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公开(公告)号：KR1020160140388A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：KR1020160060282
申请日：2016-05-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/321 , H01L21/02274 , H01L21/02315 , H01L21/3065
Abstract: 본발명은반경이상이한동심원형으로배치된복수의슬롯으로부터방사되는마이크로파의분포를원하는분포로조정하는것을과제로한다. 플라즈마처리장치는, 처리용기와, 처리용기의내부에플라즈마여기용의마이크로파를방사하는복수의슬롯이반경이상이한동심원형으로배치되어형성된복수의슬롯군을갖는슬롯판과, 슬롯판위에설치되어, 복수의슬롯군에마이크로파를전파시키는유전체와, 유전체위에설치된도전체로서, 유전체와대향하는하면에있어서, 복수의슬롯군중 적어도하나의슬롯군과, 다른슬롯군사이에끼인영역에대응하는영역에홈이형성된도전체와, 도전체의홈으로이동가능하게삽입되는스터브를가지며, 스터브의삽입량에따라서, 유전체로부터적어도하나의슬롯군및 다른슬롯군에각각전파되는마이크로파의파워비를변경하는파워비변경기구를구비한다.
Abstract translation: 发明内容本发明克服了将从具有期望半径的同心圆布置的多个槽辐射的微波分布调整到期望的分布的需要。 该等离子体处理装置包括处理容器，具有多个由同心圆形成的多个槽组的多个槽板，多个槽径向地辐射用于处理容器内的等离子体激发的微波， 一种用于将微波传播到多个槽组的电介质构件;以及设置在电介质体上的导体，其中，多个槽组中的至少一个和与另一个槽组相对应的区域 从介质传播到至少一个槽组和其他槽组的微波的功率比根据短截线的插入量而变化， 和一个功率比改变机制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150064693A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：KR1020140170638
申请日：2014-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/3222 , H01J37/32192 , H01J37/32238 , H01P1/08
Abstract: (과제) 플라즈마의면 내균일성을개선가능한유전체창, 안테나및 플라즈마처리장치를제공한다. (해결수단) 이유전체창(16)의한쪽면측에는슬롯판(20)이배치된다. 유전체창(16)의다른쪽 면은, 고리형상의제 1 오목부(147)에둘러싸인평탄면과, 제 1 오목부(147)의저면에형성된복수의제 2 오목부(153)(153a~153g)를구비하고있다. 본발명의안테나는, 유전체창(16)과, 유전체창(16)의한쪽면에마련된슬롯판(20)을구비하고있고, 이것은플라즈마처리장치에적용할수 있다.
Abstract translation: 提供能够改善等离子体表面的均匀性的电介质窗，天线和等离子体处理装置。 插槽板（20）布置在电介质窗（16）的一侧。 由形成在第一凹部（147）的下侧的环状的第一凹部（147）和形成在第一凹部（147）的下侧的多个第二凹部（153,153a-153g）包围的平面形成在 电介质窗（16）。 根据本发明的天线包括形成在电介质窗（16）的一侧上并被施加到等离子体处理装置的电介质窗（16）和槽板（20）。
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公开(公告)号：KR1020160049463A
公开(公告)日：2016-05-09
申请号：KR1020150142640
申请日：2015-10-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32266 , H01J37/32944
Abstract: (과제) 전자파의전파를억제함으로써챔버내에있어서의이상방전의발생을억제하는것을목적으로한다. (해결수단) 가스를챔버내에공급하고, 전자파의전력에의해가스로부터플라즈마를생성하고, 유지대에유지된기판에소정의플라즈마처리를실시하는플라즈마처리장치로서, 전자파발생기로부터출력된전자파를전파시켜, 상기챔버내에투과시키는유전체창과, 상기유전체창을지지하는지지부재와, 상기유전체창에인접하는돌출부를갖고, 상기지지부재가배치된공간과플라즈마생성공간을구획하는구획부재와, 상기돌출부에의해상기플라즈마생성공간에노출되지않도록, 상기구획부재와상기유전체창의사이에배치되는도전성부재를갖는플라즈마처리장치가제공된다.
Abstract translation: 本发明通过抑制电磁波的电波来抑制室内异常放电的发生。 等离子体处理装置将气体供应到室中，通过电磁波的动力从气体产生等离子体，并对保持器上的基板进行预定的等离子体处理。 等离子体处理装置包括：电介质窗，其扩展从电磁发生器输出的电磁波，以将电磁波传输到室中; 支撑构件，其支撑介电窗口; 分隔构件，其具有与所述电介质窗口相邻的突出部分并且分隔所述支撑构件设置的空间和等离子体产生空间; 以及导电构件，其设置在所述分隔构件和所述电介质窗口之间，以避免通过所述突出部暴露于所述等离子体产生空间。
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公开(公告)号：KR1020150063036A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：KR1020157005540
申请日：2013-09-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01J37/32 , C23C16/511 , H01L21/3213 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3222 , C23C16/511 , H01J37/32238 , H01J37/32715 , H01J2237/334 , H01L21/32137 , H01Q13/10 , H01Q21/064 , H01Q21/20 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: 이안테나는, 유전체창(16)과, 유전체창(16)의한쪽면에마련된슬롯판(20)을구비하고있다. 슬롯판(20)은, 2개의슬롯으로이루어지는슬롯쌍을복수개갖는다. 복수개의슬롯쌍은, 슬롯판(20)의중심위치를중심으로하여동심원형상으로배치되어있다. 각슬롯쌍은, 슬롯판(20)의중심위치로부터각 슬롯쌍을향해서연장된축선이겹치지않는위치에마련되어있다.
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公开(公告)号：KR1020140061558A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：KR1020147012364
申请日：2012-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32238
Abstract: 플라즈마 처리 장치용 이 유전체창은, 마이크로파를 플라즈마원으로 하는 플라즈마 처리 장치에 제공되고, 유전체창은 원판형이며, 마이크로파의 전파를 허용한다. 플라즈마 처리 장치용 유전체창은, 유전체창이 플라즈마 처리 장치에 제공될 때에 플라즈마가 생성되는 하면에 제공되며, 하면측에 개구를 갖고, 플라즈마 처리 장치용 유전체창의 판두께 방향으로 패인 오목부를 갖는다. 오목부는, 판두께 방향에 수직인 방향으로 연장되는 저면; 저면의 둘레 가장자리로부터 오목부의 개구측을 향하여 판두께 방향으로 연장되는 측면; 및 측면의 개구측의 둘레 가장자리로부터 오목부의 개구측을 향하여 판두께 방향에 대하여 경사져 연장되는 경사면을 갖는다.
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公开(公告)号：KR101420078B1
公开(公告)日：2014-07-17
申请号：KR1020147012364
申请日：2012-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32238
Abstract: 플라즈마 처리 장치용 이 유전체창은, 마이크로파를 플라즈마원으로 하는 플라즈마 처리 장치에 제공되고, 유전체창은 원판형이며, 마이크로파의 전파를 허용한다. 플라즈마 처리 장치용 유전체창은, 유전체창이 플라즈마 처리 장치에 제공될 때에 플라즈마가 생성되는 하면에 제공되며, 하면측에 개구를 갖고, 플라즈마 처리 장치용 유전체창의 판두께 방향으로 패인 오목부를 갖는다. 오목부는, 판두께 방향에 수직인 방향으로 연장되는 저면; 저면의 둘레 가장자리로부터 오목부의 개구측을 향하여 판두께 방향으로 연장되는 측면; 및 측면의 개구측의 둘레 가장자리로부터 오목부의 개구측을 향하여 판두께 방향에 대하여 경사져 연장되는 경사면을 갖는다.
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