公开(公告)号：KR1020150054657A

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：KR1020140146239

申请日：2014-10-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시미즈이페이 ,  미하라나오키 ,  오가타슌스케

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32651 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32853

Abstract: 피처리체에플라즈마처리를실행하기위한플라즈마처리장치가제공된다. 이플라즈마처리장치에서는, 처리용기의측벽에피처리체의반입출용의반송로가형성되어있다. 또한, 처리용기의측벽내면을따라, 실드부재가마련되어있다. 실드부재에는, 반송로에면하는개구가형성되어있다. 실드부재는하스텔로이제의피접촉면을갖고있다. 이플라즈마처리장치에는, 실드부재의개구의개폐용의셔터가마련되어있다. 셔터는하스텔로이제의접촉부를갖고있다. 셔터가실드부재의개구를폐쇄할때에는, 접촉부만이피접촉면에접한다.

Abstract translation: 提供了一种对待处理物体进行等离子体处理的等离子体处理装置。 在等离子体处理装置中，在加工容器的侧壁上形成有用于进出加工对象物的输送路径。 另外，沿着处理容器的内表面设置有屏蔽构件。 在屏蔽部件上形成面向传送路径的开口。 屏蔽构件具有由哈氏合金材料制成的待接触表面。 在等离子体处理装置中设置有用于打开和关闭屏蔽构件的开口的快门。 闸板具有哈氏合金材料的接触部分。 当快门关闭屏蔽构件的开口时，只有接触部分接触要接触的表面。