公开(公告)号：KR101883013B1

公开(公告)日：2018-07-27

申请号：KR1020120140319

申请日：2012-12-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B05C5/02 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/42 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은다른약액이서로섞이는것을억제하는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판처리장치(1)는, 웨이퍼(W)를수평으로유지하는기판유지부(21)와, 기판유지부(21)를회전시키는회전구동부(24)와, 웨이퍼(W)의주연부를향해서제1 약액을토출하는제1 약액노즐(73)과, 웨이퍼(W)의주연부를향해서제1 약액과는다른종류의제2 약액을토출하는제2 약액노즐(83)과, 제1 약액노즐(73) 및제2 약액노즐(83)을이동시키는제1 노즐구동부(70) 및제2 노즐구동부(80)를구비하고있다. 각약액노즐(73, 83)은, 웨이퍼(W)의주연부를향해서약액을토출할때에위치하는처리위치와, 약액을토출하지않을때에위치하는대기위치사이에서, 각노즐구동부(70, 80)에의해서각각이동시켜진다. 여기서, 각대기위치는각 처리위치보다웨이퍼(W)의중심측에위치하고있다.

公开(公告)号：KR1020170015162A

公开(公告)日：2017-02-08

申请号：KR1020160091917

申请日：2016-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고다가즈야 ,  아마노요시후미 ,  야마모토노부야 ,  아야베고

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: B08B13/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6708

Abstract: 본발명은복수의액처리부에서의압력변동을억제하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 복수의액처리부와, 복수의개별배기로와, 공통배기로와, 제1 외기도입부와, 제1 조정밸브와, 제2 외기도입부와, 제2 조정밸브를구비한다. 복수의액처리부는, 피처리체를액처리한다. 복수의개별배기로는, 액처리부내부로부터의배기가흐른다. 공통배기로는, 복수의개별배기로로부터의배기가흐른다. 제1 외기도입부는, 공통배기로에있어서개별배기로가접속되는복수의접속부위보다최상류측에형성되어외기를도입한다. 제1 조정밸브는, 제1 외기도입부에설치되어외기의유량을조정한다. 제2 외기도입부는, 공통배기로에있어서복수의접속부위중 최상류에위치하는접속부위보다하류측에형성되어외기를도입한다. 제2 조정밸브는, 제2 외기도입부에설치되어외기의유량을조정한다.

Abstract translation: 液体处理装置包括多个液体处理单元，多个单独的排气路径，公共排气路径，第一外部空气进入部分，第一调节阀，第二外部空气进入部分和第二调节阀。 液体处理单元对加工对象物进行液体处理。 来自液体处理单元的内部的废气在各个排气路径中流动。 来自各个排气通道的废气在公共排气路径中流动。 第一外部空气进入部分形成在最上游侧以引入外部空气。 第一调节阀设置在第一外部空气吸入部。 第二外部空气进入部分形成在公共排气路径从连接处的下游侧。 第二调节阀设置在第二外部空气吸入部。

公开(公告)号：KR1020160120661A

公开(公告)日：2016-10-18

申请号：KR1020160038442

申请日：2016-03-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미

IPC: H01L21/677

CPC classification number: B08B1/002 ,  B08B11/02 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67715 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67796

Abstract: 표면을상향으로한 기판과이면을상향으로한 기판의양방을취급하는경우에있어서, 기판의표리의상태관리의복잡화를억제하는것이다. 실시형태에따른기판처리시스템은, 제 1 처리블록과제 2 처리블록과반전기구를구비한다. 제 1 처리블록은, 기판에있어서의제 1 면을상향으로한 상태에서기판의처리를행하는제 1 처리유닛과, 제 1 처리유닛에대하여기판의반입반출을행하는제 1 반송장치를포함한다. 제 2 처리블록은, 기판에있어서의제 1 면과는반대측의면인제 2 면을상향으로한 상태에서기판의처리를행하는제 2 처리유닛과, 제 2 처리유닛에대하여기판의반입반출을행하는제 2 반송장치를포함한다. 반전기구는제 1 처리블록으로부터제 2 처리블록으로의기판의반송경로의도중에배치되고, 기판을반전시킨다.

Abstract translation: 在处理面朝上的基板和面朝上的基板的情况下，能够抑制基板的表面和背面的状态管理的复杂性。 根据实施例的基板处理系统包括第一处理块任务2处理块和反转机构。 第一处理单元包括：第一处理单元，用于在基板的第一表面朝上的情况下执行基板的处理;以及第一传输设备，用于将基板载入和载出第一处理单元。 第二处理单元包括第二处理单元和第二处理单元，该第二处理单元利用与面向上的基板的第一面相对的两个面内面执行基板的处理， 还有第二个运输设备。 反转机构布置在从第一处理块到第二处理块的基板的传送路径的中间，并且反转基板。

公开(公告)号：KR1020140052850A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：KR1020130125123

