公开(公告)号：KR100497879B1

公开(公告)日：2005-09-08

申请号：KR1019980001864

申请日：1998-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가자마고이치 ,  코이즈미가쓰유키 ,  다구치치히로 ,  오노가쓰히코 ,  사카노신지

IPC: H05H1/34

Abstract: 플라즈마 에칭 장치(100)의 상부 전극(138)의 주연부를 커버하는 차폐 링(shield ring)(140)은 서로 분리가 가능하도록 조합된 내측 부재(142) 및 외측 부재(144)로 구성된다. 내측 부재(142)는 내열성이면서 내스퍼터성의 절연성 수지인 폴리이미드계 수지로 이루어진다. 내측 부재(142)는 그 외연부에 의해 외측 부재(144)에 지지된다. 외측 부재(144)는 착탈가능한 부착 나사(150)에 의해 상부 전극(138)의 외측벽에 설치된다.

公开(公告)号：KR1019980070700A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980001864

申请日：1998-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가자마고이치 ,  코이즈미가쓰유키 ,  다구치치히로 ,  오노가쓰히코 ,  사카노신지

IPC: H05H1/34

Abstract: 플라즈마 에칭 장치(100)의 상부 전극(138)의 주연부를 커버하는 차폐 링(shield ring)(140)은 서로 분리가 가능하도록 조합된 내측 부재(142) 및 외측 부재(144)로 구성된다. 내측 부재(142)는 내열성이면서 내스퍼터성의 절연성 수지인 폴리이미드계 수지로 이루어진다. 내측 부재(142)는 그 외연부에 의해 외측 부재(144)에 지지된다. 외측 부재(144)는 착탈가능한 부착 나사(150)에 의해 상부 전극(138)의 외측벽에 설치된다.

公开(公告)号：KR1019950020967A

公开(公告)日：1995-07-26

申请号：KR1019940035936

申请日：1994-12-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라사와마사시 ,  오노가쓰히코 ,  니시카와히로시 ,  쓰치야가즈오

IPC: H01L21/00

Abstract: 플라즈마 생성중에 열교환버스를 사용하여 서셉터에 의한 피처리기판의 냉각효율을 높이는 플라즈마 처리장치는, 서셉터의 상면의 둘레가장자리부에 개구하는 제1의 통로와, 이 제1의 통로를 통하여 서셉터와 피처리기판과의 사이에 형성되는 작은 틈에 열교환가스를 공급하는 제1의 가스공급원과, 제1의 통로를 개재하여 서셉터와 웨이퍼와의 사이에 형성되는 작은 틈 안을 배기하는 제1의 진공펌프와, 서셉터의 상면의 중앙부에 개구하는 제2의 통로와, 이 제2의 통로를 개재하여 서셉터와 웨이퍼와의 사이에 형성되는 작은 틈에 열교환가스를 공급하는 제2의 가스공급원과, 제2의 통로를 개재하여 서셉터와 웨이퍼의 사이에 형성되는 작은 틈 안을 배기하는 제2의 진공 펌프와, 제2의 가스공급수단 및 제2의 진공펌프에 의하여 제2의 통로내에 발생시키 는 배압이, 제1의 가스공급원 제1의 진공펌프에 의하여 제1의 통로내에 발생시키는 배압보다 낮아지도록, 제1 및 제2의 가스공급원 그리고 제1 및 제2의 진공펌프를 개별로 제어하는 제어수단을 가진다.

公开(公告)号：KR100313028B1

公开(公告)日：2002-03-21

申请号：KR1019940035936

申请日：1994-12-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라사와마사시 ,  오노가쓰히코 ,  니시카와히로시 ,  쓰치야가즈오

IPC: H01L21/00

Abstract: 플라즈마 생성중에 열교환가스를 사용하여 서셉터에 의한 피처리기판의 냉각효율을 높이는 플라즈마 처리장치는, 서셉터의 상면의 둘레가장자리부에 개구하는 제 1 통로와, 이 제 1 통로를 통하여 서셉터와 피처리기판과의 사이에 형성되는 작은 틈에 열교환가스를 공급하는 제 1 가스공급원과, 제 1 통로를 통하여 서셉터와 웨이퍼와의 사이에 형성되는 작은 틈 안을 배기하는 제 1 진공펌프와, 서셉터의 상면의 중앙부에 개구하는 제 2 통로와, 이 제 2 통하여 서셉터와 웨이퍼와의 사이에 형성되는 작은 틈에 열교환가스를 공급하는 제 2 가스공급원과, 제 2 통로를 통하여 서셉터와 웨이퍼의 사이에 형성되는 작은 틈 안을 배기하는 제 2 진공펌프와, 제 2 가스공급수단 및 제 2 진공펌프에 의하여 제 2 통로내에 발생시키는 배압이, 제 1 가스공급원 제 1 진 공펌프에 의하여 제 1 통로내에 발생시키는 배압보다 낮아지도록, 제 1 및 제 2 가스공급원 그리고 제 1 및 제 2 진공펌프를 개별로 제어하는 제어수단을 가진다.