公开(公告)号：KR101790453B1

公开(公告)日：2017-10-25

申请号：KR1020160142920

申请日：2016-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의막종, 표면상태, 기판의검출위치등에영향받지않고, 기판의유지상태를정확히검출할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판을처리하는기판처리장치는, 기판이배치되는배치대(32)와, 상기배치대상의상기기판의표면에광을조사하는광원(88)과, 상기기판의표면에서반사된광량을검출하는검출부(89)와, 검출된상기광량의검출값이미리정해진값보다작은지의여부를판정하는판정처리를복수의위치에서행하여, 상기검출값이상기정해진값보다작다고판정된횟수의합계가미리정해진횟수에도달했을때, 상기기판의유지상태가정상이아니라고판정하는제어부(100)를갖는다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，其能够在不受基板的基板种类，表面状态，检测位置的影响的情况下正确地检测基板的保持状态。 1。一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，包括：载置基板的载物台;向配置的基板的表面照射光的光源; 检测器89和用于确定在多个位置是否比光的检测量的预定检测值越小值预处理进行判断，确定的次数的总和比移相器预定值的检测值小的预定的次数 控制器100确定基板的保持状态不正常。

公开(公告)号：KR1020120102477A

公开(公告)日：2012-09-18

申请号：KR1020110040843

申请日：2011-04-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리타사토시 ,  오가타노부히로 ,  나가미네슈이치 ,  기요타겐지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B15/002 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a recording medium with a computer program for performing the liquid processing method are provided to suppress the variation of pressure in a liquid processing unit by controlling a valve. CONSTITUTION: A plurality of liquid processing units(3A-3E) process an object. A common exhaust duct(6) discharges the atmosphere of the liquid processing units. An individual exhaust duct(35) connects each liquid processing unit to the common exhaust duct. An opening and closing device(5) is opened or closed in the individual exhaust duct. An external air suction unit(65) suctions external air in the common exhaust duct.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，液体处理方法和具有用于执行液体处理方法的计算机程序的记录介质，以通过控制阀来抑制液体处理单元中的压力变化。 构成：多个液体处理单元（3A-3E）处理物体。 普通排气管（6）排出液体处理单元的气氛。 单个排气管道（35）将每个液体处理单元连接到公共排气管道。 在各个排气管中打开或关闭开闭装置（5）。 外部空气抽吸单元（65）吸入公共排气管道中的外部空气。

公开(公告)号：KR1020110037854A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：KR1020100093233

申请日：2010-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미다준야 ,  우에다잇세이 ,  조우노야스히로 ,  구로다오사무 ,  에시마가즈요시 ,  요시다마사히로 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to increase the number of a substrate to be processed in parallel by forming a solution processing block in a plurality of solution processing unit. CONSTITUTION: In a substrate processing apparatus, an FOUP(Front-Opening Unified Pod)(7) receiving a wafer in a batch block(11). A transfer block(12) draws out the wafer from the FOUP to load it into a solution process unit(1). A transport block(13) transfers the wafer to a solution processing block. The solution processing block load from the solution processing block to processes it with the solution. A lifting apparatus(134) transfer the wafer between a first transfer shelf and a second transfer shelf.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过在多个解决方案处理单元中形成解决处理块来并行地增加待处理的基板的数量。 构成：在衬底处理装置中，在批块（11）中接收晶片的FOUP（前开口统一荚）（7）。 转移块（12）从FOUP中取出晶片以将其装载到溶液处理单元（1）中。 输送块（13）将晶片转移到溶液处理块。 解决方案处理块从解决方案处理块中处理它与解决方案。 升降装置（134）在第一转运架和第二转运架之间转移晶片。

公开(公告)号：KR1020170113099A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170029944

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  모리타사토시 ,  이케베료지 ,  미야모토이사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67132 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 기판의주연부의막 제거에관한정보를관리함으로써, 기판처리장치를장기적으로안정되게운용할수 있다. 기판처리레시피에기초하여처리된기판의주연부를상기촬상부(270)에의해촬상함으로써얻어진촬상화상에기초하여, 상기막의제거폭을측정하는측정처리공정(S103)과, 상기막의제거폭의설정값과, 상기측정처리공정에의해측정된막의제거폭의측정값과, 상기측정결과를얻은시각정보를관련시킨관리리스트를작성하는작성공정(S602)과, 상기작성된관리리스트에기초하여기판처리의상태를분석하는분석공정(S603, S606)과, 상기분석공정에의한분석결과에따라, 사용자에대하여정해진알림을행하는알림공정(S605, S608, S609)을구비한다.

