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公开(公告)号:KR1020160049463A
公开(公告)日:2016-05-09
申请号:KR1020150142640
申请日:2015-10-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32266 , H01J37/32944
Abstract: (과제) 전자파의전파를억제함으로써챔버내에있어서의이상방전의발생을억제하는것을목적으로한다. (해결수단) 가스를챔버내에공급하고, 전자파의전력에의해가스로부터플라즈마를생성하고, 유지대에유지된기판에소정의플라즈마처리를실시하는플라즈마처리장치로서, 전자파발생기로부터출력된전자파를전파시켜, 상기챔버내에투과시키는유전체창과, 상기유전체창을지지하는지지부재와, 상기유전체창에인접하는돌출부를갖고, 상기지지부재가배치된공간과플라즈마생성공간을구획하는구획부재와, 상기돌출부에의해상기플라즈마생성공간에노출되지않도록, 상기구획부재와상기유전체창의사이에배치되는도전성부재를갖는플라즈마처리장치가제공된다.
Abstract translation: 本发明通过抑制电磁波的电波来抑制室内异常放电的发生。 等离子体处理装置将气体供应到室中,通过电磁波的动力从气体产生等离子体,并对保持器上的基板进行预定的等离子体处理。 等离子体处理装置包括:电介质窗,其扩展从电磁发生器输出的电磁波,以将电磁波传输到室中; 支撑构件,其支撑介电窗口; 分隔构件,其具有与所述电介质窗口相邻的突出部分并且分隔所述支撑构件设置的空间和等离子体产生空间; 以及导电构件,其设置在所述分隔构件和所述电介质窗口之间,以避免通过所述突出部暴露于所述等离子体产生空间。