公开(公告)号：KR100760893B1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：KR1020067005750

申请日：2005-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 간노이타루 ,  히로타유사쿠 ,  세키구치겐지 ,  나가야스히로시 ,  시모세쇼우이치

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B01F3/04049 ,  B05B7/0433 ,  B08B3/02 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 가스와 액체를 내부에서 혼합하고, 액적을 가스와 함께 분사하여 기판을 세정하는 기판 세정용 2 유체 노즐에서, 액적의 입자 지름과 속도를 균일화시키는 것을 목적으로 한다.
기판 세정용 2 유체 노즐에서, 가스를 공급하는 가스 공급로와, 액체를 공급하는 액체 공급로와, 내부에서 형성한 액적을 도출하는 도출로를 구비하고, 상기 도출로의 선단에 액적을 외부에 분사하기 위한 분사구를 형성하며, 상기 분사구의 단면적(Sb)을 상기 도출로의 단면적(Sa)보다 작게 형성하면서, 상기 가스 공급로의 출구의 단면적(Sc)을 상기 도출로의 단면적(Sa)보다 작게 형성하였다.

公开(公告)号：KR1020060087580A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：KR1020067005750

申请日：2005-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 간노이타루 ,  히로타유사쿠 ,  세키구치겐지 ,  나가야스히로시 ,  시모세쇼우이치

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B01F3/04049 ,  B05B7/0433 ,  B08B3/02 ,  Y10S134/902

Abstract: A two-fluid nozzle for cleaning substrate adapted to mix gas and liquid in the interior and spout the liquid drops together with the gas so as to clean substrates. It is intended, in this nozzle, to make uniform the particle sizes of the liquid strops and the speed. A two-fluid nozzle for cleaning substrate comprises a gas supply passage for supplying gas, a liquid supply passage for supplying liquid, and a lead-out passage for leading out the liquid drops formed in the interior, wherein the front end of the lead-out passage is formed with a spout port for spouting the liquid drops outside, the cross-sectional area (Sb) of the spout port is made smaller than that (Sa) of the lead-out passage, and the cross-sectional area (Sc) of the exit of the gas supply passage is made smaller than that (Sa) of the lead-out passage.

Abstract translation: 一种用于清洁衬底的双流体喷嘴，其适于在内部混合气体和液体，并与气体一起喷出液滴，以便清洁衬底。 在该喷嘴中，旨在使液体静止物的粒度和速度均匀。 用于清洁衬底的双流体喷嘴包括用于供应气体的气体供应通道，用于供应液体的液体供应通道和用于引出形成在内部中的液滴的引出通道，其中， 出口通道形成有用于将液滴喷射到外部的喷口，喷口的横截面积（Sb）小于引出通道的（Sa），横截面积（Sc ）使得气体供给通道的出口小于引出通道的（Sa）。