公开(公告)号：KR100628393B1

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：KR1020037014519

申请日：2002-04-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가야마노부유키 ,  미츠하시코지 ,  나카야마히로유키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4405 ,  C23C16/4404

Abstract: 플라즈마 처리 용기의 챔버에 사용되는 챔버내 부품은 피복제로 이루어지는 피복막을 갖는다. 피복막 상에 형성된 디포지트를 갖는 챔버내 부품은 챔버와 분리되어 아세톤등의 박리액에 침지된다. 피복제는 고리화 고무-비스아지드 등의 주성분과 감광제로 이루어지기 때문에, 디포지트는 분리되는 피복막과 함께 챔버내 부품으로 부터 분리될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040007543A

公开(公告)日：2004-01-24

申请号：KR1020037014519

申请日：2002-04-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가야마노부유키 ,  미츠하시코지 ,  나카야마히로유키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: C23C16/4405 ,  C23C16/4404

Abstract: 피복막을 형성하는 피복제(51)를 고리화 고무-비스아지드 등의 주성분과 감광제로 이루어지는 레지스트로 하고, 챔버내 부품(50)에 형성된 피복제(51)의 피복막에 퇴적한 디포지트(52)를 챔버(22)내로부터 분리한 챔버내 부품(50)과 함께 아세톤 등의 박리액에 침지함으로써, 피복막에 부착한 채로 피복막의 박리와 함께 챔버내 부품(50)으로부터 분리할 수 있다.