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: The purpose of the present invention is to reduce a burden of an exhaust system which absorbs a cup body and to prevent effectively a processing liquid from being attached to a substrate after the processing liquid supplied to the substrate is scattered from the substrate. When a substrate (W) is processed, a protective wall (52) of a ring shape is located on the substrate which is maintained on a substrate maintaining unit (3). The protective wall (52) of the ring shape is extended along a circumference direction of the substrate. A radius direction position of a circumference edge unit of the protective wall lower side is same as a radius direction position of an inner circumference edge of the circumference edge unit of the upper side of the substrate which is maintained on the substrate maintaining unit or is located on the outside of the radius direction. A first air gap (G1) is formed between the protective wall and the upper side of the substrate. A second air gap (G2) is formed between the protective wall and a wall body (262) which defines an upper opening of the cup body. Gas located in the upper side of the substrate is inserted into an internal space of the cup body through the first and second air gaps if the internal space of the cup body (2) is absorbed.

Abstract translation: 本发明的目的是减少吸收杯体的排气系统的负担，并且在从基板散射供给到基板的处理液散布后，有效地防止处理液附着于基板。 当处理基板（W）时，环状的保护壁（52）位于保持在基板保持单元（3）上的基板上。 环状的保护壁（52）沿着基板的圆周方向延伸。 保护壁下侧的周缘部的半径方向位置与保持在基板保持部上的基板的上侧的周缘部的内周缘的位置的半径方向位置相同 在半径方向的外侧。 在保护壁和基板的上侧之间形成第一气隙（G1）。 第二气隙（G2）形成在保护壁和限定杯体的上部开口的壁体（262）之间。 如果杯体（2）的内部空间被吸收，则位于基板上侧的气体通过第一和第二气隙被插入杯体的内部空间。

公开(公告)号：KR1020120028212A

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：KR1020110070476

申请日：2011-07-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02087 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a memory medium are provided to increase process efficiency due to chemical solutions by heating a substrate, gas, and chemical solutions with a lamp heater. CONSTITUTION: A chemical solution supply unit supplies chemical solutions to an edge of a substrate. A cover member(5) faces the upper side of a substrate held in a substrate holding unit with a preset space. A gas supply unit is formed on the cover member to supply gas to a space. A lamp heater is arranged around the substrate in the space to heat the edge of the substrate. A protrusion unit(55) is downwardly protruded around the cover member.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过用灯加热器加热基板，气体和化学溶液来提高由化学溶液引起的工艺效率。 构成：化学溶液供应单元向基材的边缘提供化学溶液。 盖构件（5）面向保持在具有预设空间的基板保持单元中的基板的上侧。 在盖构件上形成气体供给单元，以将气体供给到空间。 在该空间中的基板周围布置灯加热器以加热基板的边缘。 突出单元（55）围绕盖构件向下突出。

公开(公告)号：KR1020110138144A

公开(公告)日：2011-12-26

申请号：KR1020110030723

申请日：2011-04-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  가네코사토시

IPC: H01L21/68

CPC classification number: B23Q3/15 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68714 ,  Y10T29/49998 ,  Y10T279/11 ,  Y10T279/23 ,  Y10T279/26

Abstract: PURPOSE: A location determining device, a substrate treating device, and a method for fixing a reference member are provided to set a reference member on a fixed location and accurately mount the reference member on a support unit. CONSTITUTION: A reference member(11) provides a reference for determining a location. A support unit(12) supports the reference member. A pin hole is formed in the support unit. A pin(14) is inserted into the pin hole. A first fixing member(13) is formed in the support unit to fix the reference member and the support unit. The first fixing member includes an opening(17), a vacuum pump(18), and an exhaust duct(19).

Abstract translation: 目的：提供位置确定装置，基板处理装置和固定参考部件的方法，以将参考部件设置在固定位置，并将参考部件精确地安装在支撑单元上。 构成：参考构件（11）为确定位置提供参考。 支撑单元（12）支撑参考构件。 在支撑单元中形成销孔。 销（14）插入针孔。 第一固定构件（13）形成在支撑单元中以固定基准构件和支撑单元。 第一固定构件包括开口（17），真空泵（18）和排气管道（19）。

公开(公告)号：KR1020110125165A

公开(公告)日：2011-11-18

申请号：KR1020110031859

申请日：2011-04-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a recording medium in which a program is recorded are provided to precisely process a substrate by accurately measuring a size of the substrate and transferring measured information to a processing unit. CONSTITUTION: A location determination mechanism unit(10) determines the location of a processed substrate(30). The location determination mechanism unit comprises a reference unit(11), a supporting unit(12), and a driving unit(13). A detection unit detects the location of the location determination mechanism unit. A memory unit(52) memorizes the location of the location determination mechanism unit as standard position information. An operation unit(53) produces difference of the standard position information and the location information of the location determination mechanism unit which is detected in the detection unit.

