公开(公告)号：KR1020160052336A

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：KR1020150148531

申请日：2015-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와사키마사히데 ,  노자와도시히사 ,  야마시타고헤이

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/52 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 본발명은, 배치대의회전중심으로부터배치대의직경방향에있어서의피처리기판의막 두께의균일성을향상시키는것을목적으로한다. 개시하는성막장치는, 기판을배치하고, 축선(X)을중심으로회전하는배치대와, 제1 영역에있어서하면이배치대에대향하도록설치되고, 내부에제1 및제2 버퍼공간을갖는유닛(U)과, 제1 및제2 버퍼공간에공급되는전구체가스의유량을독립적으로제어하는유량제어기를구비한다. 유닛(U)의하면에는, 제1 버퍼공간으로연통되고, 제1 버퍼공간에공급된전구체가스를분사하는복수의분사구(16h)를포함하는내측분사부(161a)와, 제2 버퍼공간으로연통되고, 제2 버퍼공간에공급된전구체가스를분사하는복수의분사구(16h)를포함하는중간분사부(162a)가마련된다. 내측분사부(161a)에포함되는분사구(16h)는모두중간분사부(162a)에포함되는분사구(16h)보다도축선(X)에가까운위치에마련된다.

Abstract translation: 提供本发明用于提高从放置台的旋转中心沿着放置台的直径方向的被处理基板的膜厚的均匀性。 公开的成膜装置包括：放置台，其布置基板并围绕轴线（X）旋转; 单元（U），其安装成具有位于第一区域中的放置台的下侧并且具有内部的第一和第二缓冲空间; 以及流量控制器，其独立地控制供应到第一和第二缓冲空间的前体气体的流动。 单元（U）的下侧布置有：连接到第一缓冲空间的内部喷射单元（161a），并且包括喷射供应到第一缓冲空间的前体气体的多个喷射孔（16h） 和连接到第二缓冲空间的中间喷雾单元（162a），并且包括喷射供给到第二缓冲空间的前体气体的多个喷射孔（16h）。 包括在内部喷雾单元（161a）中的所有喷射孔（16h）布置在比包括在中间喷射单元（162a）中的喷射孔（16h）更靠近轴线（X）的位置。

公开(公告)号：KR101943691B1

公开(公告)日：2019-01-29

申请号：KR1020150148531

申请日：2015-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와사키마사히데 ,  노자와도시히사 ,  야마시타고헤이

IPC: C23C16/455