기판 처리 장치의 관리 방법, 및 기판 처리 시스템
    1.
    发明公开
    기판 처리 장치의 관리 방법, 및 기판 처리 시스템 审中-实审
    管理基板处理装置的方法和基板处理系统

    公开(公告)号:KR1020170113099A

    公开(公告)日:2017-10-12

    申请号:KR1020170029944

    申请日:2017-03-09

    Abstract: 기판의주연부의막 제거에관한정보를관리함으로써, 기판처리장치를장기적으로안정되게운용할수 있다. 기판처리레시피에기초하여처리된기판의주연부를상기촬상부(270)에의해촬상함으로써얻어진촬상화상에기초하여, 상기막의제거폭을측정하는측정처리공정(S103)과, 상기막의제거폭의설정값과, 상기측정처리공정에의해측정된막의제거폭의측정값과, 상기측정결과를얻은시각정보를관련시킨관리리스트를작성하는작성공정(S602)과, 상기작성된관리리스트에기초하여기판처리의상태를분석하는분석공정(S603, S606)과, 상기분석공정에의한분석결과에따라, 사용자에대하여정해진알림을행하는알림공정(S605, S608, S609)을구비한다.

    Abstract translation: 通过管理关于衬底周边上的膜去除的信息,衬底处理设备可以长时间稳定地操作。 基于衬底的工艺配方在由成像单元270通过图像拾取获得的拍摄图像的基板的周缘的部分的基础上,测量膜除去宽度的测量处理(S103)的设置,该膜被去除宽度 (S602)创建管理列表,该管理列表将由测量处理步骤测量的膜的厚度的测量值与通过测量结果获得的时间信息相关联, (S603,S606)以及用于根据分析处理的分析结果向用户通知确定结果的通知处理(S605,S608,S609)。

    기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 처리 방법
    3.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 처리 방법 审中-实审
    基板处理装置及基板处理装置的处理方法

    公开(公告)号:KR1020170113097A

    公开(公告)日:2017-10-12

    申请号:KR1020170029936

    申请日:2017-03-09

    Abstract: 기판의주연부에대향한위치에촬상장치를배치해도양호한촬상을할 수있도록한다. 기판(W)의주연부의막을제거하는처리를행하는기판처리장치(16)로서, 상기기판을유지하여회전시키는회전유지부(210)와, 상기회전유지부에의해기판이제 1 회전방향(R)으로회전하고있을때, 상기기판의주연부에상기막을제거하기위한제 1 처리액을공급하는제 1 처리액공급부(250A)와, 상기제 1 회전방향에관하여상기기판에있어서의제 1 처리액의도달영역(902)보다앞의위치에설치되고상기기판의주연부를촬상하는촬상부(270)를구비한다.

    Abstract translation: 因此,即使将摄像元件配置在与基板周边相对的位置上,也能够得到良好的图像。 的基板(W)作为基板处理装置16执行去除义州边缘的膜,旋转保持部210的过程中,衬底现在是一个旋转方向(R)由所述旋转固定单元,用于保持和旋转所述衬底 当在衬底中的第一处理液的范围相对于旋转到第一处理剂供给用于在基板的周缘,第一旋转方向去除所述薄膜供应第一处理液部(250A) 摄像单元270设置在区域902前方的位置处并捕获基板的周边部分。

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