기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
    1.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号:KR1020160008985A

    公开(公告)日:2016-01-25

    申请号:KR1020150099946

    申请日:2015-07-14

    CPC classification number: H01L21/67253 H01L21/67051

    Abstract: 본발명은챔버의내압을적정하게유지하는것을목적으로한다. 실시형태에따른기판처리장치는, 챔버와, 급기부와, 배기부와, 조정기구와, 측정부와, 제어부를구비한다. 챔버는처리대상이되는기판을수용한다. 급기부는챔버내에기체를공급한다. 배기부는챔버내를배기한다. 조정기구는배기부로부터배기되는배기량을조정한다. 측정부는챔버의내압을측정한다. 제어부는기판처리의내용을나타내는레시피정보에따라일련의기판처리를실행시킨다. 또한, 제어부는측정부의측정결과에기초하여챔버의내압을규정범위내로유지하도록조정기구의개방도를제어하는피드백제어를행하고, 챔버의내압을규정범위외로변화시키는것이예상되는소정의이벤트가발생하는경우에, 피드백제어를대신하여미리규정된제어값에기초하여조정기구의개방도를제어하는비(非)피드백제어를행한다.

    Abstract translation: 本发明是适当地保持室的内部压力。 根据实施例的基板处理装置包括:室; 供应单位 排放单元; 调整机制; 测量单元; 和控制单元。 该室容纳作为待处理物体的基板。 供应单元将气体供应到室中。 排放单元从腔室排出气体。 调节机构调节从排出单元排出的气体量。 测量单元测量腔室的内部压力。 控制单元根据表示衬底处理的内容的配方信息执行一系列衬底处理。 此外,控制单元进行反馈控制,以根据测量单元的测量结果来控制调节机构的开度以将室内压保持在特定范围内,并执行非反馈 控制以当期望将室内的内部压力改变到特定范围之外的预定事件发生时,基于预定控制值而不是反馈控制来调节调节机构的打开程度。

    기판 처리 장치
    2.
    发明公开
    기판 처리 장치 审中-实审
    基板加工设备

    公开(公告)号:KR1020160052337A

    公开(公告)日:2016-05-12

    申请号:KR1020150148621

    申请日:2015-10-26

    CPC classification number: H01L21/67017 B08B15/02 H01L21/67028

    Abstract: 기판에의파티클의부착을보다억제하는것이다. 실시형태에따른기판처리장치는, 반입반출실과반송실과전달실을구비한다. 반입반출실은캐리어로부터기판이반입반출된다. 반송실은, 기판에대하여정해진처리가실시되는기판처리실로의기판의반송로가형성된다. 전달실은, 반입반출실및 반송실의사이에배치되고, 반입반출실및 반송실간의기판의전달에이용된다. 또한, 전달실의내압은반입반출실의내압및 반송실의내압보다높다.

    Abstract translation: 本发明是进一步防止颗粒附着在基材上。 根据实施例的基板处理装置包括入室/出室,运输室和转移室。 在进/出室中,将基板从载体中取出。 在运送室中,将基板的输送路径形成到进行规定处理的基板处理室。 转移室设置在进/出室和运输室之间,用于在取出室和运输室之间转移基板。 此外,转移室的内部压力高于进出室的内部压力和运输室的内部压力。

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