-
公开(公告)号：KR101871064B1
公开(公告)日：2018-06-25
申请号：KR1020160158229
申请日：2016-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 처리장치의스테이지에대한복수의리프트핀이상대적인이동에기인하는파티클의발생을억제하고, 또한스테이지상으로의피가공물의반송정밀도를향상시킨다. 일실시형태의처리장치에서는, 처리용기내에스테이지가설치되어있다. 스테이지에는복수의리프트핀용의복수의관통구멍이형성되어있다. 복수의리프트핀은, 지지체를통하여스플라인축에의해지지되어있다. 스플라인축은, 스플라인축받이에의해상하이동가능하게지지되어있다. 복수의리프트핀은, 스프링부재에의해스플라인축을통하여상방으로가압되어있다. 스플라인축, 스플라인축받이및 스프링부재는, 처리용기내의감압가능한공간으로부터분리된처리용기의외부의공간에설치되어있다.
-
公开(公告)号：KR1020170064999A
公开(公告)日：2017-06-12
申请号：KR1020160158229
申请日：2016-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 처리장치의스테이지에대한복수의리프트핀이상대적인이동에기인하는파티클의발생을억제하고, 또한스테이지상으로의피가공물의반송정밀도를향상시킨다. 일실시형태의처리장치에서는, 처리용기내에스테이지가설치되어있다. 스테이지에는복수의리프트핀용의복수의관통구멍이형성되어있다. 복수의리프트핀은, 지지체를통하여스플라인축에의해지지되어있다. 스플라인축은, 스플라인축받이에의해상하이동가능하게지지되어있다. 복수의리프트핀은, 스프링부재에의해스플라인축을통하여상방으로가압되어있다. 스플라인축, 스플라인축받이및 스프링부재는, 처리용기내의감압가능한공간으로부터분리된처리용기의외부의공간에설치되어있다.
Abstract translation: 多个升降销相对于处理装置的工作台抑制了由于相对移动而产生的颗粒，并提高了工件在工作台上的输送精度。 在一个实施方式的处理装置中，在处理容器内设有载物台。 在台中形成多个用于多个升降销的通孔。 多个升降销通过支架固定在花键轴上。 花键轴被花键轴承支撑为可上下移动。 多个升降销由弹簧部件通过花键轴向上推动。 花键轴，花键轴承及弹簧部件设置在与处理容器内的减压空间分离的处理容器外的空间内。
-
公开(公告)号：KR101813420B1
公开(公告)日：2017-12-28
申请号：KR1020167011101
申请日：2014-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 고지마,야스히코 , 소네,히로시 , 고미,아츠시 , 나카무라,간토 , 기타다,도루 , 스즈키,야스노부 , 스즈키,유스케 , 다카츠키,고이치 , 히라사와,다츠오 , 사토,게이스케 , 야스무로,치아키 , 시마다,아츠시
CPC classification number: C23C14/0036 , C23C14/0063 , C23C14/081 , C23C14/165 , C23C14/352 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12
Abstract: 일실시형태의성막장치는처리용기를구비한다. 처리용기내에는적재대가설치되어있고, 적재대의상방에는금속타깃이설치되어있다. 또한, 헤드가, 산화가스를적재대를향해서분사하도록구성되어있다. 이헤드는, 적재대상에서피처리체가적재되는적재영역과금속타깃과의사이의제1 영역과, 금속타깃과적재영역과의사이의공간으로부터이격된제2 영역과의사이에서이동가능하다.
Abstract translation: 膜装置的一个实施例包括处理容器。 处理容器内设有装载台，在装载台上方设有金属靶。 此外，头部构造成朝向装载台注入氧化气体。 头部是第一区域和从金属靶和装载区域和所述目标对象装载在金属靶，加载目的地之间的装载区域之间的空间分隔的第二区域之间移动。
-
公开(公告)号：KR1020160078969A
公开(公告)日：2016-07-05
申请号：KR1020167011101
申请日：2014-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 고지마,야스히코 , 소네,히로시 , 고미,아츠시 , 나카무라,간토 , 기타다,도루 , 스즈키,야스노부 , 스즈키,유스케 , 다카츠키,고이치 , 히라사와,다츠오 , 사토,게이스케 , 야스무로,치아키 , 시마다,아츠시
CPC classification number: C23C14/0036 , C23C14/0063 , C23C14/081 , C23C14/165 , C23C14/352 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12
Abstract: 일실시형태의성막장치는처리용기를구비한다. 처리용기내에는적재대가설치되어있고, 적재대의상방에는금속타깃이설치되어있다. 또한, 헤드가, 산화가스를적재대를향해서분사하도록구성되어있다. 이헤드는, 적재대상에서피처리체가적재되는적재영역과금속타깃과의사이의제1 영역과, 금속타깃과적재영역과의사이의공간으로부터이격된제2 영역과의사이에서이동가능하다.
Abstract translation: 根据一个实施例的沉积装置包括处理容器。 安装台安装在加工容器的内部，金属靶被安装在安装台的上方。 此外，头部构造成朝向安装台注入氧化气体。 该头部构造成在限定在金属靶和安装在安装台上的目标物体的安装区域之间的第一区域和从金属靶和安装区域之间限定的空间间隔开的第二区域之间移动。 出版物摘要该沉积装置设有处理容器。 在处理容器中设置有安装平台，在安装平台的上方设置有金属靶。 此外，头部构造成朝向安装平台喷射氧化气体。 该头部可以在金属靶和安装在安装平台上的工件的安装区域之间的第一区域和与金属靶材与安装区域之间的空间分离的第二区域之间移动。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.018 seconds)
