公开(公告)号：KR1020160009542A

公开(公告)日：2016-01-26

申请号：KR1020157029719

申请日：2014-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 츠지모토히로시 ,  미즈타니도모유키

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67069

Abstract: 플라즈마에칭장치는, 처리용기와, 처리용기내에설치된기판을유지하는유지부와, 처리용기내에설치된유지부와대향하는전극판을갖는다. 또한, 플라즈마에칭장치는, 유지부와전극판사이에끼워진공간에처리가스를공급하기위한, 기판의직경방향에대하여동심원형으로 n(n은 2 이상의자연수)개로분할된영역각각에배치되어, 영역각각에균등간격으로형성된가스공급구멍으로부터처리가스를공급하는복수의공급부를갖는다. 또한, 플라즈마에칭장치는, 유지부또는전극판중 적어도한쪽에고주파전력을공급함으로써, 복수의공급부에의해공간에공급된처리가스를플라즈마화하는고주파전원을갖는다. 또한, 플라즈마에칭장치는, 영역각각의가스공급구멍으로부터공급되는가스유량을제어한다.

公开(公告)号：KR102155395B1

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：KR1020157029719

申请日：2014-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 츠지모토히로시 ,  미즈타니도모유키

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01J37/32

公开(公告)号：KR102109229B1

公开(公告)日：2020-05-11

申请号：KR1020157028892

申请日：2014-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈타니도모유키 ,  츠지모토히로시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32

公开(公告)号：KR1020160006675A

公开(公告)日：2016-01-19

申请号：KR1020157028892

申请日：2014-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈타니도모유키 ,  츠지모토히로시

IPC: H01L21/3065 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46 ,  H01L21/02 ,  H01L21/54

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01L21/3065

Abstract: 일실시형태에서는가스를공급하는방법이제공된다. 이방법은, 처리가스를제1 분기라인및 제2 분기라인을통해중앙가스도입부및 주변가스도입부에각각공급하는공정과, 부가가스용의가스라인에있어서하류측의밸브를닫고, 상기밸브와상류의유량제어기사이의관에부가가스를충전하는공정과, 부가가스의충전후에밸브를개방하는공정과, 밸브의개방후에, 고주파전원으로부터상부전극및 하부전극의한쪽에고주파전력을공급하는공정을포함한다.