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    파티클 부착 방지 방법 및 피처리 기판의 반송 방법
    1.
    发明公开
    파티클 부착 방지 방법 및 피처리 기판의 반송 방법 有权
    转移室和防止颗粒粘结的方法

    公开(公告)号：KR1020100091128A

    公开(公告)日：2010-08-18

    申请号：KR1020100011629

    申请日：2010-02-08

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 야마와쿠준 ,  오이카와준지 ,  나카야마히로유키

    IPC: H01L21/00

    CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6831

    Abstract: PURPOSE: A transferring chamber and a method for preventing particles from being attached are provided to prevent the attachment of particles due to electrostatic force by neutralizing the particles using an ionizing gas. CONSTITUTION: A transferring chamber(4) is arranged between a pressurizing unit and an atmospheric-based sustention unit and transfers substrates between the pressurizing unit and the atmospheric-based sustention unit. The substrates are loaded in the main body(51) of the chamber. An exhausting device(53) implements an exhausting operation with respect to the inside of the main body. A gas supplying unit converts the inside of the main body into atmospheric environment. An ionizing gas supplying unit supplies an ionizing gas from an ionizer to the main body.

    Abstract translation: 目的：提供传送室和防止颗粒附着的方法，以通过使用电离气体中和颗粒来防止由于静电力而附着颗粒。 构成：传送室（4）设置在加压单元和基于大气的维持单元之间，并且在加压单元和基于大气的维持单元之间传送基板。 基板被装载在室的主体（51）中。 排气装置（53）相对于主体的内部实施排气操作。 气体供给单元将主体的内部转换成大气环境。 离子化气体供给单元将离子交换器的离子化气体供给到主体。

    감압 처리실내의 부재 청정화 방법과, 청정도 평가방법과, 청정화 종점 검출 방법과, 기판 처리 장치 및비산 미립자 검출 장치
    5.
    发明公开
    감압 처리실내의 부재 청정화 방법과, 청정도 평가방법과, 청정화 종점 검출 방법과, 기판 처리 장치 및비산 미립자 검출 장치 有权
    用于在分解过程室中净化成员的方法，用于测量纯度的方法，用于检测终点净化的方法，基板处理装置以及用于检测散粒成分的散射颗粒的装置

    公开(公告)号：KR1020050022359A

    公开(公告)日：2005-03-07

    申请号：KR1020040066689

    申请日：2004-08-24

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 모리야츠요시 ,  나가이케히로시 ,  나카야마히로유키

    IPC: H01L21/30

    CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/12 ,  H01J37/32862 ,  H01L21/6831

    Abstract: PURPOSE: An apparatus for detecting scattered particles is provided to purify a member by scattering the particles attached to a member in a decompression process chamber. CONSTITUTION: The particles scattered from a member in a decompression process chamber(100) is detected. A light source irradiates incident light to the decompression process chamber to pass through the space over the member. A light detecting unit detects scattered light caused by the particles, installed at a predetermined angle with the incident light. The member may be a stage(110) for mounting a substrate to be processed. The incident light is irradiated in parallel with the stage.

    Abstract translation: 目的：提供一种用于检测散射颗粒的装置，通过将附着在构件上的颗粒散布在减压处理室中来净化构件。 构成：检测从减压处理室（100）中的构件散射的粒子。 光源将入射光照射到减压处理室以穿过构件上方的空间。 光检测单元检测由与入射光以预定角度安装的颗粒所引起的散射光。 构件可以是用于安装待处理衬底的台架（110）。 入射光与舞台平行地照射。

    전극 구조체 및 기판 처리 장치
    7.
    发明授权
    전극 구조체 및 기판 처리 장치 有权
    电极结构和基板加工设备

    公开(公告)号：KR101117922B1

    公开(公告)日：2012-03-14

    申请号：KR1020090024901

    申请日：2009-03-24

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 나카야마히로유키 ,  혼다마사노부 ,  마스자와겐지 ,  이와타마나부

    IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065

    Abstract: 본 발명의 과제는 처리 공간에 있어서의 기판의 주연부에 대향하는 부분에서 전자 밀도를 충분히 상승시킬 수 있는 전극 구조체를 제공하는 것이다. 웨이퍼(W)에 RIE 처리를 실시하는 기판 처리 장치(10)가 구비하는 처리실(11) 내에 배치되고, 해당 처리실(11) 내에 있어서 서셉터(12)에 탑재된 웨이퍼(W)와 대향하는 상부 전극(31)은 서셉터(12)에 탑재된 웨이퍼(W)의 중심부에 대향하는 내측 전극(34)과 해당 웨이퍼(W) 주연부에 대향하는 외측 전극(35)을 구비하고, 내측 전극(34)에는 제 1 직류 전원(37)이 접속되고, 또한 외측 전극(35)에는 제 2 직류 전원(38)이 접속되며, 외측 전극(35)은 서셉터(12)에 탑재된 웨이퍼(W)에 평행한 제 1 이차 전자 방출면(35a)에 대하여 웨이퍼(W)를 향해서 경사지는 제 2 이차 전자 방출면(35b)을 갖는다.

    기판 처리 장치 및 배기 방법
    8.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 배기 방법 有权
    基板加工设备及其排气方法

    公开(公告)号：KR1020100105493A

    公开(公告)日：2010-09-29

    申请号：KR1020100024310

    申请日：2010-03-18

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 야마와쿠준 ,  오이카와준지 ,  나카야마히로유키

    IPC: H01L21/3065

    CPC classification number: H01L21/67017

    Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and an exhausting method are provided to prevent an exhaust flowing path from being clogged due to particles in an exhausted gas from a chamber by charging the particles and the inner wall of the exhaust flowing path. CONSTITUTION: Substrates are contained in a processing container(50). An exhaust flowing path(51) exhausts a exhausted gas from the inside of the processing chamber. One or a plurality of exhaust pumps(52) is arranged on the exhausting flowing path. A unit for removing harmless(53) traps harmful components from the exhausted gas. An ionizing gas supplying unit(55) supplies an ionizing gas for charging particles in the exhausted gas.

    Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和排气方法，以通过对颗粒和排气流动路径的内壁进行充填来防止排气流动路径由于来自室的排出气体中的颗粒而堵塞。 构成：底物包含在处理容器（50）中。 排气流路51从处理室的内部排出排出的气体。 在排气流路上布置有一个或多个排气泵（52）。 用于消除无害（53）的单元从排气中捕获有害成分。 电离气体供给单元（55）为排出气体中的粒子供给电离气体。

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