Abstract translation: 目的：提供记录有程序的基板处理装置，基板处理方法和记录介质，通过精确地测量基板的尺寸并将测量信息传送到处理单元来精确地处理基板。 构成：位置确定机构单元（10）确定处理过的衬底（30）的位置。 位置确定机构单元包括参考单元（11），支撑单元（12）和驱动单元（13）。 检测单元检测位置确定机构单元的位置。 存储单元（52）将位置确定机构单元的位置存储为标准位置信息。 操作单元（53）产生在检测单元中检测到的标准位置信息和位置确定机构单元的位置信息的差异。

公开(公告)号：KR1020170113098A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170029940

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  모리타사토시 ,  이케베료지 ,  미야모토이사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/02087 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67259 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 제거해야할 주연부의막의종별에의존하지않고, 신속하게주연부의막이적절히제거되어있는지를판단할수 있다. 상기기판(W)의막의종별에관한정보를취득하는취득공정(S502)과, 미리기억부에기억된측정용설정의테이블중에서, 상기취득한막의종별에대응하는측정용설정을선택하는선택공정(S503)과, 상기선택공정에서선택된측정용설정을사용하여상기촬상부(270)에상기기판의주연부를촬영하도록제어하는제어공정(S504)을구비한다.

Abstract translation: 可以快速判断周边部分的膜是否被正确地移除而不取决于要移除的周边部分的膜的类型。 用于获取在所述基板（W）uimak的类型的信息，从所述测量配置的表，用于存储预先存储的部分的获取步骤（S502）的选择处理中，选择测量设置为对应于所得到的膜型（ 以及控制步骤（S504），控制成像单元（270）使用在选择步骤中选择的测量设置来拍摄基板的周边部分。

公开(公告)号：KR1020170113097A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170029936

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  모리타사토시 ,  이케베료지 ,  미야모토이사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/02087 ,  B08B3/08 ,  G03B13/32 ,  G03B17/08 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67259 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 기판의주연부에대향한위치에촬상장치를배치해도양호한촬상을할 수있도록한다. 기판(W)의주연부의막을제거하는처리를행하는기판처리장치(16)로서, 상기기판을유지하여회전시키는회전유지부(210)와, 상기회전유지부에의해기판이제 1 회전방향(R)으로회전하고있을때, 상기기판의주연부에상기막을제거하기위한제 1 처리액을공급하는제 1 처리액공급부(250A)와, 상기제 1 회전방향에관하여상기기판에있어서의제 1 처리액의도달영역(902)보다앞의위치에설치되고상기기판의주연부를촬상하는촬상부(270)를구비한다.

Abstract translation: 因此，即使将摄像元件配置在与基板周边相对的位置上，也能够得到良好的图像。 的基板（W）作为基板处理装置16执行去除义州边缘的膜，旋转保持部210的过程中，衬底现在是一个旋转方向（R）由所述旋转固定单元，用于保持和旋转所述衬底 当在衬底中的第一处理液的范围相对于旋转到第一处理剂供给用于在基板的周缘，第一旋转方向去除所述薄膜供应第一处理液部（250A） 摄像单元270设置在区域902前方的位置处并捕获基板的周边部分。

公开(公告)号：KR1020150006781A

公开(公告)日：2015-01-19

申请号：KR1020140077970

申请日：2014-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  오카모토에이이치로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/08 ,  H01L21/66

CPC classification number: B08B13/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67259

Abstract: 본 발명은 장치의 대형화를 초래하는 일없이 간단하면서 확실하게 노즐로부터의 처리액의 토출을 확인할 수 있도록 하는 것을 과제로 한다.
기판에 대하여 처리액을 토출하는 노즐을 가지며, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출 상태를 확인용 지그를 이용하여 확인할 수 있게 한 기판 처리 장치를 구비하는 기판 처리 시스템으로서, 상기 노즐로부터 토출된 처리액을 받는 액수용부를 갖는 확인용 지그가 상기 기판 처리 장치의 정해진 위치에 설치되었음을 검출하는(단계 S103) 지그 센서부와, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출이 금지되어 있는 상태에서 상기 지그 센서부의 검출에 기초하여 상기 확인용 지그가 상기 기판 처리 장치의 정해진 위치에 설치되었다고 판단한 경우, 상기 노즐의 처리액의 토출을 허가한다(단계 S106).

Abstract translation: 本发明的目的是简单且完美地确定来自喷嘴的处理溶液的排放而不扩大装置。 基板处理系统具有基板处理装置，该基板处理装置具有用于排出基板的处理液的喷嘴，并使用检查夹具从喷嘴确定处理液的排出状态。 基板处理系统包括夹具传感器单元，用于检测具有用于接收从喷嘴排出的处理溶液的溶液接收单元的检查夹具是否安装在基板处理装置的预定位置（步骤S103）; 以及控制单元，用于控制来自喷嘴的处理溶液的排出。 如果根据夹具传感器单元的检测确定检查夹具安装在基板处理装置的预定位置，则控制单元允许从喷嘴排出处理溶液。 禁止从喷嘴处理溶液（步骤S016）。