公开(公告)号：KR102021171B1

公开(公告)日：2019-09-11

申请号：KR1020160100829

申请日：2016-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네자와,마사토 ,  미우라,시게히로 ,  아카마,히로유키 ,  요시이,고지

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

公开(公告)号：KR1020170022878A

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：KR1020160100829

申请日：2016-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네자와,마사토 ,  미우라,시게히로 ,  아카마,히로유키 ,  요시이,고지

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: C23C16/46 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/52

Abstract: 고정밀도로온도제어를행하는것이가능한성막장치를제공하는것이다. 본실시형태의성막장치는, 처리용기내에설치된회전테이블의상면에기판을적재하고, 회전테이블을회전시키면서가열수단에의해기판을가열해서소정의성막처리를행하는성막장치로서, 상기가열수단의온도를측정하는접촉형의제1 온도측정수단과, 상기회전테이블에적재된기판의온도를측정하는비접촉형의제2 온도측정수단과, 상기제1 온도측정수단에의해측정되는제1 측정값및/또는상기제2 온도측정수단에의해측정되는제2 측정값에기초하여상기가열수단에공급하는전력을제어하는제어수단을구비하고, 상기제어수단은, 상기기판에대하여소정의성막처리를행하는경우와, 상기처리용기에대하여상기기판의반입또는반출을행하는경우에있어서, 상기가열수단에공급하는전력의제어방법을변경한다.

Abstract translation: 一种成膜装置，用于在旋转所述旋转台并通过加热部加热所述基板的同时在安装在处理容器的旋转台的上表面上的基板上进行预定的成膜处理，所述成膜装置包括：接触型第一温度测量 被配置为测量加热部件的温度的部件; 非接触型第二温度测量部件，被配置为测量所述基板的温度; 以及控制部，其基于由所述第一温度测量部测量的第一测量值和由所述第二温度测量部测量的第二测量值中的至少一个来控​​制供应到所述加热部的功率。 当在基板上执行预定的成膜处理时以及当将基板装载到处理容器中或从处理容器卸载时，控制部分改变用于控制功率的方法。