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公开(公告)号：KR102009917B1
公开(公告)日：2019-08-12
申请号：KR1020180101255
申请日：2018-08-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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公开(公告)号：KR101359804B1
公开(公告)日：2014-02-07
申请号：KR1020080129320
申请日：2008-12-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/67115
Abstract: 본 발명은 레지스트 패턴 표면을 평활화하는 스무딩 처리에 의해 발생한 용제 증기의 분위기 외부로의 누설을 방지하고, 스무딩 처리 유닛의 도포·현상 처리 시스템에의 통합을 용이하게 하는 것을 과제로 한다.
도포·현상 처리 블록(20)과, 스무딩 처리 블록(50)과, 이들 블록의 상방으로부터 하방을 향하여 공기의 흐름을 형성하는 기류 형성 수단(60)과, 기류 형성 수단을 제어하는 컨트롤러(100)를 구비한다. 컨트롤러는, 도포·현상 처리 블록 내의 압력을 검출하는 압력 센서(65a) 및 스무딩 처리 블록 내의 압력을 검출하는 압력 센서(65b)로부터의 검출 신호에 기초하여, 도포·현상 처리 블록으로의 통기로(63a)에 설치되는 유량 조정 밸브(64a)와, 스무딩 처리 블록으로의 통기로(63b)에 설치되는 유량 조정 밸브(64b)를 제어함으로써, 스무딩 처리 블록 내의 압력이 도포·현상 처리 블록 내의 압력보다 낮아지도록 한다.-
公开(公告)号：KR1020160051622A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：KR1020150149399
申请日：2015-10-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/6715
Abstract: 배기전환시에있어서의액처리부의압력변동을억제하는것. 실시형태에따른기판액처리장치는, 액처리부와, 배기관과, 복수의개별배기관과, 배기전환부를구비한다. 액처리부는복수종류의처리액을이용하여기판을처리한다. 배기관은, 액처리부에접속되고, 액처리부로부터의배기가흐른다. 복수의개별배기관은, 복수종류의처리액중 적어도 1 개에대응하는배기관이다. 또한, 배기전환부는, 배기도입부와, 복수의전환기구를구비한다. 배기도입부에는, 배기관으로부터의배기가도입된다. 복수의전환기구는, 개별배기관마다마련되고, 배기도입부에연통하는배기취입구와, 개별배기관에연통하는유출구와, 외기를취입하는외기취입구와, 배기취입구, 유출구및 외기취입구의연통상태를배기취입구와유출구가연통한상태또는외기취입구와유출구가연통한상태로전환하는밸브체를가진다.
Abstract translation: 可以抑制在排气切换操作期间的液体处理单元的压力变化。 根据实施例，基板液体处理装置包括液体处理单元，排气管，多个排气管和排气切换单元。 液体处理单元被配置为用多种处理液处理基板。 排气管连接到液体处理单元，并且被配置为允许来自液体处理单元的废气在其中流动。 多个单独的排气管对应于多种处理液中的至少一种。 排气切换单元包括排气入口室和多个切换机构。 排气入口室具有从其中引入的排气管的排气。 为排气管分别设置有多个切换机构，每个切换机构包括与排气入口室连通的排气吸入口，与各个排气管相应的一个连通的出口开口，用于 引入外部空气的阀体，以及构成为在排气吸入口与出口开口连通的状态和外部空气的状态之间切换排气吸入口，出口开口和外部空气吸入口的连通状态的阀体 空气吸入口与出口开口连通。
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公开(公告)号：KR1020110037854A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：KR1020100093233
申请日：2010-09-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S414/135
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to increase the number of a substrate to be processed in parallel by forming a solution processing block in a plurality of solution processing unit. CONSTITUTION: In a substrate processing apparatus, an FOUP(Front-Opening Unified Pod)(7) receiving a wafer in a batch block(11). A transfer block(12) draws out the wafer from the FOUP to load it into a solution process unit(1). A transport block(13) transfers the wafer to a solution processing block. The solution processing block load from the solution processing block to processes it with the solution. A lifting apparatus(134) transfer the wafer between a first transfer shelf and a second transfer shelf.