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公开(公告)号:KR101900215B1
公开(公告)日:2018-09-18
申请号:KR1020177019593
申请日:2016-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L43/12 , C23C14/082 , C23C14/165 , C23C14/34 , C23C14/568 , C23C14/5853 , H01F10/16 , H01F10/3254 , H01F10/3286 , H01F41/18 , H01L27/105 , H01L43/08 , H01L43/10
Abstract: 수직자화형자기터널접합소자를형성하는방법이제공된다. 이방법은, 피처리체의제1 자성층상에터널배리어층을형성하는공정과, 터널배리어층이형성된피처리체를냉각하는공정과, 냉각하는공정후에, 터널배리어층상에제2 자성층을형성하는공정을포함한다.
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公开(公告)号:KR101813420B1
公开(公告)日:2017-12-28
申请号:KR1020167011101
申请日:2014-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 고지마,야스히코 , 소네,히로시 , 고미,아츠시 , 나카무라,간토 , 기타다,도루 , 스즈키,야스노부 , 스즈키,유스케 , 다카츠키,고이치 , 히라사와,다츠오 , 사토,게이스케 , 야스무로,치아키 , 시마다,아츠시
CPC classification number: C23C14/0036 , C23C14/0063 , C23C14/081 , C23C14/165 , C23C14/352 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12
Abstract: 일실시형태의성막장치는처리용기를구비한다. 처리용기내에는적재대가설치되어있고, 적재대의상방에는금속타깃이설치되어있다. 또한, 헤드가, 산화가스를적재대를향해서분사하도록구성되어있다. 이헤드는, 적재대상에서피처리체가적재되는적재영역과금속타깃과의사이의제1 영역과, 금속타깃과적재영역과의사이의공간으로부터이격된제2 영역과의사이에서이동가능하다.
Abstract translation: 膜装置的一个实施例包括处理容器。 处理容器内设有装载台,在装载台上方设有金属靶。 此外,头部构造成朝向装载台注入氧化气体。 头部是第一区域和从金属靶和装载区域和所述目标对象装载在金属靶,加载目的地之间的装载区域之间的空间分隔的第二区域之间移动。
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3.수직 자화형 자기 터널 접합 소자를 형성하는 방법, 및 수직 자화형 자기 터널 접합 소자의 제조 장치 审中-实审
Title translation: 形成垂直磁化型磁隧道结元件的方法和制造垂直磁化型磁隧道结元件的装置公开(公告)号:KR1020170095982A
公开(公告)日:2017-08-23
申请号:KR1020177019593
申请日:2016-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L43/12 , C23C14/082 , C23C14/165 , C23C14/34 , C23C14/568 , C23C14/5853 , H01F10/16 , H01F10/3254 , H01F10/3286 , H01F41/18 , H01L27/105 , H01L43/08 , H01L43/10 , C23C14/58 , H01F10/26
Abstract: 수직자화형자기터널접합소자를형성하는방법이제공된다. 이방법은, 피처리체의제1 자성층상에터널배리어층을형성하는공정과, 터널배리어층이형성된피처리체를냉각하는공정과, 냉각하는공정후에, 터널배리어층상에제2 자성층을형성하는공정을포함한다.
Abstract translation: 提供了一种形成垂直磁化型磁隧道结元件的方法。 该方法包括形成冷却处理和隧道势垒层的步骤的一个工序中的加工,以形成所述物体的所述第一磁性层和,冷却的步骤之后在隧道势垒层的对象,以形成隧道势垒层上的第二磁性层 它包括。
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公开(公告)号:KR1020160078969A
公开(公告)日:2016-07-05
申请号:KR1020167011101
申请日:2014-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 고지마,야스히코 , 소네,히로시 , 고미,아츠시 , 나카무라,간토 , 기타다,도루 , 스즈키,야스노부 , 스즈키,유스케 , 다카츠키,고이치 , 히라사와,다츠오 , 사토,게이스케 , 야스무로,치아키 , 시마다,아츠시
CPC classification number: C23C14/0036 , C23C14/0063 , C23C14/081 , C23C14/165 , C23C14/352 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01L43/08 , H01L43/10 , H01L43/12
Abstract: 일실시형태의성막장치는처리용기를구비한다. 처리용기내에는적재대가설치되어있고, 적재대의상방에는금속타깃이설치되어있다. 또한, 헤드가, 산화가스를적재대를향해서분사하도록구성되어있다. 이헤드는, 적재대상에서피처리체가적재되는적재영역과금속타깃과의사이의제1 영역과, 금속타깃과적재영역과의사이의공간으로부터이격된제2 영역과의사이에서이동가능하다.
Abstract translation: 根据一个实施例的沉积装置包括处理容器。 安装台安装在加工容器的内部,金属靶被安装在安装台的上方。 此外,头部构造成朝向安装台注入氧化气体。 该头部构造成在限定在金属靶和安装在安装台上的目标物体的安装区域之间的第一区域和从金属靶和安装区域之间限定的空间间隔开的第二区域之间移动。 出版物摘要该沉积装置设有处理容器。 在处理容器中设置有安装平台,在安装平台的上方设置有金属靶。 此外,头部构造成朝向安装平台喷射氧化气体。 该头部可以在金属靶和安装在安装平台上的工件的安装区域之间的第一区域和与金属靶材与安装区域之间的空间分离的第二区域之间移动。
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