公开(公告)号：KR100337666B1

公开(公告)日：2002-10-04

申请号：KR1019970026198

申请日：1997-06-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  노무라마사후미 ,  쓰노다가즈아키

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판의 처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
공급노즐 내부의 액체 저장부에 공기가 쌓일 우려가 없는 처리장치 및 처리방법을 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
현상처리장치에서는, 기판(S)을 수납하는 처리부와, 그 처리부에 수납된 기판(S)의 위쪽에 배치되는 처리액의 공급노즐을 구비하고, 그 공급노즐의 내부에는 처리액의 액체 저장부가 형성되고, 공급노즐에는 이 액체 저장부내에 처리액을 공급하는 공급로가 접속되고, 공급노즐의 아래면에는 이 액체 저장부 내의 처리액을 토출하기 위한 복수의 토출구멍이 뚫어설치되어 있는 처리장치에 있어서, 상기 액체 저장부의 윗면을 1 또는 2 이상의 경사면으로 구성함과 동시에, 그 경사면의 높은 곳에 배기구멍을 설치하고 있다.
4. 발명의 중요한 용도
LCD기판이나 반도체 웨이퍼와 같은 기판의 현상처리 등을 하는데 이용됨.

公开(公告)号：KR1019980006022A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019970026198

申请日：1997-06-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  노무라마사후미 ,  쓰노다가즈아키

IPC: H01L21/68