 급전하는 전극부를 구비하여 이루어지는 정전 척 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020140108141A

公开(公告)日：2014-09-05

申请号：KR1020140022509

申请日：2014-02-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미오카다케토시 ,  고히라다쿠 ,  마카베도시유키

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6875 ,  Y10T279/23

Abstract: A purpose of the present invention is to restrain ununiformity of temperatures in a central area and an edge area of a workpiece. A mounting table includes: a base part having a flow path for a refrigerant formed therein; and an electrostatic chuck which is mounted on the base part and has a mounting surface for mounting the workpiece to electrostatically absorb the workpiece. The base part includes: a first upper surface on which the electrostatic chuck is mounted; a ring-shaped second upper surface which is located lower than the first upper side on the outside of the first upper side to mount a focus ring; and a side surface extending between the first upper surface and the second upper surface in the vertical direction. The flow path extends from the lower part of the second upper surface, and has a part extending toward the first upper surface along the side surface from the lower part of the first upper surface. The mounting surface has a plurality of dot-shaped convex parts coming in contact with the rear side of the workpiece, and in relation with the size per unit area of the area where the convex parts and the rear side of the workpiece come in contact with each other, the edge area of the mounting surface is larger than the area of the central part of the mounting surface.

Abstract translation: 本发明的目的是抑制工件的中心区域和边缘区域中的温度的不均匀性。 安装台包括：具有形成在其中的制冷剂的流路的基部; 以及安装在基座上并具有用于安装工件的安装表面以静电吸收工件的静电卡盘。 基部包括：安装有静电卡盘的第一上表面; 位于第一上侧的外侧的第一上侧的环状的第二上表面，以安装聚焦环; 以及在垂直方向上在第一上表面和第二上表面之间延伸的侧表面。 流路从第二上表面的下部延伸，并且具有从第一上表面的下部沿着侧面向第一上表面延伸的部分。 安装面具有与工件的后侧接触的多个点状凸部，并且与工件的凸部和后侧接触的区域的每单位面积的尺寸相关联 彼此之间，安装表面的边缘区域大于安装表面的中心部分的面积。

公开(公告)号：KR1020120115257A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：KR1020127014889

申请日：2010-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  스미토모 오사카 세멘토 가부시키가이샤

Inventor： 사사키야스하루 ,  마스자와겐지 ,  마카베도시유키 ,  고사카이마모루 ,  사토우다카시 ,  이시무라가즈노리 ,  하야하라류우지 ,  고우노히토시

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32642 ,  H01J2237/332 ,  H01J2237/338 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: 본 발명은 정전 척부와, 이 정전 척부를 둘러싸도록 마련된 환상의 포커스 링부와, 이들 정전 척부 및 포커스 링부를 냉각하는 냉각 베이스부에 의해 구성되고, 포커스 링부는 환상의 포커스 링과, 환상의 열전도 시트와, 환상의 세라믹 링과, 비자성체의 히터와, 이 히터에 급전하는 전극부를 구비하여 이루어지는 정전 척 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR102112368B1

公开(公告)日：2020-05-18

申请号：KR1020140022509

申请日：2014-02-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미오카다케토시 ,  고히라다쿠 ,  마카베도시유키

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065