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过在多个解决方案处理单元中形成解决处理块来并行地增加待处理的基板的数量。 构成：在衬底处理装置中，在批块（11）中接收晶片的FOUP（前开口统一荚）（7）。 转移块（12）从FOUP中取出晶片以将其装载到溶液处理单元（1）中。 输送块（13）将晶片转移到溶液处理块。 解决方案处理块从解决方案处理块中处理它与解决方案。 升降装置（134）在第一转运架和第二转运架之间转移晶片。
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公开(公告)号：KR101894438B1
公开(公告)日：2018-09-03
申请号：KR1020150149399
申请日：2015-10-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/6715
Abstract: 배기전환시에있어서의액처리부의압력변동을억제하는것. 실시형태에따른기판액처리장치는, 액처리부와, 배기관과, 복수의개별배기관과, 배기전환부를구비한다. 액처리부는복수종류의처리액을이용하여기판을처리한다. 배기관은, 액처리부에접속되고, 액처리부로부터의배기가흐른다. 복수의개별배기관은, 복수종류의처리액중 적어도 1 개에대응하는배기관이다. 또한, 배기전환부는, 배기도입부와, 복수의전환기구를구비한다. 배기도입부에는, 배기관으로부터의배기가도입된다. 복수의전환기구는, 개별배기관마다마련되고, 배기도입부에연통하는배기취입구와, 개별배기관에연통하는유출구와, 외기를취입하는외기취입구와, 배기취입구, 유출구및 외기취입구의연통상태를배기취입구와유출구가연통한상태또는외기취입구와유출구가연통한상태로전환하는밸브체를가진다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101497054B1
公开(公告)日：2015-02-27
申请号：KR1020100108244
申请日：2010-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67196 , H01L21/67778
Abstract: 기판 처리 장치의 제조 코스트나 소비 에너지를 저감시키는 것이다. 본 발명에서는, 캐리어(3)에 수용된 기판(2)을 전달하는 기판 반출입부(기판 전달실(12))와, 상기 기판 반출입부와 기판 반입출구(37(39))를 개재하여 연통하는 기판 반송실(14(25))과, 상기 기판 반송실(14(25))을 따라 배치된 복수의 기판 처리실(15 ~ 24(26 ~ 35))과, 상기 기판 반송실(14(25))의 내부에 수용되고, 상기 기판 반출입부와 상기 기판 처리실(15 ~ 24(26 ~ 35))의 사이에서 상기 기판(2)을 반송하기 위한 기판 반송 장치(36(38))와, 상기 기판 반송실(14(25))을 따라 청정 공기를 흘리기 위한 청정 공기 유동 수단(41(42))을 가지는 것으로 했다.
Abstract translation: 由此降低了基板处理设备的制造成本和能量消耗。 （基板搬运室12），用于搬运收容在搬运器3内的基板2和基板搬运口34，搬运基板2通过基板搬入搬出部37（39） 沿着基板搬运室14（25）配置的多个基板处理室15〜24（26〜35），搬运室14（25） 以及容纳在基板处理室（15）内部的基板传送装置（36（38）），用于在基板装载/卸载部分和基板处理室之间传送基板（2） 以及用于沿着密封件14（25）流动清洁空气的清洁空气流动装置41（42）。
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公开(公告)号：KR101476870B1
公开(公告)日：2014-12-26
申请号：KR1020100093233
申请日：2010-09-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S414/135
Abstract: 본발명은, 문제가발생한경우에도, 장치전체를정지시키지않고기판처리를계속할수 있을가능성이높은기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 본발명에따른기판처리장치(1)는, 기판(W)을반송하기위한제1, 제2 기판반송기구(141a, 141b)와, 이기판반송기구(141a, 141b)의좌우양측에각각마련되며, 동일한처리가행해지는처리유닛의열 U1∼U4를구비한제1, 제2 처리블록(14a, 14b)을구비하고있다. 일측의처리유닛의열 U1, U3 및타측의처리유닛의열 U2, U4는각각공통화된처리유체공급계(3a, 3b)와접속되어있다. 그리고, 어떤기판반송기구(141a, 141b), 처리유체공급계(3a, 3b)에문제가발생하면, 건전한기판반송기구(141b, 141a), 처리유체공급계(3b, 3a)가담당하는처리유닛의열 U1∼U4에서기판(W)을처리한다.
Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，即使发生问题，也能够在不停止装置整体的情况下继续基板处理。 根据本发明的基板处理装置1中，分别在右侧和左侧的第一和第二衬底输送装置的侧面（141A，141B），并且是用于将基底板输送机构（141A，141B）（W） 第一和第二处理块14a和14b具有相同处理的处理单元U1至U4。 的其他U2的一侧，U3和热的处理单元，所述处理单元的热U1，U4与过程流体供给系统（3A，3B）中共同使用的分别连接。 此外，任何基板搬送机构（141A，141B）中，如果与所述处理流体供给系统的一个问题（3A，3B）时，音板输送机构（141B，141A），所述处理流体供应系统（图3b，3a）的接合处理单元 衬底W在行U1至U4中被处理。
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公开(公告)号：KR101176242B1
公开(公告)日：2012-08-28
申请号：KR1020070048724
申请日：2007-05-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G03D3/02 , Y10T137/3127
Abstract: 처리액저장 용기 (1)과 리저버 탱크 (5)와 접속하는 제1의 처리액공급 관로에 액압센서 (10)과 제1의 개폐밸브 (V1)을 개설해 처리액저장 용기와 가압 수단인 N2가스 공급원 (3)을 접속하는 주가압 관로 (2)에 전공레귤레이터 (20)을 설치하고, 리저버 탱크와 N2가스 공급원을 접속하는 보조 가압 관로 (9)에, 가압용 개폐밸브 (V3)을 개설한다. 액압센서에 의해 검지된 액압의 신호를 받아 상기 검지 신호에 근거해 전공레귤레이터의 가압측 압력을 조정해 액압이 일정하게 되도록 제어 함과 동시에, 조정하는 압력값과 액압센서로 검지되는 압력값의 압력차이로부터 처리액없음을 판정하고 가압용 개폐밸브와 제1의 개폐밸브 (V1)을 변경 제어하는 제어부 (30)을 설치하는 처리액을 액압 일정하게 공급해 처리 정밀도의 향상을 도모하고 단일의 처리액저장 용기의 교환을 실시할 수가 있어 처리액저장 용기가 비워져 있어도 처리를 멈추는 경우 없이 지속하여 처리액에 의한 연속 처리를 실시할 수 있도록 하는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020090066248A
公开(公告)日：2009-06-23
申请号：KR1020080129320
申请日：2008-12-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/67115 , G03F7/70975 , G03F7/70991
Abstract: A substrate processing apparatus is provided to integrate easily a smoothing processing unit into a coating/developing processing system and to improve reliability thereof by preventing leakage of atmosphere of solvent steam generated within a smoothing processing block to an inside of an input/output block. A substrate processing apparatus includes a coating/developing processing block(20), an input/output block(10), an interface block(30), a smoothing processing block(50), an air current formation unit, and a control unit. A plurality of processing units are arranged in the coating/developing processing block in order to perform a coating/developing process. The input/output block transfers an unprocessed substrate from a cassette(1) for storing a plurality of substrates to the coating/developing processing block. The input/output block transfers the processed substrate to the cassette. The interface block transfers the substrate between the coating/developing processing block and an exposure unit(40). A resist pattern is formed on the smoothing processing block. A smoothing processing unit(51) is arranged in the smoothing processing block. The smoothing processing unit smoothes a surface of the resist pattern by supplying the solvent steam of the resist to the surface of the resist pattern of the developed substrate after an exposure process. The air current formation unit forms the air current from a top direction to a bottom direction of the coating/developing processing block, the input/output block, the interface block, and the smoothing processing block. The control unit controls the air current formation unit.
Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，用于将平滑处理单元容易地集成到涂覆/显影处理系统中，并且通过防止在平滑处理块内产生的溶剂蒸汽的气氛泄漏到输入/输出块的内部来提高其可靠性。 基板处理装置包括涂覆/显影处理块（20），输入/输出块（10），接口块（30），平滑处理块（50），气流形成单元和控制单元。 为了进行涂布/显影处理，在涂布/显影处理块中设置多个处理单元。 输入/输出块将未处理的基板从用于将多个基板存储到涂覆/显影处理块的盒（1）中。 输入/输出块将已处理的基板传送到盒式磁带。 接口块在涂覆/显影处理块和曝光单元（40）之间传送衬底。 在平滑处理块上形成抗蚀剂图案。 平滑处理单元（51）布置在平滑处理块中。 平滑处理单元通过在曝光处理之后将抗蚀剂的溶剂蒸汽供给到显影基板的抗蚀剂图案的表面，来平滑抗蚀剂图案的表面。 气流形成单元从涂覆/显影处理块，输入/输出块，接口块和平滑处理块的顶部方向到底部方向形成气流。 控制单元控制气流形成单元。
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公开(公告)号：KR1020030080196A
公开(公告)日：2003-10-11
申请号：KR1020030010986
申请日：2003-02-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/16
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/6715
Abstract: 피처리기판에 도포액을 토출함과 동시에 피처리기판을 회전시켜, 도포액을 피처리기판의 지름방향 바깥쪽으로 전개시켜 도포막을 형성하는 도포처리방법은, 실제로 도포액 토출노즐로부터의 도포액의 토출이 개시된 것을 검출하는 공정과, 그 검출신호에 기초하여, 도포액 토출노즐로부터 도포액을 토출시키기 위한 펌프의 구동타이밍, 도포액 토출노즐에 도포액을 공급하는 배관에 설치된 밸브의 동작타이밍, 및 피처리기판의 회전개시 또는 정지타이밍의 적어도 하나를 제어하는 공정을 구비한다.
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