Abstract translation: 通过管理关于衬底周边上的膜去除的信息，衬底处理设备可以长时间稳定地操作。 基于衬底的工艺配方在由成像单元270通过图像拾取获得的拍摄图像的基板的周缘的部分的基础上，测量膜除去宽度的测量处理（S103）的设置，该膜被去除宽度 （S602）创建管理列表，该管理列表将由测量处理步骤测量的膜的厚度的测量值与通过测量结果获得的时间信息相关联， （S603，S606）以及用于根据分析处理的分析结果向用户通知确定结果的通知处理（S605，S608，S609）。

公开(公告)号：KR101524334B1

公开(公告)日：2015-05-29

申请号：KR1020110040843

申请日：2011-04-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리타사토시 ,  오가타노부히로 ,  나가미네슈이치 ,  기요타겐지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B15/002 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173

Abstract: 본발명은피처리체를액처리하는액처리부내의압력의변동을억제할수 있는액처리장치를제공한다. 본발명에따른액처리장치(1)는, 피처리체(W)에대하여처리액을공급하여피처리체(W)를액처리하는복수의액처리부(3)와, 복수의액처리부(3) 내의분위기를배출하는공통배기로(6)와, 액처리부(3)의각각과공통배기로(6)를연결하는개별배기로(35)와, 개별배기로(35)에개폐가능하게마련된개폐기구(5)와, 공통배기로(6)에외기를취입하는외기취입부(65)를구비하고있다. 공통배기로(6)에는, 외기취입부(65)로부터취입되는외기의유량을조정하는취입량조정밸브가마련되어있다. 제어부(100)는, 개폐기구(5)의각각의개폐상태에기초하여, 취입량조정밸브의개방도를제어하도록되어있다.

公开(公告)号：KR1019980064626A

公开(公告)日：1998-10-07

申请号：KR1019970073699

申请日：1997-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기무라요시오 ,  모리타사토시 ,  마쓰야마유지 ,  셈바노리오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리액 공급기구
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
다수개의 처리장치로 처리액을 공급할 수 있으며, 탈기부재가 처리액에 침지되어 있음으로써, 높은 효율로 현상액을 탈기할 수 있는 신규하고 개선된 처리액 공급기구를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
처리액을 담은 탱크와, 탱크로부터 장치로 처리액을 공급하기 위한 공급경로와, 처리장치내에 마련된 처리액 토출부재로 처리액을 공급하기 위하여 공급경로에 접속된 분기경로 및 분기경로에 마련된 밸브로 각각 구성된다. 밸브들은 상호간에 하나의 처리장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하는 동안 다른 장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하도록 상기 분기경로를 개폐하기 위하여 제어된다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체제조장치등의 레지스트도포막 현상처리장치등에 사용됨.

公开(公告)号：KR101476870B1

公开(公告)日：2014-12-26

申请号：KR1020100093233

申请日：2010-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미다준야 ,  우에다잇세이 ,  조우노야스히로 ,  구로다오사무 ,  에시마가즈요시 ,  요시다마사히로 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: 본발명은, 문제가발생한경우에도, 장치전체를정지시키지않고기판처리를계속할수 있을가능성이높은기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 본발명에따른기판처리장치(1)는, 기판(W)을반송하기위한제1, 제2 기판반송기구(141a, 141b)와, 이기판반송기구(141a, 141b)의좌우양측에각각마련되며, 동일한처리가행해지는처리유닛의열 U1∼U4를구비한제1, 제2 처리블록(14a, 14b)을구비하고있다. 일측의처리유닛의열 U1, U3 및타측의처리유닛의열 U2, U4는각각공통화된처리유체공급계(3a, 3b)와접속되어있다. 그리고, 어떤기판반송기구(141a, 141b), 처리유체공급계(3a, 3b)에문제가발생하면, 건전한기판반송기구(141b, 141a), 처리유체공급계(3b, 3a)가담당하는처리유닛의열 U1∼U4에서기판(W)을처리한다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，即使发生问题，也能够在不停止装置整体的情况下继续基板处理。 根据本发明的基板处理装置1中，分别在右侧和左侧的第一和第二衬底输送装置的侧面（141A，141B），并且是用于将基底板输送机构（141A，141B）（W） 第一和第二处理块14a和14b具有相同处理的处理单元U1至U4。 的其他U2的一侧，U3和热的处理单元，所述处理单元的热U1，U4与过程流体供给系统（3A，3B）中共同使用的分别连接。 此外，任何基板搬送机构（141A，141B）中，如果与所述处理流体供给系统的一个问题（3A，3B）时，音板输送机构（141B，141A），所述处理流体供应系统（图3b，3a）的接合处理单元 衬底W在行U1至U4中被处理。

