公开(公告)号：KR101139180B1

公开(公告)日：2012-04-26

申请号：KR1020060121846

申请日：2006-12-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리까와가쯔히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68742 ,  Y10S414/135

Abstract: 본 발명은, 기판을 반송하는 반송 아암과, 반송 아암에 의해 반송된 기판을 반송 아암으로부터 수취하는 적재부를 구비하는 기판 반송 장치에 있어서, 반송 아암에 설치되고 적재부를 검출하는 적재부 검출 장치와, 반송 아암을 승강 및 수평 방향으로 이동하는 이동 수단과, 적재부 검출 장치로부터의 검출 신호를 기초로 하여 단계를 이동 수단을 제어하는 제어 장치를 구비한다. 반송 아암에 의해 반송되는 웨이퍼를 스핀척에 운반할 때, 적재부 검출 장치가 스핀척의 적재부를 검출한 후, 제어기로부터의 제어 신호를 기초로 하여 이동 수단이 구동되어 반송 아암 경사 방향으로 하강하여 기판을 적재부 상에 적재한다. 따라서, 고속이면서 고정밀도로 안정한 기판의 반송 및 적재부단으로의 운반을 행할 수 있다.
웨이퍼 카세트, 카세트 스테이션, 처리 스테이션, 카세트 적재대, 반송 아암

公开(公告)号：KR101039210B1

公开(公告)日：2011-06-03

申请号：KR1020060083188

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  이시다세이끼 ,  야마모또다로오 ,  모리까와가쯔히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03D3/08 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: 본 발명은 기판의 이면에 부착되어 있던 액적을 기초로 하는 기판으로의 액적의 재부착 등의 오염을 억제할 수 있는 기판 반송 장치를 제공하는 것이다.
액체 침투 노광된 기판을 반송하는 아암 본체를 구비한 기판 반송 장치에 있어서, 상기 아암 본체에 마련되고, 기판의 이면에 있어서의 주연부보다도 내부측을 지지하는 지지부와, 상기 기판 주연부의 위치를 규제하기 위해 상기 지지부에 대해 상기 기판의 주연부를 끼워서 대향하는 위치에 마련된 규제부와, 상기 지지부와 규제부 사이에 있어서의 기판의 이면보다도 하방 위치에 마련된 액받이부를 구비하도록 기판 반송 장치를 구성한다. 기판 이면의 주연부에 부착된 액적은 액받이부 상에 도피할 수 있다. 이로 인해, 반복 기판의 반송이 행해져 액받이부에 액적이 축적되었다고 해도, 기판의 주연부가 액받이부에 충돌할 우려가 없으므로, 그 액적이 비산하여 기판의 표면에 부착되거나 하는 일이 억제된다.
반도체 웨이퍼, 기판 반송 장치, 반송 아암, 아암 본체, 규제부, 지지부

公开(公告)号：KR101682721B1

公开(公告)日：2016-12-05

申请号：KR1020100069751

申请日：2010-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리까와가쯔히로 ,  노부꾸니지까라 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명의과제는웨이퍼반송기구나노즐이동기구등의각 이동기구에대해, 각각의적절한시기에자동급지를행할수 있는도포, 현상장치를제공하는것이다. 제어부(8)는이동기체(11)에대해급지를행한후에있어서의당해이동기체(11)의사용시간을계측하여, 이동기체(11)의가이드레일(10)의단부에급지기구(3a)를설치하여, 이하의타이밍으로이동기체(11)를급지기구(3a)측으로이동시켜급지를행한다. 즉, 이동기체(11)의사용시간이미리정한급지의주기를넘었을때에, 이동기체(11)가준비기간중, 또는휴지기간중이면자동급지를행한다. 또한, 캐리어(C)로부터하나의로트의최종기판이불출되었을때에도캐리어(C)로부터다음로트의선두기판의불출을지연시켜, 상기최종기판에관한당해이동기체(11)의작업이종료된후, 이동기체(11)에대해급지를행한다.

Abstract translation: 目的：提供一种涂料显影装置，通过允许在加工其它基材的同时进料基板来提高装置的生产率。 构成：载体接收多个基板。 进给单元（3c）自动地供给基板。 在处理模块和曝光装置之间允许接口块。 接口块包括传送衬底的加载工具。

公开(公告)号：KR1020070059980A

公开(公告)日：2007-06-12

申请号：KR1020060121846

申请日：2006-12-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리까와가쯔히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68742 ,  Y10S414/135 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68714

Abstract: A substrate transfer method is provided to improve throughput and product yield by precisely transferring a transfer arm and a substrate of a loading unit at a high speed. While a transfer arm(4) is transferred to a portion over a loading unit and a substrate is carried to the surface of the loading unit, the transfer arm is descended in a slope direction to load the substrate into the loading unit. After the loading part of the loading unit is detected by a loading part detecting apparatus installed in the transfer arm, the transfer arm is descended in a slope direction.

Abstract translation: 提供了基板转印方法，以通过高速精确地转印装载单元的转印臂和基板来提高产量和产量。 当转移臂（4）转移到装载单元上的部分并且基板被运送到装载单元的表面时，转移臂在倾斜方向下降以将基板装载到装载单元中。 在通过安装在传送臂中的装载部分检测装置检测到装载单元的装载部分之后，传送臂沿倾斜方向下降。

公开(公告)号：KR1020110009031A

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：KR1020100069751

申请日：2010-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리까와가쯔히로 ,  노부꾸니지까라 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/16

Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus is provided to increase the productivity of the device by allowing a substrate to be fed while other substrates are processed. CONSTITUTION: A carrier receives a plurality of substrates. A feeding unit(3c) supplies the substrates automatically. An interface block is allowed in between a process module and an exposure apparatus. The interface block includes a loading tool transferring the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种涂料显影装置，通过允许在加工其它基材的同时进料基板来提高装置的生产率。 构成：载体接收多个基板。 进给单元（3c）自动地供给基板。 在处理模块和曝光装置之间允许接口块。 接口块包括传送衬底的加载工具。

公开(公告)号：KR1020070026176A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060083188

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  이시다세이끼 ,  야마모또다로오 ,  모리까와가쯔히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03D3/08 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

Abstract: A substrate transfer apparatus, a substrate transfer method and a coating-developing apparatus are provided to prevent the contamination of a substrate by using a liquid collecting unit between a support unit and an adjusting unit. A substrate transfer apparatus comprises a support unit, an adjusting unit, and a liquid collecting unit. The support unit(54,65) is installed at an arm body to support an inner portion of a rear surface of a substrate. The adjusting unit(51,61) is installed opposite to the support unit to adjust the position of a periphery of the substrate. The liquid collecting unit(53,64) is installed at a predetermined portion between the support unit and the adjust unit. The liquid collecting unit is located under the substrate.

Abstract translation: 提供了基板转印装置，基板转印方法和涂布显影装置，以通过在支撑单元和调节单元之间使用液体收集单元来防止基板的污染。 基板输送装置包括支撑单元，调节单元和液体收集单元。 支撑单元（54,65）安装在臂体上以支撑基板的后表面的内部。 调整单元（51,61）与支撑单元相对地安装以调节基板的周边的位置。 液体收集单元（53,64）安装在支撑单元和调节单元之间的预定部分。 液体收集单元位于基底之下。