公开(公告)号：KR1020090038817A

公开(公告)日：2009-04-21

申请号：KR1020080100593

申请日：2008-10-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토슈

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05C11/1002

Abstract: A process liquid supply unit, a liquid treating device, a process liquid supply method, and a storage medium are provided to successively treat an object to be treated without a standby time by preventing generation of a pulsation in a process liquid supplied to the object to be treated. A first supply part(10) circulates a process liquid, and supplies the process liquid to a process part(60). A second supply part(20) supplies a process liquid to the process part. A control part(50) controls a flow of the process liquid inside the first supply part and the second supply part. The first supply part includes a first sending unit(13) which sends a driving force to the process liquid. The second supply part includes a second sending unit(23) which sends a driving force to the process liquid. The control part stops a supply of the process liquid from the first supply part to the process part by controlling the second sending unit.

Abstract translation: 提供了处理液供给单元，液体处理装置，处理液供给方法和存储介质，以通过防止向供给到物体的处理液体中产生脉动而在待机时间内连续地处理待处理物体 被处理。 第一供应部件（10）循环处理液体，并且将处理液体供应到处理部件（60）。 第二供应部件（20）向处理部件供应处理液体。 控制部（50）控制第一供给部和第二供给部内的处理液的流动。 第一供应部件包括向处理液体发送驱动力的第一送出单元（13）。 第二供应部分包括向处理液体发送驱动力的第二送出单元（23）。 控制部通过控制第二发送单元来停止从第一供给部到处理部的供给液。

公开(公告)号：KR101308276B1

公开(公告)日：2013-09-13

申请号：KR1020080100593

申请日：2008-10-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토슈

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

Abstract: 본 발명은 처리부로부터 피처리체에 대해 공급되는 처리액에 맥동이 생기는 일이 없고, 대기 시간도 발생하는 일 없이 피처리체를 연속하여 처리하는 것을 목적으로 한다.
처리액 공급 유닛은 제1 공급부(10)와, 제2 공급부(20)와, 제1 공급부(10) 및 제2 공급부(20) 내의 처리액의 흐름을 제어하는 제어부(50)를 구비하고 있다. 제어부(50)는 처리부(60)에의 처리액의 공급을 제1 공급부(10)로부터 제2 공급부(20)로 변경할 경우에는, 제2 공급부(20) 내의 처리액이 압송 상태이고 제1 공급부(10) 내의 처리액도 압송 상태일 때에, 제1 공급부(10)로부터 처리부(60)에 처리액을 공급시키기 시작하도록 제1 압송 수단(13)을 제어하며, 그 후, 제1 공급부로부터의 처리부로의 처리액의 공급을 정지하도록 되어 있다.

公开(公告)号：KR101019456B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020060090543

申请日：2006-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토슈 ,  초우노야스히로 ,  토쿠노요시치카

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B01F3/08 ,  B01F15/0022 ,  B01F15/0408 ,  B01F2215/0096 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 복수의 원액 공급원으로부터 공급되는 원액을 조합조에서 조합함으로써, 소정 농도의 처리액을 생성하고, 이 처리액을 공급조에 저류하며, 이 공급조로부터 처리액 토출구에 처리액을 공급하는 처리 시스템에 있어서, 공급조 내의 처리액에 농도 변화가 생겼는지 여부를 판단하고, 공급조 내의 처리액에 농도 변화가 생겼다고 판단한 경우에, 조합조로부터 공급조에 처리액을 보충하거나 혹은 원액 공급원으로부터 공급조에 원액을 직접 보충하거나 하여, 처리액의 농도를 유지하는 것을 목적으로 한다.

公开(公告)号：KR1020070040296A

公开(公告)日：2007-04-16

申请号：KR1020060090543

申请日：2006-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토슈 ,  초우노야스히로 ,  토쿠노요시치카

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B01F3/08 ,  B01F15/0022 ,  B01F15/0408 ,  B01F2215/0096 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 복수의 원액 공급원으로부터 공급되는 원액을 조합조에서 조합함으로써, 소정 농도의 처리액을 생성하고, 이 처리액을 공급조에 저류하며, 이 공급조로부터 처리액 토출구에 처리액을 공급하는 처리 시스템에 있어서, 공급조 내의 처리액에 농도 변화가 생겼는지 여부를 판단하고, 공급조 내의 처리액에 농도 변화가 생겼다고 판단한 경우에, 조합조로부터 공급조에 처리액을 보충하거나 혹은 원액 공급원으로부터 원액을 직접 보충하거나 하여, 처리액의 농도를 유지하는 것을 목적으로 한다.