公开(公告)号：KR1020130005239A

公开(公告)日：2013-01-15

申请号：KR1020120072698

申请日：2012-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L22/12

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a computer-readable storage medium having program for executing the substrate processing method stored therein are provided to accurately detect the state of a substrate by changing the quantity of light according to an inclined angle of the substrate. CONSTITUTION: A substrate(W) is arranged on an arrangement table(32). The arrangement table includes a lift pin plate(41), a retaining plate(42) and a clamp member(43). A light source(88) irradiates light to the substrate surface placed on the arrangement table. A detection unit(89) detects the quantity of light reflected on the surface of the substrate. A processing liquid supplying tool(33) supplies process to the substrate. A rotation tool(35) rotates the arrangement table. [Reference numerals] (AA) To 35, 47, 77, 79; (BB) From FFU; (CC) From 100

Abstract translation: 目的：提供具有执行存储在其中的基板处理方法的程序的基板处理装置，基板处理方法和计算机可读存储介质，以通过根据倾斜角度改变光量来精确地检测基板的状态 的基底。 构成：衬底（W）布置在排列台（32）上。 排列台包括升降销板（41），固定板（42）和夹紧构件（43）。 光源（88）将光照射到布置台上的基板表面。 检测单元（89）检测在基板的表面上反射的光量。 处理液供给工具（33）向基板供给工序。 旋转工具（35）旋转排列台。 （附图标记）（AA）至35,47,77,79; （BB）从FFU; （CC）从100

公开(公告)号：KR100224463B1

公开(公告)日：1999-10-15

申请号：KR1019960012023

申请日：1996-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기무라요시오 ,  모리타사토시 ,  마츠야마유지

IPC: H01L21/312

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B14/00 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005

Abstract: In the present invention, a waste solution and a exhaust gas are guided together from a drain cup DC into a storing means through common discharge means. Naturally, the gas-liquid separation is performed within the storing means in place of performing the gas-liquid separation within the drain cup DC. Therefore, the waste solution is not solidified within the drain cup so as to plug the common discharge means. Also, a predetermined waste solution is kept stored in the storing means included in the coating apparatus of the present invention, making it possible to permit the surface of the stored waste solution to absorb the mist, and the waste solution is prevented from being solidified within the storing means. Further, since a minimum amount of the exhaust gas is kept discharged even during non-operation of the coating apparatus by using an exhaust gas damper whose degree of opening can be controlled, the waste solution stored in the storing means is prevented from being solidified. Also, the waste solution evaporated within the storing means can be released to the outside.

公开(公告)号：KR100199681B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960000126

申请日：1996-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔야마유우지 ,  쓰네마쯔구니에 ,  후쿠다다카히데 ,  이즈미시니치로 ,  기무라요시오 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/4482

Abstract: 처리제를 처리장치로 공급하는 장치는 액체 처리제를 저장하는 탱크와 탱크속에 구비되어 나선형 관에 의해 형성되는 열교환기를 가지고 있다. 질소가스(N
2 가스)가 탱크 속으로 도입되어 액체 처리제를 증발시킨다. 물은 열교환기의 하부에 연결된 유체 도입관으로부터 열교환기의 나선형관을 통해 열교환기의 상부에 연결된 유체 배출관으로 공급된다. 열교환기에서 물과 액체 처리제 사이의 열교환은 매우 효율적으로 수행된다. 전기를 사용하지 않아 안정성이 매우 높다.
버블링 공정에 의해 기체상태로 변화되는 액체 처리제의 온도는 효율적으로 제어되며, 탱크속에서 기화된 처리제의 농도는 안정화된다.