기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 그리고 기판 반송 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
    1.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 그리고 기판 반송 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 审中-实审
    基板处理设备基板传输方法和计算机可读记录介质存储基板传输程序

    公开(公告)号:KR1020170027304A

    公开(公告)日:2017-03-09

    申请号:KR1020160111680

    申请日:2016-08-31

    CPC classification number: H01L21/67265 H01L21/67781

    Abstract: 기판처리장치의스루풋을향상시키는것이다. 본발명에서는캐리어(C)에수용되어있는기판(웨이퍼(W))의수용상태에기초하여제 1 기판반송부(29) 및제 2 기판반송부(30)를이용하여상기캐리어(C)와의사이에서상기기판(웨이퍼(W))을반송하는기판처리장치(1) 및기판반송방법그리고기판반송프로그램에있어서, 상기기판(웨이퍼(W))의수용상태로부터, 상기제 1 기판반송부(29)와상기제 2 기판반송부(30)를동시에구동하여상기캐리어(C)로부터상기제 1 기판반송부(29)와상기제 2 기판반송부(30)를동시에이용하여상기기판(웨이퍼(W))을반출하는경우와, 상기제 2 기판반송부(30)만을구동하여상기캐리어(C)로부터상기제 2 기판반송부(30)만을이용하여상기기판(웨이퍼(W))을반출하는경우를선택한다.

    Abstract translation: 基板处理装置包括基板处理装置,基板容纳状态检测装置,包括从载体卸载基板的第一基板输送副装置和卸载基板的第二基板输送副装置的基板输送装置 来自载体的基板,包括基于基板容纳状态检测装置的检测结果来控制第一和第二子输送子装置的处理电路的控制装置。 控制装置的处理电路根据基板容纳状态检测装置的结果,确定控制装置的处理电路同时驱动第一和第二衬底输送子装置的处理之间的选择,使得 所述第一和第二衬底输送子装置同时从所述载体卸载所述衬底,以及所述控制装置的所述处理电路仅驱动所述第二衬底输送子装置的处理,使得仅所述第二衬底输送子装置 从载体上卸下底物。

    액처리 장치
    2.
    发明公开
    액처리 장치 审中-实审
    液体加工设备

    公开(公告)号:KR1020170015162A

    公开(公告)日:2017-02-08

    申请号:KR1020160091917

    申请日:2016-07-20

    CPC classification number: B08B13/00 H01L21/67017 H01L21/67028 H01L21/6708

    Abstract: 본발명은복수의액처리부에서의압력변동을억제하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 복수의액처리부와, 복수의개별배기로와, 공통배기로와, 제1 외기도입부와, 제1 조정밸브와, 제2 외기도입부와, 제2 조정밸브를구비한다. 복수의액처리부는, 피처리체를액처리한다. 복수의개별배기로는, 액처리부내부로부터의배기가흐른다. 공통배기로는, 복수의개별배기로로부터의배기가흐른다. 제1 외기도입부는, 공통배기로에있어서개별배기로가접속되는복수의접속부위보다최상류측에형성되어외기를도입한다. 제1 조정밸브는, 제1 외기도입부에설치되어외기의유량을조정한다. 제2 외기도입부는, 공통배기로에있어서복수의접속부위중 최상류에위치하는접속부위보다하류측에형성되어외기를도입한다. 제2 조정밸브는, 제2 외기도입부에설치되어외기의유량을조정한다.

    Abstract translation: 液体处理装置包括多个液体处理单元,多个单独的排气路径,公共排气路径,第一外部空气进入部分,第一调节阀,第二外部空气进入部分和第二调节阀。 液体处理单元对加工对象物进行液体处理。 来自液体处理单元的内部的废气在各个排气路径中流动。 来自各个排气通道的废气在公共排气路径中流动。 第一外部空气进入部分形成在最上游侧以引入外部空气。 第一调节阀设置在第一外部空气吸入部。 第二外部空气进入部分形成在公共排气路径从连接处的下游侧。 第二调节阀设置在第二外部空气吸入部。

Patent Agency Ranking