公开(公告)号：KR100263202B1

公开(公告)日：2000-09-01

申请号：KR1019920019084

申请日：1992-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이고우조 ,  아키야마다카시 ,  나카다쓰요시 ,  고이즈미마사토

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/285

Abstract: 진공처리실내의 소정온도까지 가열된 피처리체 유지부상에 유지되는 피처리체의 표면에 반응성 가스를 노즐로부터 공급하고, 피처리체 표면에서의 화학반응에 의해 소망하는 박막을 피처리체 표면에 형성하는 성막처리방법에 있어서, 진공처리실내에 최초의 피처리체를 반입하기 전에 진공처리실내에 반응가스를 노즐로부터 공급하여 진공처리실내의 분위기를 피처리체의 박막처리 분위기와 미리 동등하게 되도록 하는 공정과, 진공처리실내에 피처리체를 반입하는 공정과, 진공처리실내에 상기 반응성 가스를 노즐로부터 공급하여 피처리체 표면에 소망하는 박막을 형성하는 공정과, 성막처리가 끝난 피처리체를 진공처리실내에서 반출하는 공정으로 이루어지는 성막처리방법에 관한 것이다. 또, 진공처리실내에서 피처리체를 소정온도까지 가열한 상태에서 유지하는 피처리체 유지부와, 진공처리실내에 반응성 가스를 공급하는 노즐과를 구비하는 성막처리장치에 있어서, 공급노즐을 피처리체 유지부와 대응하는 위치에 배열설치함과 동시에 공급노즐에 냉각수단을 붙여 설치하고, 피처리체 유지부와 노즐과의 사이에 반응성 가스의 흐름을 차페하는 가스 흐름 제어부를 설치한 것을 특징으로 하는 성막처리장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1019930008956A

公开(公告)日：1993-05-22

申请号：KR1019920019084

申请日：1992-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이고우조 ,  아키야마다카시 ,  나카다쓰요시 ,  고이즈미마사토

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/285

Abstract: 진공처리실내의 소정온도까지 가열된 피처리제 유지부상에 유지되는 피처리체의 포면에 반응성가스를 노즐로부터 공급하고, 피처리체 표면에서 화학반응에 의해 소망하는 박막을 피처리체 표면에 형성하는 성막처리 방법에 있어서, 진공처리실내에 최초의 피처리체를 반입하기 전에 진공처리실내에 반응가스를 노즐로부터 공급하여 진공처리실내의 분위기를 피처리체의 박막처리 분위기와 미리 동등하게 되도록 하는 공정과, 진공처리실내에 피처리체를 반입하는 공정과, 진공처리실내에 상시 반응성가스를 노즐로부터 공급하여 피처리체 표면에 소망하는 박막을 형성하는 공정과, 성막처리가 끝난 피처리체를 진공처리실에서 반출하는 공정과, 로 이루어지는 성막처리 방법에 관한 것이다. 또, 진공처리실내에서 피처리체를 소정온도까지 가열한 상태에서 유지하는 피처리체 유지부와, 진공처리실내에 반응성가스를 공급하는 노즐과를 구비하는 성막처리장치에 있어서, 공급노즐을 피처리체 유지부와 대응하는 위치에 배열설치함과 동시에 공급노즐에 냉각수단을 붙여 설치하고, 피처리체 유지부와 노즐과의 사이에 반응성가스의 흐름을 차폐하는 가스흐름제어부와, 를 설치한 것을 특징으로 하는 성막처리장치에 관한 것이다.